【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷可调节均匀上釉设备
[0001]本专利技术具体是一种陶瓷可调节均匀上釉设备，涉及陶瓷上釉设备相关领域。
技术介绍
[0002]目前，对于高质量的陶瓷上釉来说，大多采用手工进行，这是因为普通的机械自动化上釉设备一般是利用上釉刷来对陶瓷进行涂刷，而在涂刷时，利用旋转台驱动陶瓷低速转动，在转动过程中，上釉涂刷对陶瓷进行涂刷即可，然而，对于一些高质量的陶瓷来说，这种方式在对陶瓷上釉时，陶瓷的凹槽、弧角等非平面或者规则曲面的位置的上釉质量不高，这些不规则位置上釉往往比较少，而这些位置在后续的处理工序中，还会容易出现釉的进一步流失问题，这就导致这些位置上釉质量不佳，进而使得陶瓷质量不可靠，难以实现高质量陶瓷的制备，而如果简单的设置多个尺寸不同、形状不同的涂釉刷，则会导致定位精度不高，频繁更换不仅十分麻烦，而且，更换后精度受到影响，同时，对设备的空间受限，影响操作。
技术实现思路
[0003]因此，为了解决上述不足，本专利技术在此提供一种陶瓷可调节均匀上釉设备。
[0004]本专利技术是这样实现的，构造一种...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种陶瓷可调节均匀上釉设备，其包括基座(1)、机架(4)、升降气缸(3)、上下料机构(6)、上釉机构(2)、分度台(8)、陶瓷定位机构(7)和定位卡座(5)，其中，所述基座的上端设置有所述机架，所述机架的中心固定设置有所述升降气缸，所述升降气缸的输出端朝下，且所述升降气缸的输出端连接有所述上釉机构(2)，所述基座上位于所述上釉机构的下方设置有所述分度台，所述分度台上圆周阵列设置有多个所述陶瓷定位机构，其特征在于，所述陶瓷定位机构的上端可拆卸的连接有所述定位卡座，待上釉的陶瓷定位设置在所述定位卡座上；所述机架的一侧还设置有所述上下料机构，所述上下料机构能够将定位有陶瓷的定位卡座搬运或者搬出所述陶瓷定位机构；所述陶瓷定位机构构设为能够驱动所述定位卡座绕其中心轴线进行转动，且所述述陶瓷定位机构能够对所述中心轴线的倾斜偏转角度进行调节，以便在上釉时对所述定位卡座上的陶瓷进行角度调节。2.根据权利要求1所述一种陶瓷可调节均匀上釉设备，其特征在于：所述基座的底部中心设置有分度驱动器，所述分度台由所述分度驱动器驱动分度转动，所述机架上设置有多个导套，所述上釉机构上设置有导杆，所述导套与所述导杆滑动导向配合。3.根据权利要求1所述一种陶瓷可调节均匀上釉设备，其特征在于：所述上釉机构包括升降座、水平调节气缸(9)、调节滑台(10)、变换机构、上釉套盘(14)、上釉针头(15)，其中，所述升降座的上端固定安装在所述升降气缸的活塞杆的底部，所述升降座的下端一侧固定设置有所述水平调节气缸，所述水平调节气缸的活塞杆水平延伸，所述升降座的底部滑动配合有所述调节滑台，所述调节滑台由所述水平调节气缸驱动，以便调节所述调节滑台的水平位置，所述调节滑台上固定安装有所述上釉套盘，所述调节滑台上还通过所述变换机构安装有所述上釉针头，所述上釉套盘的中心设置有贯通孔，所述上釉针头能够在所述变换机构的驱动下靠近所述上釉盘并能够穿过所述贯通孔，当所述上釉针头远离所述上釉盘且未穿过所述贯通孔时，所述上釉盘能够对所述陶瓷进行上釉作业，当所述上釉针头靠近所述上釉盘且穿过所述贯通孔时，由所述上釉针头对所述陶瓷进行上釉作业。4.根据权利要求3所述一种陶瓷可调节均匀上釉设备，其特征在于：所述机架上还设置有供釉组件，所述供釉组件与所述上釉套盘(14)、上釉针头(15)连接，以便利用所述供釉组件来对所述上釉套盘(14)、上釉针头(15)添加釉料，进而通过所述上釉套盘(14)、上釉针头(15)对陶瓷刷涂釉料。5.根据权利要求4所述一种陶瓷可调节均匀上釉设备，其特征在于：所述变换机构包括变换气缸(11)、导轨(12)、滑座(16)和支撑座(...
【专利技术属性】
技术研发人员：伍玉彬，蒋顺生，康娟萍，刘浩然，邹颍，陈晓，窦胜可，卢章良，刘雯雯，
申请(专利权)人：桂林航天工业学院，
类型：发明
国别省市：
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