显示装置及其制作方法制造方法及图纸

本发明专利技术实施例公开一种显示装置及其制作方法。在一具体实施方式中，该显示装置包括显示面板及设置于显示面板的出光侧的透镜结构阵列，显示面板包括基板及设置在基板上的阵列排布的子像素，透镜结构阵列包括与各子像素一一对应的透镜结构；透镜结构为平凸透镜结构，包括层叠设置的第一透镜层、间隔层和第二透镜层，第一透镜层和第二透镜层分别为有机透镜层，间隔层为无机间隔层。该实施方式通过将透镜设计为层叠设置的有机透镜层、无机间隔层和有机透镜层的结构，使得在将透镜的拱高提升至3μm以上从而匹配显示面板的像素尺寸的同时实现相邻透镜完全密接从而获得更优的显示效果成为可能。果成为可能。果成为可能。

【技术实现步骤摘要】
显示装置及其制作方法


[0001]本专利技术涉及显示
更具体地，涉及一种显示装置及其制作方法。

技术介绍

[0002]目前，在3D显示的光学结构设计中，透镜(具体为平凸透镜)的制作大部分采用的是热回流工艺，具体而言，受制于曝光工艺的限制，形成的透镜(Lens)在显影后通常呈柱状体，再利用热回流工艺通过加热使柱状体热熔融，并在表面张力的作用下形成具有曲面的透镜，得到例如整体呈半球体的透镜。其中，一方面，对于3D显示，相邻透镜需要完全密接才能获得更优的显示效果；另一方面，为了匹配当前主流显示面板的像素尺寸(Pixel CD)，则需要将透镜的拱高提升至3μm以上。然而，专利技术人发现，目前使用的热回流胶材厚度普遍只有2μm，加之热回流效应会造成底面积膨胀，因此要保证相邻透镜密接则透镜拱高只能在1.0μm以下，与可匹配像素尺寸的3μm以上的透镜拱高差距很大，即，相邻透镜需要密接与3μm以上的透镜拱高难以兼顾。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种显示装置及其制作方法，以解决现有技术存在的问题中的至少一个。
[0004]为达到上述目的，本专利技术采用下述技术方案：
[0005]本专利技术第一方面提供了一种显示装置，包括：显示面板及设置于所述显示面板的出光侧的透镜结构阵列，所述显示面板包括基板及设置在所述基板上的阵列排布的子像素，所述透镜结构阵列包括与各子像素一一对应的透镜结构；
[0006]所述透镜结构为平凸透镜结构，包括层叠设置的第一透镜层、间隔层和第二透镜层，所述第一透镜层和所述第二透镜层分别为有机透镜层，所述间隔层为无机间隔层。
[0007]可选地，在垂直于所述基板的方向，所述透镜结构的曲面与平面之间的最大距离大于3μm。
[0008]可选地，所述透镜结构阵列中，相邻透镜结构的曲面抵接。
[0009]可选地，所述第一透镜层与所述第二透镜层的折射率相同；且对于红光波段、绿光波段和蓝光波段，所述间隔层的折射率与所述第一透镜层的折射率差小于预设阈值。
[0010]可选地，所述间隔层的材料为氮氧化硅、氮化硅、氧化硅中的一种或任意组合。
[0011]可选地，所述间隔层的厚度为0.2μm
‑
0.3μm。
[0012]本专利技术第二方面提供一种显示装置的制作方法，包括：
[0013]提供显示面板，所述显示面板包括基板及设置在所述基板上的阵列排布的子像素；
[0014]在所述显示面板的出光侧形成透镜结构阵列，所述透镜结构阵列包括与各子像素一一对应的透镜结构；所述透镜结构为平凸透镜结构，包括层叠设置的第一透镜层、间隔层和第二透镜层，所述第一透镜层和所述第二透镜层分别为有机透镜层，所述间隔层为无机
间隔层。
[0015]可选地，在所述显示面板的出光侧形成透镜结构阵列包括：
[0016]在所述显示面板的出光侧形成第一透镜层阵列，所述第一透镜层阵列包括与各子像素一一对应的第一透镜层；
[0017]形成覆盖所述第一透镜层阵列的间隔层；
[0018]在所述间隔层上形成与各第一透镜层一一对应的第二透镜层，得到透镜结构阵列。
[0019]可选地，所述在所述显示面板的出光侧形成第一透镜层阵列包括：
[0020]在所述显示面板的出光侧涂覆第一有机材料层，对所述第一有机材料层进行图案化，并对图案化后的第一有机材料层进行热回流工艺或干刻工艺，得到第一透镜层阵列，其中，第一透镜层为平凸透镜层。
[0021]可选地，所述形成覆盖所述第一透镜层阵列的间隔层包括：利用沉积工艺形成覆盖所述第一透镜层阵列的间隔层。
[0022]可选地，所述利用沉积工艺形成覆盖所述第一透镜层阵列的间隔层进一步包括：通过调节沉积工艺的工艺参数，使得对于红光波段、绿光波段和蓝光波段，所述间隔层的折射率与所述第一透镜层的折射率差小于预设阈值。
[0023]可选地，在垂直于所述基板的方向，所述透镜结构的曲面与平面之间的最大距离大于3μm。
[0024]可选地，所述间隔层的材料为氮氧化硅、氮化硅、氧化硅中的一种或任意组合。
[0025]可选地，所述间隔层的厚度为0.2μm
‑
0.3μm。
[0026]可选地，所述间隔层的材料为氮氧化硅、氮化硅、氧化硅中的一种或任意组合。
[0027]可选地，所述在所述间隔层上的形成与各第一透镜层一一对应的第二透镜层包括：
[0028]在所述间隔层上涂覆第二有机材料层，对所述第二有机材料层进行图案化，并对图案化后的第二有机材料层进行热回流工艺，得到与各第一透镜层一一对应的第二透镜层。
[0029]可选地，所述第二有机材料层与所述第一有机材料层的有机材料相同。
[0030]可选地，所述透镜结构阵列中，相邻透镜结构的第二透镜层抵接。
[0031]本专利技术的有益效果如下：
[0032]本专利技术所述技术方案，通过将透镜设计为层叠设置的有机透镜层、无机间隔层和有机透镜层的结构，使得在将透镜的拱高提升至3μm以上从而匹配显示面板的像素尺寸的同时实现相邻透镜完全密接从而获得更优的显示效果成为可能。
附图说明
[0033]下面结合附图对本专利技术的具体实施方式作进一步详细的说明。
[0034]图1示出本专利技术实施例提供的OLED显示装置的截面示意图。
[0035]图2示出氮氧化硅与透镜层材料的N/K曲线对比图。
[0036]图3
‑
图9示出本专利技术实施例提供的OLED显示装置的制作过程中对应各阶段的截面示意图。
具体实施方式
[0037]本专利技术中所述的“在
……
上”、“在
……
上形成”和“设置在
……
上”可以表示一层直接形成或设置在另一层上，也可以表示一层间接形成或设置在另一层上，即两层之间还存在其它的层。
[0038]需要说明的是，虽然术语“第一”、“第二”等可以在此用于描述各种部件、构件、元件、区域、层和/或部分，但是这些部件、构件、元件、区域、层和/或部分不应受到这些术语限制。而是，这些术语用于将一个部件、构件、元件、区域、层和/或部分与另一个相区分。因而，例如，下面讨论的第一部件、第一构件、第一元件、第一区域、第一层和/或第一部分可以被称为第二部件、第二构件、第二元件、第二区域、第二层和/或第二部分，而不背离本专利技术的教导。
[0039]在本专利技术中，除非另有说明，所采用的术语“同层设置”指的是两个层、部件、构件、元件或部分可以通过相同制备工艺(例如构图工艺等)形成，并且，这两个层、部件、构件、元件或部分一般由相同的材料形成。例如两个或更多个功能层同层设置指的是这些同层设置的功能层可以采用相同的材料层并利用相同制备工艺形成，从而可以简化显示基板的制备工艺。
[0040]在本专利技术中，除非另有说明，表述“构图工艺”一般包括光刻胶的涂布、曝光、显影、刻蚀、光刻胶的剥离等步骤。表述“一次构图工本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示装置，其特征在于，包括：显示面板及设置于所述显示面板的出光侧的透镜结构阵列，所述显示面板包括基板及设置在所述基板上的阵列排布的子像素，所述透镜结构阵列包括与各子像素一一对应的透镜结构；所述透镜结构为平凸透镜结构，包括层叠设置的第一透镜层、间隔层和第二透镜层，所述第一透镜层和所述第二透镜层分别为有机透镜层，所述间隔层为无机间隔层。2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，在垂直于所述基板的方向，所述透镜结构的曲面与平面之间的最大距离大于3μm。3.根据权利要求1或2所述的显示装置，其特征在于，所述透镜结构阵列中，相邻透镜结构的曲面抵接。4.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述第一透镜层与所述第二透镜层的折射率相同；且对于红光波段、绿光波段和蓝光波段，所述间隔层的折射率与所述第一透镜层的折射率差小于预设阈值。5.根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于，所述间隔层的材料为氮氧化硅、氮化硅、氧化硅中的一种或任意组合。6.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述间隔层的厚度为0.2μm
‑
0.3μm。7.一种显示装置的制作方法，其特征在于，包括：提供显示面板，所述显示面板包括基板及设置在所述基板上的阵列排布的子像素；在所述显示面板的出光侧形成透镜结构阵列，所述透镜结构阵列包括与各子像素一一对应的透镜结构；所述透镜结构为平凸透镜结构，包括层叠设置的第一透镜层、间隔层和第二透镜层，所述第一透镜层和所述第二透镜层分别为有机透镜层，所述间隔层为无机间隔层。8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在所述显示面板的出光侧形成透镜结构阵列包括：在所述显示面板的出光侧形成第一透镜层阵列，所述第一透镜层阵列包括与各子像素一一对应的第一透镜层；形成覆盖所述第一透镜层阵列的间隔层；在所述间隔层上形成与各第...

【专利技术属性】
技术研发人员：张云颢，黄冠达，卜维亮，余洪涛，苏冬冬，余忠祥，杨宗顺，杨超，吴操，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：