显示基板及其制造方法、显示装置制造方法及图纸

本申请公开一种显示基板及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。该方法包括：在衬底基板上形成平坦层，平坦层具有凸起结构；在形成有平坦层的衬底基板上形成阳极，阳极至少位于凸起结构远离衬底基板的一面上；在形成有阳极的衬底基板上形成像素界定层，像素界定层包括由挡墙结构限定出的像素区，像素区在衬底基板上的正投影覆盖凸起结构在衬底基板上的正投影，像素区的边缘区域与阳极远离衬底基板的一面平齐；通过喷墨打印工艺在像素区中形成发光层，发光层与阳极远离衬底基板的一面连接。本申请解决了发光层的发光亮度的均匀性较差的问题，提高了发光层的发光亮度的均匀性。本申请用于显示基板制造。申请用于显示基板制造。申请用于显示基板制造。

Display substrate and its manufacturing method and display device

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制造方法、显示装置
[0001]本申请为申请日为2019年04月09日、申请号为201910281690.5、专利技术名称为“显示基板及其制造方法、显示装置”的中国专利申请的分案申请。


[0002]本申请涉及显示
，特别涉及一种显示基板及其制造方法、显示装置。

技术介绍

[0003]诸如高分子发光二极管(英文：polymer light
‑
emitting diode；简称：PLED)等电致发光显示装置具有轻薄、低功耗、高对比度、高色域以及可柔性显示等优点，广泛应用于显示行业。
[0004]电致发光显示装置主要依靠电致发光显示基板进行显示。电致发光显示基板通常包括衬底基板以及设置在衬底基板上的薄膜晶体管(英文：Thin Film Transistor；简称：TFT)、平坦层、阳极、像素界定层(英文：Pixel Definition Layer；简称：PDL)、发光层和阴极，像素界定层包括由挡墙结构限定出的像素区，发光层位于像素区内。目前，通常通过喷墨打印工艺在像素区内打印发光材料溶液，然后对像素区内的发光材料溶液进行干燥处理以去除发光材料溶液的溶剂，使发光材料溶液的溶质保留形成发光层。
[0005]但是，在对像素区中的发光材料溶液进行干燥处理的过程中，发光材料溶液容易出现“咖啡环效应”，导致最终形成的发光层中，边缘区域的厚度与中央区域的厚度存在差异，发光层的厚度的均匀性较差，导致发光层的发光亮度的均匀性较差。

技术实现思路

[0006]本申请提供一种显示基板及其制造方法、显示装置，可以提高发光层的发光亮度的均匀性。所述技术方案如下：
[0007]第一方面，提供一种显示基板的制造方法，所述方法包括：
[0008]在衬底基板上形成平坦层，所述平坦层具有凸起结构；
[0009]在形成有所述平坦层的衬底基板上形成阳极，所述阳极至少位于所述凸起结构远离所述衬底基板的一面上；
[0010]在形成有所述阳极的衬底基板上形成像素界定层，所述像素界定层包括由挡墙结构限定出的像素区，所述像素区在所述衬底基板上的正投影覆盖所述凸起结构在所述衬底基板上的正投影，所述像素区的边缘区域与所述阳极远离所述衬底基板的一面平齐；
[0011]通过喷墨打印工艺在所述像素区中形成发光层，所述发光层与所述阳极远离所述衬底基板的一面连接。
[0012]可选地，所述阳极呈拱形，所述阳极覆盖所述凸起结构远离所述衬底基板的一面和所述凸起结构的侧面，所述像素界定层覆盖所述阳极的侧面。
[0013]可选地，在通过喷墨打印工艺在所述像素区中形成发光层之后，所述方法还包括：在形成有所述发光层的衬底基板上形成阴极。
[0014]可选地，在通过喷墨打印工艺在所述像素区中形成发光层之前，所述方法还包括：通过喷墨打印工艺在所述像素区中依次形成空穴注入层和空穴传输层，所述空穴注入层和所述空穴传输层沿远离所述衬底基板的方向叠加；
[0015]所述通过喷墨打印工艺在所述像素区中形成发光层，包括：通过喷墨打印工艺在形成有所述空穴传输层的所述像素区中形成发光层，所述空穴传输层和所述发光层沿远离所述衬底基板的方向叠加，所述发光层通过所述空穴传输层和所述空穴注入层与所述阳极远离所述衬底基板的一面连接。
[0016]可选地，在通过喷墨打印工艺在形成有所述空穴传输层的所述像素区中形成发光层之后，所述方法还包括：
[0017]通过蒸镀工艺在形成有所述发光层的所述像素区中依次形成电子传输层和电子注入层，所述发光层、所述电子传输层和所述电子注入层沿远离所述衬底基板的方向叠加；
[0018]所述在形成有所述发光层的衬底基板上形成阴极，包括：在形成有所述电子注入层的衬底基板上形成阴极，所述阴极通过所述电子注入层和所述电子传输层与所述发光层连接。
[0019]可选地，在衬底基板上形成平坦层之前，所述方法还包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管；
[0020]所述在衬底基板上形成平坦层，包括：在形成有所述薄膜晶体管的衬底基板上形成平坦层；
[0021]在形成有所述电子注入层的衬底基板上形成阴极之后，所述方法还包括：在形成有所述阴极的衬底基板上形成封装层。
[0022]第二方面，提供一种显示基板，所述显示基板包括：衬底基板，以及，依次设置在所述衬底基板上的平坦层、阳极、像素界定层和发光层；
[0023]所述平坦层具有凸起结构，所述阳极至少位于所述凸起结构远离所述衬底基板的一面上，所述像素界定层包括由挡墙结构限定出的像素区，所述像素区在所述衬底基板上的正投影覆盖所述凸起结构在所述衬底基板上的正投影，所述像素区的边缘区域与所述阳极远离所述衬底基板的一面平齐，所述发光层位于所述像素区中，且所述发光层与所述阳极远离所述衬底基板的一面连接。
[0024]可选地，所述阳极呈拱形，所述阳极覆盖所述凸起结构远离所述衬底基板的一面和所述凸起结构的侧面，所述像素界定层覆盖所述阳极的侧面。
[0025]可选地，所述显示基板还包括：设置在所述发光层远离所述衬底基板的一侧的阴极，所述阴极与所述发光层连接。
[0026]可选地，所述显示基板还包括：设置在所述像素区中的空穴注入层和空穴传输层，所述空穴注入层和所述空穴传输层沿远离所述衬底基板的方向设置在所述阳极与所述发光层之间，所述发光层通过所述空穴传输层和所述空穴注入层与所述阳极远离所述衬底基板的一面连接。
[0027]可选地，所述显示基板还包括：设置在所述像素区中的电子传输层和电子注入层，所述电子传输层和所述电子注入层沿远离所述衬底基板的方向设置在所述发光层与所述阴极之间，所述阴极通过所述电子注入层和所述电子传输层与所述发光层连接。
[0028]可选地，所述显示基板还包括：设置在所述衬底基板与所述平坦层之间的薄膜晶
体管，以及，设置在所述阴极远离所述衬底基板的一侧的封装层。
[0029]可选地，所述显示基板为电致发光显示基板，所述发光层为电致发光层。
[0030]第三方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括上述第二方面或第二方面的任一可选方式所述的显示基板。
[0031]本申请提供的技术方案带来的有益效果是：
[0032]本申请提供的显示基板及其制造方法、显示装置，由于平坦层具有凸起结构，阳极至少位于凸起结构远离衬底基板的一面上，像素区在衬底基板上的正投影覆盖凸起结构在衬底基板上的正投影，且像素区的边缘区域与阳极远离衬底基板的一面平齐，发光层位于像素区中且发光层与阳极远离衬底基板的一面连接，因此发光层的边缘区域未与阳极连接，发光层的边缘区域不发光，这样一来，即使发光层的边缘区域的厚度与中央区域的厚度存在差异，也不会影响发光层的发光亮度的均匀性。本申请提供的方案可以解决发光层的发光亮度的均匀性较差的问题，提高发光层的发光亮度的均匀性。
[0033]应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本申请。
附图说本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：衬底基板，以及，依次设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管、平坦层、阳极、像素界定层和发光层；所述平坦层具有凸起结构，所述阳极至少位于所述凸起结构远离所述衬底基板的一面上，所述像素界定层包括第一部分和第二部分，所述第一部分为挡墙结构，所述第二部分为高度不高于所述阳极位于所述凸起结构的上表面的像素界定层部分，所述第一部分在所述衬底基板上的正投影与所述第二部分在所述衬底基板上的正投影至少部分交叠；至少一个子像素的所述阳极未被所述像素界定层覆盖的部分在所述衬底基板上的正投影被所述凸起结构在所述衬底基板上的正投影覆盖。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凸起结构在所述衬底基板上的正投影与所述薄膜晶体管在所述衬底基板上的正投影至少部分交叠。3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述阳极呈拱形，所述阳极包括覆盖所述凸起结构远离所述衬底基板的一面的阳极部分和位于所述凸起结构的侧面的阳极部分。4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，位于所述凸起结构的侧面的阳极部分在所述衬底基板上的正投影与所述像素界定层的所述第二部分在所述衬底基板上的正投影至少部分交叠。5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述像素界定层的所述第二部分至少部分覆盖在位于所述凸起结构的侧面的阳极部分上。6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述阳极中位于所述凸起结构远离所述衬底基板的一面的阳极部分在所述衬底基板上的正投影，与所述薄膜晶体管在所述衬底基板上的正投影至少部分交叠。7.根据权利要求1至6任一项所述的显示基板，其特征在于，所述薄膜晶体管包括源漏极层，所述源漏极层包括源极和漏极，所述漏极通过所述平坦层中的阳极过孔与所述阳极连接。8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述阳极中位于所述凸起结构远离所述衬底基板的一面的阳极部分在所述衬底基板上的正投影，与所述漏极在所述衬底基板上的正投影至少部分交叠。9.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述平坦层还包括所述凸起结构以外的平坦层部分，所述阳极过孔位于所述凸起结构以外的平坦层部分中，所述凸起结构以外的平坦层部分中，除所述阳极过孔以外的部分是连续的一体结构。10.根据权利要求9所述的显示基板，其特征在于，所述凸起结构的厚度与所述凸起...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔颖，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：