一种立式化学气相沉积炉炉底加热装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公布了一种立式化学气相沉积炉炉底加热装置，包括炉体和盖体，炉体的底板内设有加热腔，加热腔内固接有加热丝，炉体内部固接有罩体，盖体的下方连接座板，座板通过支杆连接放置圆盘，本实用新型专利技术的有益效果是，气态原材料在经过加热腔的位置时，通过加热丝对其进行加热，从而补充输送过程中散发的热量，使得反应的气态原材料具有较高的温度，提高反应效果，通过圆周均匀设置的加热腔，可以对气态原材料进行分散加热，提高加热的效果，通过放置圆盘进行晶体薄片的放置，加热后的气态原材料从上下两组通孔分别进入到罩体围成的空间内，从而使得晶体薄片的上下两侧承受气态原材料的反应，进而产生沉积膜。进而产生沉积膜。进而产生沉积膜。

A bottom heating device for vertical chemical vapor deposition furnace

【技术实现步骤摘要】
一种立式化学气相沉积炉炉底加热装置


[0001]本技术涉及化学气相沉积
，具体涉及一种立式化学气相沉积炉炉底加热装置。

技术介绍

[0002]化学气相沉积是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料，在化学气相沉积的时候，将两种气态的原材料通入到反应室，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到晶片表面上。
[0003]一般使用沉积炉作为化学气相沉积的容器，现有技术的沉积炉不能够对输入到炉体内的气态原材料进行均匀的加热，且在反应的过程中，晶体薄片一般推积在沉积炉中，导致晶体薄片相互接触的位置不易产生沉积膜。

技术实现思路

[0004]为解决上述问题，本技术提供了一种立式化学气相沉积炉炉底加热装置，本技术是通过以下技术方案来实现的。
[0005]一种立式化学气相沉积炉炉底加热装置，包括炉体和盖体，所述盖体扣合在炉体的顶部，炉体的外壁上部以及盖体的侧板内壁设有相互匹配的内螺纹和外螺纹，盖体的顶板上表面固接有把手，所述炉体的底板中心开设有气腔，所述气腔通过圆周均匀设置的气槽与炉体的内腔导通，炉体的底板上还固接有与气腔导通的进气管，炉体的底板内对应各气腔的位置开设有加热腔，各所述加热腔内固接有螺旋形状的加热丝，炉体的内壁固接有环形的罩体，所述罩体与炉体的内壁围成气仓，所述罩体的竖直板上开设有两组通孔，各组所述通孔绕罩体的轴线圆周均匀设有复数个，所述盖体的顶板下表面圆周均匀固接有连接杆，所述连接杆的底部固接有座板，所述座板搭放在罩体上，所述座板的下表面固接有支杆，所述支杆的底部固接有放置圆盘，所述放置圆盘位于罩体内并位于两组所述通孔之间。
[0006]进一步地，所述连接杆设置为伸缩杆，各所述连接杆上套设有压紧弹簧。
[0007]进一步地，所述罩体的顶板沿指向炉体中心的方向向下倾斜设置，罩体的顶板上固接有环形的密封垫圈，所述座板的侧面为适配密封垫圈的弧形。
[0008]进一步地，所述放置圆盘上圆周均匀开设有贯穿的放置槽，所述放置槽远离放置圆盘中心的一侧固接有固定夹座，所述放置槽靠近放置圆盘中心的一侧滑动连接有滑杆，所述滑杆远离放置圆盘中心的一侧固接有移动夹座，滑杆靠近放置圆盘中心的一侧固接有滑座，所述放置圆盘内开设有滑道，所述滑座滑动连接在滑道中，滑座与滑道的底部之间固接有夹持弹簧，所述固定夹座和移动夹座相互靠近的一侧开设有V形的夹槽。
[0009]进一步地，所述炉体的侧板上对应气仓的位置固接有排气管，所述排气管上设有阀门，所述炉体的外壁还固接有抽风机，所述抽风机的进口与排气管通过管道连接，抽风机的出口通过管道与外界的废气净化设备连接。
[0010]本技术的有益效果是，气态原材料在经过加热腔的位置时，通过加热丝对其进行加热，从而补充输送过程中散发的热量，使得反应的气态原材料具有较高的温度，提高反应效果，通过圆周均匀设置的加热腔，可以对气态原材料进行分散加热，提高加热的效果，通过放置圆盘进行晶体薄片的放置，加热后的气态原材料从上下两组通孔分别进入到罩体围成的空间内，从而使得晶体薄片的上下两侧承受气态原材料的反应，进而产生沉积膜，避免晶体薄片推积造成局部无法良好产生沉积膜的弊端。
附图说明
[0011]为了更清楚地说明本技术的技术方案，下面将对具体实施方式描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0012]图1：本技术所述一种立式化学气相沉积炉炉底加热装置的结构示意图；
[0013]图2：本技术所述炉体的内部结构示意图；
[0014]图3：本技术所述放置圆盘的轴测图；
[0015]图4：本技术所述放置圆盘的局部剖视图。
[0016]附图标记如下：
[0017]1‑
炉体，2
‑
盖体，3
‑
内螺纹，4
‑
把手，5
‑
气腔，6
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气槽，7
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进气管，8
‑
加热腔，9
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加热丝，10
‑
罩体，11
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气仓，12
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通孔，13
‑
连接杆，14
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座板，15
‑
支杆，16
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放置圆盘，17
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压紧弹簧，18
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密封垫圈，19
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放置槽，20
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固定夹座，21
‑
滑杆，22
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移动夹座，23
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滑座，24
‑
滑道，25
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夹持弹簧，26
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夹槽，27
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排气管，28
‑
阀门，29
‑
抽风机，30
‑
废气净化设备。
具体实施方式
[0018]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。
[0019]如图1
‑
3所示，一种立式化学气相沉积炉炉底加热装置，包括炉体1和盖体2，盖体2扣合在炉体1的顶部，炉体1的外壁上部以及盖体2的侧板内壁设有相互匹配的内螺纹3和外螺纹（图中未标示），盖体2的顶板上表面固接有把手4，炉体1的底板中心开设有气腔5，气腔5通过圆周均匀设置的气槽6与炉体1的内腔导通，炉体1的底板上还固接有与气腔5导通的进气管7，炉体1的底板内对应各气腔5的位置开设有加热腔8，各加热腔8内固接有螺旋形状的加热丝9，炉体1的内壁固接有环形的罩体10，罩体10与炉体1的内壁围成气仓11，罩体10的竖直板上开设有两组通孔12，各组通孔12绕罩体10的轴线圆周均匀设有复数个，盖体2的顶板下表面圆周均匀固接有连接杆13，连接杆13的底部固接有座板14，座板14搭放在罩体10上，座板14的下表面固接有支杆15，支杆15的底部固接有放置圆盘16，放置圆盘16位于罩体10内并位于两组通孔12之间。
[0020]优选的，连接杆13设置为伸缩杆，各连接杆13上套设有压紧弹簧17。
[0021]优选的，罩体10的顶板沿指向炉体1中心的方向向下倾斜设置，罩体10的顶板上固
接有环形的密封垫圈18，座板14的侧面为适配密封垫圈18的弧形。
[0022]优选的，放置圆盘16上圆周均匀开设有贯穿的放置槽19，放置槽19远离放置圆盘16本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种立式化学气相沉积炉炉底加热装置，包括炉体和盖体，所述盖体扣合在炉体的顶部，炉体的外壁上部以及盖体的侧板内壁设有相互匹配的内螺纹和外螺纹，盖体的顶板上表面固接有把手，其特征在于：所述炉体的底板中心开设有气腔，所述气腔通过圆周均匀设置的气槽与炉体的内腔导通，炉体的底板上还固接有与气腔导通的进气管，炉体的底板内对应各气腔的位置开设有加热腔，各所述加热腔内固接有螺旋形状的加热丝，炉体的内壁固接有环形的罩体，所述罩体与炉体的内壁围成气仓，所述罩体的竖直板上开设有两组通孔，各组所述通孔绕罩体的轴线圆周均匀设有复数个，所述盖体的顶板下表面圆周均匀固接有连接杆，所述连接杆的底部固接有座板，所述座板搭放在罩体上，所述座板的下表面固接有支杆，所述支杆的底部固接有放置圆盘，所述放置圆盘位于罩体内并位于两组所述通孔之间。2.根据权利要求1所述的一种立式化学气相沉积炉炉底加热装置，其特征在于：所述连接杆设置为伸缩杆，各所述连接杆上套设有压紧弹簧。3.根据权利要求2所述的一...

【专利技术属性】
技术研发人员：钟兴进，何淑英，何浩梁，林玉章，
申请(专利权)人：广州市鸿浩光电半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：