蒸镀坩埚、用蒸镀坩埚在基板上蒸镀功能性材料的方法技术

本发明专利技术提供一种蒸镀坩埚、用蒸镀坩埚在基板上蒸镀功能性材料的方法，该蒸镀坩埚包括坩埚本体和坩埚帽，坩埚帽用于与坩埚本体盖合形成蒸镀腔；基板与坩埚帽相对设置，且基板面向坩埚帽的一侧表面设有多个成膜区；其中，坩埚帽上设有多个贯通坩埚帽的通孔，且多个通孔与基板上的至少一部分成膜区一一对应设置。本发明专利技术通过在坩埚帽上设置与至少一部分成膜区对应的多个通孔，使得功能性材料通过多个通孔制作在基板对应的成膜区内，从而无需使用掩膜板，能够降低生产成本。能够降低生产成本。能够降低生产成本。

Evaporation crucible and method of evaporating functional materials on substrate with evaporation crucible

【技术实现步骤摘要】
蒸镀坩埚、用蒸镀坩埚在基板上蒸镀功能性材料的方法


[0001]本专利技术涉及显示
，具体涉及一种蒸镀坩埚、用蒸镀坩埚在基板上蒸镀功能性材料的方法。

技术介绍

[0002]目前市场的上显示屏的制作方式非常多，其中有机发光二极管(Organic Light
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Emitting Diode，OLED)将是未来的主流技术，目前市场的OLED器件的制作方式主流有三种：蒸镀，喷墨打印，热转印技术，其中比较成熟且运用最广的是蒸镀方式，且已经量产，蒸镀坩埚及蒸发源是蒸镀的重要组成部分。
[0003]目前在使用坩埚蒸镀制作OLED的有机材料时，先将有机材料盛放于坩埚内，坩埚外部包裹有加热丝，该加热丝在通电时可对坩埚进行加热，盛放在坩埚内的有机材料在高温下蒸发或升华为气体，气体上升并通过位于坩埚上方的掩膜板(Mask)后蒸镀到OLED基板上，并在OLED基板上发生凝华，从而将有机材料蒸镀到OLED基板上。但是，一般掩膜板的造价都比较昂贵，掩膜板的使用势必造成显示屏的制作成本大幅增加。
[0004]因此，有必要提供一种技术方案以解决上述问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术提供一种蒸镀坩埚、用蒸镀坩埚在基板上蒸镀功能性材料的方法，能够解决现有的坩埚蒸镀方法生产成本高的技术问题。
[0006]为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：
[0007]本专利技术实施例提供一种蒸镀坩埚，所述蒸镀坩埚用于为基板蒸镀功能性材料，所述蒸镀坩埚包括坩埚本体和坩埚帽，所述坩埚帽用于与所述坩埚本体盖合形成蒸镀腔；
[0008]所述基板与所述坩埚帽相对设置，且所述基板面向所述坩埚帽的一侧表面设有多个成膜区；
[0009]其中，所述坩埚帽上设有多个贯通所述坩埚帽的通孔，且多个所述通孔与所述基板上的至少一部分成膜区一一对应设置。
[0010]可选的，在本专利技术的一些实施例中，所述基板面向所述坩埚帽的一侧表面设有多个像素孔，每个所述像素孔对应一个所述成膜区，所述像素孔包括第一像素孔、第二像素孔以及第三像素孔，所述基板与所述坩埚帽对位后，所述通孔与所述第一像素孔、所述第二像素孔以及所述第三像素孔中的一者一一对应设置。
[0011]可选的，在本专利技术的一些实施例中，所述通孔的形状与对应的所述像素孔的形状相同，且所述通孔的排布方式与对应的所述像素孔的排布方式一致。
[0012]可选的，在本专利技术的一些实施例中，所述通孔的面积与对应的所述像素孔的面积相同。
[0013]可选的，在本专利技术的一些实施例中，所述功能性材料为极性材料和非极性材料中的一者，所述坩埚帽为极性材料和非极性材料中的另一者。
[0014]可选的，在本专利技术的一些实施例中，所述功能性材料为有机发光材料，所述坩埚帽的材质为石墨。
[0015]可选的，在本专利技术的一些实施例中，当所述基板与所述蒸镀坩埚对位后，所述基板与所述坩埚帽之间的距离小于或等于0.5mm。
[0016]本专利技术实施例还提供一种用蒸镀坩埚在基板上蒸镀功能性材料的方法，所述基板面向所述蒸镀坩埚的一侧表面设有多个成膜区，所述方法包括以下步骤：
[0017]所述基板面向所述蒸镀坩埚的一侧表面设有多个成膜区，所述方法包括以下步骤：
[0018]提供蒸镀坩埚，所述蒸镀坩埚包括坩埚本体和坩埚帽，所述坩埚帽上设有多个贯通所述坩埚帽的通孔，将功能性材料加入所述坩埚本体内；
[0019]将所述坩埚帽与所述坩埚本体盖合，并将所述基板与所述坩埚帽对位，使所述坩埚帽上的多个通孔与所述基板上的至少一部分成膜区一一对应设置；
[0020]加热所述功能性材料，所述功能性材料蒸发或升华为气体，所述气体自所述坩埚本体内部穿过所述坩埚帽上的通孔在对应的所述成膜区冷凝形成薄膜。
[0021]可选的，在本专利技术的一些实施例中，所述基板面向所述蒸镀坩埚的一侧表面设有多个像素孔，每个所述像素孔对应一个所述成膜区，所述像素孔包括第一像素孔、第二像素孔以及第三像素孔，其中，所述将基板与所述坩埚帽对位的步骤包括：
[0022]将所述基板置于距所述坩埚帽的距离小于或等于0.5mm的位置，并且使所述坩埚帽上的通孔与所述第一像素孔、所述第二像素孔以及所述第三像素孔中的一者一一对应。
[0023]可选的，在本专利技术的一些实施例中，所述气体自所述坩埚本体内部穿过所述坩埚帽上的通孔在对应的所述成膜区冷凝形成薄膜的步骤包括：
[0024]所述气体自所述坩埚本体内部穿过所述坩埚帽上的通孔，在所述第一像素孔、所述第二像素孔以及所述第三像素孔中的与所述通孔正对的一者内冷凝形成薄膜。
[0025]本专利技术的有益效果为：本专利技术提供的蒸镀坩埚以及用蒸镀坩埚在基板上蒸镀功能性材料的方法，通过在坩埚帽上设置多个通孔，且多个通孔与基板上的至少一部分成膜区相对应，在基板上蒸镀功能性材料时，所述功能性材料蒸发或升华为气体，所述气体自所述坩埚本体内部穿过所述坩埚帽上的多个通孔，并在对应多个通孔的所述成膜区内冷凝形成薄膜，本专利技术蒸镀功能性材料的过程无需使用掩膜板，从而降低了生产成本。
附图说明
[0026]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0027]图1是本专利技术实施例提供的蒸镀坩埚的结构示意图；
[0028]图2是本专利技术实施例提供的蒸镀坩埚与基板对位后的结构示意图；
[0029]图3是本专利技术实施例提供的用蒸镀坩埚在基板上蒸镀功能性材料的方法流程图；
[0030]图4A
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图4D是本专利技术实施例提供的用蒸镀坩埚在基板上蒸镀功能性材料的制作过程示意图；
[0031]图5是本专利技术实施例提供的基板的结构示意图；
[0032]图6是本专利技术实施例提供的基板的像素孔的排布示意图；
[0033]图7是本专利技术实施例一提供的蒸镀坩埚与基板对位后的截面示意图；
[0034]图8是本专利技术实施例二提供的蒸镀坩埚与基板对位后的截面示意图；
[0035]图9是本专利技术实施例三提供的蒸镀坩埚与基板对位后的截面示意图；
[0036]图10是本专利技术实施例提供的有机发光材料蒸镀完成后的基板的结构示意图；
[0037]图11A
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图11B是本专利技术实施例提供的采用清洁装置对坩埚帽进行清洁的过程示意图。
具体实施方式
[0038]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限制本专利技术。在本发本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀坩埚，其特征在于，所述蒸镀坩埚用于为基板蒸镀功能性材料，所述蒸镀坩埚包括坩埚本体和坩埚帽，所述坩埚帽用于与所述坩埚本体盖合形成蒸镀腔；所述基板与所述坩埚帽相对设置，且所述基板面向所述坩埚帽的一侧表面设有多个成膜区；其中，所述坩埚帽上设有多个贯通所述坩埚帽的通孔，且多个所述通孔与所述基板上的至少一部分成膜区一一对应设置。2.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述基板面向所述坩埚帽的一侧表面设有多个像素孔，每个所述像素孔对应一个所述成膜区，所述像素孔包括第一像素孔、第二像素孔以及第三像素孔，所述基板与所述坩埚帽对位后，所述通孔与所述第一像素孔、所述第二像素孔以及所述第三像素孔中的一者一一对应设置。3.根据权利要求2所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述通孔的形状与对应的所述像素孔的形状相同，且所述通孔的排布方式与对应的所述像素孔的排布方式一致。4.根据权利要求3所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述通孔的面积与对应的所述像素孔的面积相同。5.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述功能性材料为极性材料和非极性材料中的一者，所述坩埚帽为极性材料和非极性材料中的另一者。6.根据权利要求5所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述功能性材料为有机发光材料，所述坩埚帽的材质为石墨。7.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，当所述基板与所述蒸镀坩埚对位后，所述基板与所述坩埚帽之间的距离小于或等于0.5mm。8.一种用蒸...

【专利技术属性】
技术研发人员：段廷原，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：