一种等离子清洗机的真空腔体清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种等离子清洗机的真空腔体清洗装置，包括清洗装置主体；清洗装置主体包括真空箱；真空箱内设置有固定平台；真空平台下表面设置有导柱管；其特征在于：导柱管内安装有等离子清洗机组件；本实用新型专利技术通过在工作状态时，第一伸缩元件和第二伸缩元件均缩进，一个以上的弧形防护罩连接处相互闭合，呈圆管型；在不工作时，第一伸缩元件和第二伸缩元件均伸出，清洗喷头设置于一个以上的弧形防护罩连接处之间，实现清洗喷头的保护和有效的利用空间，防止等离子清洗机组件过大，无法放入真空腔体瓶内。放入真空腔体瓶内。放入真空腔体瓶内。

A vacuum chamber cleaning device for plasma cleaning machine

【技术实现步骤摘要】
一种等离子清洗机的真空腔体清洗装置


[0001]本技术涉及一种等离子清洗机
，具体涉及一种等离子清洗机的真空腔体清洗装置。

技术介绍

[0002]等离子清洗机也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果，等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态，对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态，等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团和激发态的核素（亚稳态）、光子等，等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁和涂覆等目的；
[0003]现有技术中的等离子清洗机上的等离子喷头大多暴露在视野下，容易触碰到，导致等离子喷头的损坏，且等离子清洗机在对真空腔体瓶内进行清洗时，等离子喷头的冲击力可能会到导致瓶身偏移，导致真空腔体瓶内清洗不均匀。

技术实现思路

[0004]本技术所要解决的技术问题是提供了一种等离子清洗机的真空腔体清洗装置，通过在工作状态时，第一伸缩元件和第二伸缩元件均缩进，一个以上的弧形防护罩连接处相互闭合，呈圆管型；在不工作时，第一伸缩元件和第二伸缩元件均伸出，清洗喷头设置于一个以上的弧形防护罩连接处之间，实现清洗喷头的保护和有效的利用空间，防止等离子清洗机组件过大，无法放入真空腔体瓶内。
[0005]本技术等离子清洗机的真空腔体清洗装置是通过以下技术方案来实现的：包括清洗装置主体；清洗装置主体包括真空箱；真空箱内设置有真空平台；真空平台下表面设置有导柱管；其特征在于：导柱管内安装有等离子清洗机组件；
[0006]等离子清洗机组件包括加强杆；加强杆外侧面内嵌式设置有一个以上的第一伸缩元件和一个以上的第二伸缩元件；第一伸缩元件外侧安装有弧形防护罩；在第一伸缩元件和第二伸缩元件均缩进状态下，一个以上的弧形防护罩连接处相互闭合，呈圆管型；
[0007]第二伸缩元件端面安装有清洗喷头；在第一伸缩元件和第二伸缩元件均伸出状态下，清洗喷头设置于一个以上的弧形防护罩连接处之间。
[0008]作为优选的技术方案，加强杆端面设置有输注孔；输注孔连接清洗喷头；
[0009]导柱管内上端安装有伸缩底座；伸缩底座下端面安装有伸缩柱；伸缩柱连接加强杆；伸缩柱侧面安装有伸缩注料管；伸缩注料管与输注孔导通。
[0010]作为优选的技术方案，导柱管外侧安装有固定环；固定环内安装有螺母；固定环内侧面安装有第一凹槽环和第二凹槽环，外侧面设置有避位槽；避位槽与第二凹槽环导通；螺母内侧设置有螺纹牙；外侧设置有滑块和齿牙；滑块固定于第一凹槽环内；齿牙设置于第二凹槽环内。
[0011]作为优选的技术方案，导柱管外侧安装有支架；支架侧面安装有电机；电机下端安装有转轴；转轴另一端安装有齿轮；齿轮一端安装于避位槽内，并与齿牙啮合。
[0012]作为优选的技术方案，真空箱内安装有底座；底座相对两侧设置有第一滑动支架；第一滑动支架上端安装有第二支架；真空平台连接第二支架；真空平台下端安装有第一安装座；导柱管上表面安装第二安装座；第二安装座连接第一安装座；底座上表面安装有锁紧支架。
[0013]本技术的有益效果是：
[0014]1、通过在工作状态时，第一伸缩元件和第二伸缩元件均缩进，一个以上的弧形防护罩连接处相互闭合，呈圆管型；在不工作时，第一伸缩元件和第二伸缩元件均伸出，清洗喷头设置于一个以上的弧形防护罩连接处之间，实现清洗喷头的保护和有效的利用空间，防止等离子清洗机组件过大，无法放入真空腔体瓶内；
[0015]2、在导柱管上安装有电机驱动的齿轮，在固定环内安装螺母，并在螺母内侧设置有螺纹牙；外侧设置有齿牙，将齿轮与齿牙啮合，实现螺纹牙与真空腔体瓶处的螺纹啮合，实现等离子清洗机组件与真空腔体瓶固定，实现等离子清洗机组件对真空腔体瓶的均匀清洗。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1为本技术等离子清洗机的真空腔体清洗装置的示意图；
[0018]图2为导柱管的示意图；
[0019]图3为等离子清洗机组件安装于导柱管内的剖面图；
[0020]图4为固定环的示意图；
[0021]图5为等离子清洗机组件的示意图一；
[0022]图6为等离子清洗机组件的示意图二。
具体实施方式
[0023]本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。
[0024]本说明书（包括任何附加权利要求、摘要和附图）中公开的任一特征，除非特别叙述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述，每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。
[0025]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“一端”、“另一端”、“外侧”、“上”、“内侧”、“水平”、“同轴”、“中央”、“端部”、“长度”、“外端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0026]此外，在本技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
[0027]本技术使用的例如“上”、“上方”、“下”、“下方”等表示空间相对位置的术语是出于便于说明的目的来描述如附图中所示的一个单元或特征相对于另一个单元或特征的关系。空间相对位置的术语可以旨在包括设备在使用或工作中除了图中所示方位以外的不同方位。例如，如果将图中的设备翻转，则被描述为位于其他单元或特征“下方”或“之下”的单元将位于其他单元或特征“上方”。因此，示例性术语“下方”可以囊括上方和下方这两种方位。设备可以以其他方式被定向（旋转90度或其他朝向），并相应地解释本文使用的与空间相关的描述语。
[0028]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“套接”、“连接”、“贯穿”、“插接”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0029]如图1－图6所示，本技术的一种等离子清洗机的真空腔体清洗装置，包括清洗装置主体；清洗装置主体包括真空箱1；真空箱1内设置有真空平台200；真空平台200下表面设置有导柱本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子清洗机的真空腔体清洗装置，包括清洗装置主体；所述清洗装置主体包括真空箱（1）；所述真空箱（1）内设置有真空平台（200）；所述真空平台（200）下表面设置有导柱管（6）；其特征在于：所述导柱管（6）内安装有等离子清洗机组件；所述等离子清洗机组件包括加强杆（100）；所述加强杆（100）外侧面内嵌式设置有一个以上的第一伸缩元件（102）和一个以上的第二伸缩元件（103）；所述第一伸缩元件（102）外侧安装有弧形防护罩（107）；在第一伸缩元件（102）和第二伸缩元件（103）均缩进状态下，一个以上的弧形防护罩（107）连接处相互闭合，呈圆管型；所述第二伸缩元件（103）端面安装有清洗喷头（105）；在第一伸缩元件（102）和第二伸缩元件（103）均伸出状态下，清洗喷头（105）设置于一个以上的弧形防护罩（107）连接处之间。2.根据权利要求1所述的等离子清洗机的真空腔体清洗装置，其特征在于：所述加强杆（100）端面设置有输注孔（101）；所述输注孔（101）连接清洗喷头（105）；所述导柱管（6）内上端安装有伸缩底座（21）；所述伸缩底座（21）下端面安装有伸缩柱（22）；所述伸缩柱（22）连接加强杆（100）；伸缩柱（22）侧面安装有伸缩注料管（23）；所述伸缩注料管（23）与输注孔（101）导通。3.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢海峰，
申请(专利权)人：深圳三和波达机电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：