一种曝光机光源系统技术方案

本发明专利技术提供了一种曝光机光源系统，涉及曝光机领域，包括光源组件、回转阻挡组件和清洗组件；光源组件包括激光器，激光器具有出射口；清洗组件包括清洗腔；回转阻挡组件包括回转件和挡片组，回转件沿预设轨迹回转，每一组挡片组包括若干个反射件，反射件固结在回转件的外侧预设位置上，且反射件具有反射面；在回转件的回转过程中，反射件均经过工作区和清洗区，且同一组挡片组中的反射件能够同时位于工作区上；当一组挡片组中的反射件同时位于工作区中时，挡片组中的所有反射件的反射面位于一预设凹曲面上。该曝光机光源系统，利用动态运动的回转阻挡组件取代静态的反射镜，并通过清洗组件及时清理燃烧残留物，可实现及时清理燃烧残留物的功能。残留物的功能。残留物的功能。

A light source system of exposure machine

【技术实现步骤摘要】
一种曝光机光源系统


[0001]本专利技术涉及到曝光机领域，具体涉及到一种曝光机光源系统。

技术介绍

[0002]曝光机是指通过开启灯光发出激光，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的机器设备，曝光机一般应用于高精度加工领域中，如芯片加工领域，需要利用曝光机将芯片电路转印至晶圆片上。由于国外技术的封锁，我国在曝光机的加工制造领域还处于落后地位，曝光机的加工制作主要涉及到多方面的难题，如激光源的制造、振动消除等。针对所遇到的技术问题，现有技术提出了较多的解决方法。如在激光源的制作方面，申请公布号为CN111610697A的文件公开了一种DI光刻机的LED光学系统，解决了半导体激光器在某些波段功率不足等问题；申请公布号为CN110376851A的文件公开了一种曝光机的光源，采用螺旋状的方式对LED的光路进行修正，得到光束纯正无杂光的光源。
[0003]目前制造业加工精度最高的曝光机为ASML公司生产的EUV极紫外线曝光机，其激光源的产生是通过激光冲击锡滴，锡在温度约500,000K时爆发燃烧，产生发出EUV光的等离子体，锡的燃烧残留物会随锡的爆发燃烧流向前段的激光源和后端的反射镜组，这需要定期对其进行清理。相应的，通过类似方式生产的激光源都会存在类似的问题。随着时间的增加，燃烧残留物的清理难度越高，清理花费时间越长，维护难度增加。

技术实现思路

[0004]为了降低维护难度，本专利技术提供了一种曝光机光源系统，将利用动态运动的回转阻挡组件取代静态的反射镜，并通过清洗组件及时清理燃烧残留物，以达到及时清理燃烧残留物的目的。
[0005]相应的，本专利技术提供了一种曝光机光源系统，包括光源组件、回转阻挡组件和清洗组件；所述光源组件包括激光器，所述激光器具有出射口，以所述出射口的指向方向为基准，距离所述出射口预设距离的位置为打击位置；所述清洗组件包括清洗腔；所述回转阻挡组件包括回转件和挡片组，所述回转件沿预设轨迹回转，每一组所述挡片组包括若干个反射件，每一个反射件固结在所述回转件的外侧预设位置上，且每一个反射件具有预设结构的反射面；基于空间位置进行划分，所述回转件具有工作区和清洗区；所述工作区位于所述打击位置与所述出射口之间，所述清洗区位于所述清洗腔内；在所述回转件的回转过程中，每一个反射件均经过所述工作区和所述清洗区，且同一组所述挡片组中的所有反射件能够同时位于所述工作区上；当一组所述挡片组中的所有反射件同时位于所述工作区中时，所述挡片组中的所有反射件的反射面位于一预设凹曲面上，所述预设曲面具有唯一的焦点，所述挡片组在所
述出射口与所述打击位置的连线经过位置上设置有透光结构。
[0006]可选的实施方式，所述回转件在工作区中的轨迹为直线；在一组所述挡片组中，每一个所述反射件均经过对应的连接件固结在所述回转件的外侧预设位置上，且从所述挡片组的边缘至所述挡片组的中部，连接件的长度逐渐减小。
[0007]可选的实施方式，所述回转件在清洗区中的轨迹为朝远离所述激光器方向凸起的弧线轨迹。
[0008]可选的实施方式，所述回转件在工作区中的轨迹为朝所述出射口凹陷的弧线轨迹；在一组所述挡片组中，每一个所述反射件均经过对应的连接件固结在所述回转件的外侧预设位置上，且所有连接件的长度相同。
[0009]可选的实施方式，所述回转件在清洗区中的轨迹为直线。
[0010]可选的实施方式，所述清洗组件包括超声波震荡模块，所述超声波震荡模块位于所述清洗腔中；所述超声波震荡模块的作用对象为反射件。
[0011]可选的实施方式，每一个反射件通过连接单元固结在所述回转件的外侧预设位置上；所述连接单元具有松动状态和固定状态，且所述连接单元能够在所述松动状态和所述固定状态重复切换；所述连接单元处于所述固定状态时，所述反射件与所述连接单元之间刚性连接，所述连接单元处于所述松动状态时，所述反射件与所述连接单元脱离刚性连接；所述反射件位于所述工作区时，所述反射件对应的连接单元为固定状态；所述反射件位于所述清洗区时，所述反射件对应的连接单元为松动状态。
[0012]可选的实施方式，所述连接单元的松动状态和固定状态通过物理开关或电子开关切换。
[0013]可选的实施方式，所述连接单元包括固定块、活动杆和控制件；所述活动杆的根部为软杆，所述活动杆的端部为硬杆，所述连接单元对应的反射件与所述硬杆连接固定；所述固定块设置有适配所述活动杆的盲孔，所述活动杆配合在所述盲孔中；所述控制件用于控制所述活动杆的根部与所述盲孔的底部的距离。
[0014]可选的实施方式，所述控制件包括一个限位件、一个受力磁体、一个永磁体和一个电磁体；所述限位件用于防止所述活动杆从所述盲孔中脱出；所述永磁体和所述电磁体均嵌在所述盲孔的底部上；在所述电磁体待机时，所述永磁体吸引所述活动杆，所述活动杆的底部与所述盲孔的底部距离处于最小值，所述活动杆上的至少部分硬杆配合在所述盲孔中；在所述电磁体动作时，所述电磁体排斥所述活动杆，所述活动杆的底部与所述盲孔的底部距离处于最大值，所述活动杆上的硬杆脱离与所述盲孔的配合。
[0015]综上，本专利技术提供了一种曝光机光源系统，该曝光机光源系统相较于现有技术，将用于汇聚光子的反射镜从静态改变为动态的，一方面，可阻挡燃烧残留物进入激光源，另一
方面，可对反射镜进行及时的清理，避免了燃烧残留物的堆积以及影响光子的汇聚；通过改变回转件的回转轨迹以及结合连接结构的变化，可实现反射件在工作区以及在清洗区中的姿态变化，从而实现所需的工作功能和清洗功能；清洗组件采用超声波震荡模块，利用震荡的方式取出反射件上的燃烧残留物，可在真空环境下实施，适用范围广泛；为了减少震动的传递，通过可变换状态的连接单元，可避免超声波震荡模块的震荡传递，影响工作区中的反射件的姿态稳定性；连接单元的特殊结构设计，能够很好的对连接单元进行状态的切换。
附图说明
[0016]图1为本专利技术实施例一的位于工作区的挡片组的三维结构示意图。
[0017]图2为本专利技术实施例一的曝光机光源系统的结构简图。
[0018]图3为本专利技术实施例二的曝光机光源系统的结构简图。
[0019]图4为本专利技术实施例的连接模块剖面结构示意图。
具体实施方式
[0020]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0021]需要说明的是，为了便于说明本专利技术实施例的曝光机的实施原理，部分示意图采用结构简图的形式示出，部分需要具体说明其结构外形的部件采用模型示意图进行示意。
[0022]实施例一：图1示出了本专利技术实施例的位于工作区9的挡片组1的三维结构示意图，图2示出了本专利技术实施例的曝光机光源系统的结构简图。
[0023]具体的，本专利技术实施例提供了一种曝光机光源本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光机光源系统，其特征在于，包括光源组件、回转阻挡组件和清洗组件；所述光源组件包括激光器，所述激光器具有出射口，以所述出射口的指向方向为基准，距离所述出射口预设距离的位置为打击位置；所述清洗组件包括清洗腔；所述回转阻挡组件包括回转件和挡片组，所述回转件沿预设轨迹回转，每一组所述挡片组包括若干个反射件，每一个反射件固结在所述回转件的外侧预设位置上，且每一个反射件具有预设结构的反射面；基于空间位置进行划分，所述回转件具有工作区和清洗区；所述工作区位于所述打击位置与所述出射口之间，所述清洗区位于所述清洗腔内；在所述回转件的回转过程中，每一个反射件均经过所述工作区和所述清洗区，且同一组所述挡片组中的所有反射件能够同时位于所述工作区上；当一组所述挡片组中的所有反射件同时位于所述工作区中时，所述挡片组中的所有反射件的反射面位于一预设凹曲面上，所述预设曲面具有唯一的焦点，所述挡片组在所述出射口与所述打击位置的连线经过位置上设置有透光结构。2.如权利要求1所述的曝光机光源系统，其特征在于，所述回转件在工作区中的轨迹为直线；在一组所述挡片组中，每一个所述反射件均经过对应的连接件固结在所述回转件的外侧预设位置上，且从所述挡片组的边缘至所述挡片组的中部，连接件的长度逐渐减小。3.如权利要求2所述的曝光机光源系统，其特征在于，所述回转件在清洗区中的轨迹为朝远离所述激光器方向凸起的弧线轨迹。4.如权利要求1所述的曝光机光源系统，其特征在于，所述回转件在工作区中的轨迹为朝所述出射口凹陷的弧线轨迹；在一组所述挡片组中，每一个所述反射件均经过对应的连接件固结在所述回转件的外侧预设位置上，且所有连接件的长度相同。5.如权利要求4所述的曝光机光源系统，其特征在于，所述回转件在清洗区中的轨迹为直线。6.如权利要求1所述的曝光...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈志特，王华，吴中海，
申请(专利权)人：广东科视光学技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：