一种曝光机制造技术

本发明专利技术提供了一种曝光机，涉及曝光机领域，包括光源、前置光路模块、后置光路模块、掩模模块和加工平台模块，前置光路模块包括两级以上的反射组件，两级以上的反射组件中的其中一级反射组件为转动组件；转动组件包括绕预设空间轴线转动的反射镜；反射镜具有至少一个用于激光光路处理的反射面；在反射镜绕预设空间轴线转动的过程中，反射镜具有至少一个正确姿态，在正确姿态下，反射镜的其中一个反射面朝向预设方向；在反射镜处于正确姿态时，反射面朝向预设方向。该曝光机将前置光路模块中的其中一组反射组件替换为转动组件，以周期性转动的反射镜替换固定姿态的放射性，从而实现对连续光源进行周期性的光线截断控制功能。续光源进行周期性的光线截断控制功能。续光源进行周期性的光线截断控制功能。

An exposure machine

【技术实现步骤摘要】
一种曝光机


[0001]本专利技术涉及到曝光机领域，具体涉及到一种曝光机。

技术介绍

[0002]曝光机是指通过开启灯光发出激光，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的机器设备，曝光机一般应用于高精度加工领域中，如芯片加工领域，需要利用曝光机将芯片电路转印至晶圆片上。由于国外技术的封锁，我国在曝光机的加工制造领域还处于落后地位，曝光机的加工制作主要涉及到多方面的难题，如激光源的制造、振动消除等。针对所遇到的技术问题，现有技术提出了较多的解决方法。如在激光源的制作方面，申请公布号为CN111610697A的文件公开了一种DI光刻机的LED光学系统，解决了半导体激光器在某些波段功率不足等问题；申请公布号为CN110376851A的文件公开了一种曝光机的光源，采用螺旋状的方式对LED的光路进行修正，得到光束纯正无杂光的光源。又如在激光光路的处理方面，根据激光的特性，可采用反射镜组的方式对光路进行处理，也可以采用透镜组的方式对光路进行处理。
[0003]图1为现有技术下的一种曝光机结构示意图简图，激光器1的出射激光经过反射镜3汇聚至遮罩4后，再通过反射的方式聚焦至晶圆片5上实现光刻。由于遮罩或晶圆片需要移动，以适配激光打击位置，有别于脉冲光源，当激光器针采用连续光源时，需要一机构对连续光源的光线进行周期性的截断，以适配遮罩或晶圆片的动作。

技术实现思路

[0004]为了对连续光源进行周期性的光线截断控制，本专利技术提供了一种曝光机，将前置光路模块中的其中一组反射组件替换为转动组件，以周期性转动的反射镜替换固定姿态的放射性，从而实现对连续光源进行周期性的光线截断控制功能。
[0005]相应的，本专利技术提供了一种曝光机，包括光源、前置光路模块、后置光路模块、掩模模块和加工平台模块，所述光源发出的加工激光依次经所述前置光路模块、所述掩模模块和所述后置光路模块处理后到达所述加工平台模块，所述前置光路模块包括两级以上的反射组件，所述两级以上的反射组件中的其中一级反射组件为转动组件；所述转动组件包括绕预设空间轴线转动的反射镜；所述反射镜具有至少一个用于激光光路处理的反射面；在所述反射镜绕所述预设空间轴线转动的过程中，所述反射镜具有至少一个正确姿态，在所述正确姿态下，所述反射镜的其中一个反射面朝向预设方向；在所述反射镜处于正确姿态时，所述反射面朝向预设方向。
[0006]可选的实施方式，所述转动组件还包括支撑模块；所述支撑模块包括悬浮单元、转轴单元和悬浮控制单元；所述悬浮单元包括棱柱杆和固定圆套，所述棱柱杆具有预设数量的棱柱侧面，每
一个所述棱柱侧面上嵌入设置有悬浮永磁体，所述固定圆套包围在所述棱柱杆外；所述固定圆套的轴线与所述预设空间轴线共线；所述转轴单元包括配合滑套，所述配合滑套设在所述固定圆套外并与所述固定圆套转动配合，所述配合滑套的一端与所述反射镜连接固定；所述悬浮控制单元包括控制环，所述控制环的截面内轮廓形状为与所述预设数量一致的正多边形，且所述控制环具有与所述预设数量一致的内壁面，每一个所述内壁面上设置有悬浮电磁体；所述控制环包围在所述配合滑套外，且基于所述悬浮电磁体与所述悬浮永磁体的配合，所述棱柱杆、所述固定圆套和所述配合滑套悬浮在所述配合滑套内。
[0007]可选的实施方式，所述支撑模块的数量为两组，两组支撑模块关于所述反射镜对称设置。
[0008]可选的实施方式，所述支撑模块还包括轴向限位单元；所述轴向限位单元包括固定环和从动环，所述固定环和从动环沿所述预设空间轴线方向正对设置，且所述固定环与所述控制环相对位置固定，所述从动环与所述配合滑套相对位置固定；所述固定环上设置有轴向电磁体，所述从动环上设置有轴向永磁体；基于每一组支撑模块中的轴向电磁体和轴向永磁体的磁场配合，所述反射镜在所述预设空间轴线上的位置保持稳定。
[0009]可选的实施方式，所述转动组件还包括配重模块；所述配重模块设置在所述反射镜上并使所述反射镜和所述配重模块的整体重心位于所述预设空间轴线上。
[0010]可选的实施方式，所述转动组件还包括惯性模块；所述惯性模块包括一惯性圆盘，所述惯性圆盘与所述反射镜连接固定，所述惯性圆盘的轴线与所述预设空间轴线共线。
[0011]可选的实施方式，所述转动组件还包括驱动模块；所述驱动模块包括接触驱动单元和非接触驱动单元；基于所述接触驱动单元驱动所述惯性转盘至预设转速，基于所述非接触驱动单元驱动所述惯性转盘保持所述预设转速。
[0012]可选的实施方式，所述圆盘外周具有啮合齿，所述啮合齿用于供所述接触驱动单元接触驱动。
[0013]可选的实施方式，于每一个所述啮合齿同一侧方向的侧壁上嵌入设置一个驱动永磁体；所述非接触驱动单元包括驱动电磁体，基于所述驱动电磁体和所述驱动永磁体配合，所述非接触驱动单元驱动所述惯性转盘保持所述预设转速。
[0014]本专利技术提供的曝光机的工作原理为：反射镜的位置限定是通过纵向和轴向两个方向实现的，其中，纵向限位是利用支撑模块中的悬浮单元、转轴单元和悬浮控制单元实现的，悬浮控制单元通过多方向的磁场控制保持悬浮单元的悬浮，转轴单元以悬浮单元为定轴进行回转，可避免震动的传递和干扰；轴向定位是通过轴向限位单元实现的，利用反射镜两侧的轴向限位单元的磁场联合控制其反射镜的轴向位置，以避免震动的传递和干扰；反
射镜的驱动以及转速维持是通过驱动模块实现的，驱动模块中包含了两部分驱动结构，其中，接触驱动单元以直接接触力传递的方式驱动反射镜达到预设的转速，然后通过非接触驱动单元以非接触的形式补充反射镜的损失能量，在转速维持阶段，驱动力的来源为非接触驱动单元，该实施方式避免了震动的传递和干扰；该曝光机将前置光路模块中的其中一组反射组件替换为转动组件，以周期性转动的反射镜替换固定姿态的放射性，从而实现对连续光源进行周期性的光线截断控制功能；在反射镜的转动过程中，每一个反射面根据转速周期性的依次处于正确状态上发挥作用，在单位时间内，每一个反射面所处理的光路（能量）减少，对反射镜的材料制作要求大大降低，以及对反射镜的转速要求大大降低，有利于降低曝光机的整体制造成本。
附图说明
[0015]图1为现有技术下的一种曝光机结构示意图简图。
[0016]图2为本专利技术实施例的曝光机剖面结构示意图简图。
[0017]图3为本专利技术实施例的曝光机A
‑
A
’
截面剖面结构示意图。
[0018]图4为本专利技术实施例的反射镜三维结构示意图。
[0019]图5为本专利技术实施例的驱动模块实施原理图。
具体实施方式
[0020]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0021]需要说明的是，本专利技术所提供的曝光机实施例，首要解决的技术问本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光机，包括光源、前置光路模块、后置光路模块、掩模模块和加工平台模块，所述光源发出的加工激光依次经所述前置光路模块、所述掩模模块和所述后置光路模块处理后到达所述加工平台模块，其特征在于，所述前置光路模块包括两级以上的反射组件，所述两级以上的反射组件中的其中一级反射组件为转动组件；所述转动组件包括绕预设空间轴线转动的反射镜；所述反射镜具有至少一个用于激光光路处理的反射面；在所述反射镜绕所述预设空间轴线转动的过程中，所述反射镜具有至少一个正确姿态，在所述正确姿态下，所述反射镜的其中一个反射面朝向预设方向；在所述反射镜处于正确姿态时，所述反射面朝向预设方向。2.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述转动组件还包括支撑模块；所述支撑模块包括悬浮单元、转轴单元和悬浮控制单元；所述悬浮单元包括棱柱杆和固定圆套，所述棱柱杆具有预设数量的棱柱侧面，每一个所述棱柱侧面上嵌入设置有悬浮永磁体，所述固定圆套包围在所述棱柱杆外；所述固定圆套的轴线与所述预设空间轴线共线；所述转轴单元包括配合滑套，所述配合滑套设在所述固定圆套外并与所述固定圆套转动配合，所述配合滑套的一端与所述反射镜连接固定；所述悬浮控制单元包括控制环，所述控制环的截面内轮廓形状为与所述预设数量一致的正多边形，且所述控制环具有与所述预设数量一致的内壁面，每一个所述内壁面上设置有悬浮电磁体；所述控制环包围在所述配合滑套外，且基于所述悬浮电磁体与所述悬浮永磁体的配合，所述棱柱杆、所述固定圆套和所述配合滑套悬浮在所述配合滑套内。3.如权利要求2所述的曝光机，其特征在于，所述支撑模块的数量为两...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈志特，王华，吴中海，
申请(专利权)人：广东科视光学技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：