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本发明公开了一种陶瓷可调节均匀上釉设备，其可以实现自动化的对陶瓷进行上釉操作，上釉质量高，可实现陶瓷上凹槽、弧角等不规则位置的上釉，在上釉时，先利用上釉机构的上釉套盘对陶瓷的规则表面的大面积处进行快速上釉，在快速上釉完成后，再利用上釉针头对...
该专利属于桂林航天工业学院所有，仅供学习研究参考，未经过桂林航天工业学院授权不得商用。

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