显示面板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，该显示面板包括衬底层，位于衬底层上方的有源层，位于有源层上方的导电层；其中，有源层包括有源图案，导电层包括同层设置的栅极、源极、漏极以及像素电极；栅极与有源图案相对设置，源极和漏极电性连接于有源图案，像素电极电性连接于漏极。本发明专利技术实施例通过将薄膜晶体管的栅极、源极、漏极和像素电极同一层制备，减少了光罩数目，降低了生产成本。降低了生产成本。降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制作方法、显示装置


[0001]本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。

技术介绍

[0002]OLED(Organic Light
‑
Emitting Diode，有机电致发光二极管)具有自发光、结构简单、超轻薄、响应速度快、宽视角、低功耗及可实现柔性显示等特性，因此被广泛应用于显示领域。
[0003]目前，大尺寸OLED一般采用顶栅(Top
‑
gate)铟镓锌氧化物(IGZO)薄膜晶体管(TFT)作为背板，当前背板技术需要分层制备栅极、源漏极和像素电极，需要较多的光罩，成本较高。
[0004]因此，现有显示面板存在需要分层制备栅极、源漏极和像素电极的技术问题，需要改进。

技术实现思路

[0005]本专利技术提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，以解决现有显示面板存在的需要分层制备栅极、源漏极和像素电极的技术问题。
[0006]为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：
[0007]本专利技术实施例提供一种显示面板，包括：
[0008]衬底层；
[0009]有源层，位于所述衬底层的上方，包括有源图案；
[0010]导电层，位于所述有源层的上方，包括同层设置的栅极、源极、漏极以及像素电极；所述栅极与所述有源图案相对设置，所述源极和所述漏极电性连接于所述有源图案，所述像素电极电性连接于所述漏极。
[0011]在本专利技术实施例提供的显示面板中，所述导电层包括透明导电层以及层叠设置在所述透明导电层上的金属导电层；所述透明导电层包括所述栅极的第一部分、所述源极的第一部分、所述漏极的第一部分以及所述像素电极，所述像素电极电性连接于所述漏极的所述第一部分；所述金属导电层包括所述栅极的第二部分、所述源极的第二部分以及所述漏极的第二部分。
[0012]在本专利技术实施例提供的显示面板中，所述金属导电层的材料包括铜、铝、钛、钼中的至少一种；所述透明导电层的材料包括氧化铟锡、氧化铟锌中的一种。
[0013]在本专利技术实施例提供的显示面板中，还包括：色阻层，位于所述衬底层和所述有源层之间，包括多个色阻图案；多个所述色阻图案位于所述像素电极的出光侧。
[0014]在本专利技术实施例提供的显示面板中，还包括：遮光层，位于所述色阻层和所述有源层之间，包括多个遮光图案；每一所述遮光图案在俯视视角下与对应的所述色阻图案间隔设置。
[0015]在本专利技术实施例提供的显示面板中，还包括：
[0016]钝化层，位于所述导电层的上方；
[0017]像素定义层，位于所述钝化层的上方；
[0018]所述钝化层和所述像素定义层在所述像素电极上方设有与对应的所述色阻图案相对设置的开孔。
[0019]在本专利技术实施例提供的显示面板中，所述有源层的材料包括金属氧化物半导体材料。
[0020]进一步的，本专利技术实施例还提供一种显示面板的制作方法，所述显示面板的制作方法的步骤包括：
[0021]提供衬底；
[0022]在所述衬底的上方形成有源层，并图案化所述有源层形成有源图案；
[0023]在所述有源图案的上方依次形成层叠的透明导电层和金属导电层以作为导电层；
[0024]使用半色调掩模板图案化所述导电层，得到栅极、源极、漏极以及像素电极；其中，所述栅极与所述有源图案相对设置，所述源极和所述漏极电性连接于所述有源图案，所述像素电极电性连接于所述漏极。
[0025]在本专利技术实施例提供的显示面板的制作方法中，所述半色调掩膜板包括半透光区域、遮光区域以及透光区域，所述遮光区域对应所述栅极以及所述源漏极的设置区域，所述半透光区域对应所述像素电极的设置区域，所述透光区域位于所述半透光区域和所述遮光区域之间。
[0026]更进一步的，本专利技术实施例还提供一种显示装置，包括上述实施例中的显示面板或根据上述实施例所述的方法制作的显示面板。
[0027]本专利技术的有益效果为：本专利技术提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，该显示面板包括衬底层，位于所述衬底层上方的有源层，位于所述有源层上方的导电层；其中，所述有源层包括有源图案，所述导电层包括同层设置的栅极、源极、漏极以及像素电极；所述栅极与所述有源图案相对设置，所述源极和所述漏极电性连接于所述有源图案，所述像素电极电性连接于所述漏极。本专利技术实施例通过将薄膜晶体管的栅极、源极、漏极和像素电极同层制备，减少了光罩数目，降低了生产成本。
附图说明
[0028]下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其他有益效果显而易见。
[0029]图1至图10为本专利技术实施例提供的显示面板的制备示意图；
[0030]图11为本专利技术实施例提供的半色调掩膜板的结构示意图。
具体实施方式
[0031]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0032]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、
“
厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0033]在本申请中，“示例性”一词用来表示“用作例子、例证或说明”。本申请中被描述为“示例性”的任何实施例不一定被解释为比其它实施例更优选或更具优势。为了使本领域任何技术人员能够实现和使用本专利技术，给出了以下描述。在以下描述中，为了解释的目的而列出了细节。应当明白的是，本领域普通技术人员可以认识到，在不使用这些特定细节的情况下也可以实现本专利技术。在其它实例中，不会对公知的结构和过程进行详细阐述，以避免不必要的细节使本专利技术的描述变得晦涩。因此，本专利技术并非旨在限于所示的实施例，而是与符合本申请所公开的原理和特征的最广范围相一致。
[0034]针对现有显示面板存在需要分层制备栅极、源漏极和像素电极，需要较多的光罩，成本较高的技术问题，本专利技术实施例可以得以解决。
[0035]具体的，本申请提供的显示面板包括衬底层，位于所述衬底层上方的有源层，位于所述有源层上方的导电层；其中，所述有源层包括有源图案，所述导电层包括同层设置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：衬底层；有源层，位于所述衬底层的上方，包括有源图案；导电层，位于所述有源层的上方，包括同层设置的栅极、源极、漏极以及像素电极；所述栅极与所述有源图案相对设置，所述源极和所述漏极电性连接于所述有源图案，所述像素电极电性连接于所述漏极。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述导电层包括透明导电层以及层叠设置在所述透明导电层上的金属导电层；所述透明导电层包括所述栅极的第一部分、所述源极的第一部分、所述漏极的第一部分以及所述像素电极，所述像素电极电性连接于所述漏极的所述第一部分；所述金属导电层包括所述栅极的第二部分、所述源极的第二部分以及所述漏极的第二部分。3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述金属导电层的材料包括铜、铝、钛、钼中的至少一种；所述透明导电层的材料包括氧化铟锡、氧化铟锌中的一种。4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，还包括：色阻层，位于所述衬底层和所述有源层之间，包括多个色阻图案；多个所述色阻图案位于所述像素电极的出光侧。5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，还包括：遮光层，位于所述色阻层和所述有源层之间，包括多个遮光图案；每一所述遮光图案在俯视视角下与对应的所述色阻图案间隔设置。6.根据权利要求4...

【专利技术属性】
技术研发人员：ꢀ七四专利代理机构，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：