【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于安装光学系统的方法
[0001]本专利技术涉及用于装配光学系统的方法、用于操作光学系统的方法、数据处理设备以及计算机程序产品。
[0002]通过引用将优先权申请DE 10 2019 218 925.3的全部内容并入本文。
技术介绍
[0003]微光刻用于制造微结构部件,例如集成电路。使用具有照明系统和投射系统的光刻设备执行微光刻工艺。通过照明系统照明的掩模(掩模母版)的像,在这种情况下,通过投射系统投射至涂覆有感光层(光刻胶)且布置在投射系统的像平面中的基板(例如硅晶片)上,以便将掩模结构转印至基板的感光涂层。
[0004]诸如投射系统(也称为投射镜头或投射光学盒
‑
POB)的光学系统的构造需要在所有六个自由度中以微米量级精确定位光学表面和其他功能面(例如,在止挡件或端部止挡件上)。在该过程中,对功能面处于安装状态下的位置的直接测量通常是不可能的。
[0005]另一个难点来自以下事实,功能面的所需的安装准确度显著低于部件或单独部分的制造准确度,或者要非常准确地制造与接触体和参考面相关的功能面需要大量费用。因此,通常的做法是在单独部分的接口处(例如在接触面或螺纹连接处)插入可调间隔体。如果最初安装的一组间隔体不能达到功能面的所需位置准确度,则该组由新的一组间隔体替换或单独调整,特别是磨光或抛光。通常,依次调整六个自由度,以导致多个调整环路。附加的调整回路是由间隔体的有效方向通常不彼此正交,即不彼此解耦的情况引起的。这增加了制造光学系统所需的时间,从而增加了成本。如果必须单独 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
【国外来华专利技术】1.一种用于装配特别是光刻设备(100A、100B)的光学系统(104)的方法,包括以下步骤:a)测量(S700、S702)所述光学系统(104)的单独部分K1
–
KN以达到提供测量数据(MEM、OEM)的目的,其中N>1,b)借助于所提供的测量数据(MEM、OEM)虚拟化(S704)所述单独部分K1
–
KN并通过将多个虚拟化的单独部分K1
–
KN几何形式地串接在一起根据所述虚拟化的单独部分K1
–
KN生成(S708)实际装配模型(IMM),所述实际装配模型(IMM)包含所述虚拟化的单独部分K1
–
KN的处于虚拟装配状态下的虚拟实际位置(P
actual
、P
actual_KN
‑1、P
actual_K2
),c)基于所述实际装配模型(IMM)和目标装配模型(SMM)确定(S710)校正措施,所述目标装配模型(SMM)包含所述虚拟化的单独部分K1
–
KN中的一个或多个处于所述虚拟装配状态下的虚拟目标位置(P
target
),以及d)使用所述校正措施装配(S712)所述单独部分K1
‑
KN以形成所述光学系统(104)。2.根据权利要求1所述的方法,还包括:通过将所述虚拟化的单独部分K1
–
KN几何形式地串接在一起来生成所述实际装配模型(IMM),以及基于所述虚拟化的单独部分KN的虚拟实际位置(P
actual
)与所述虚拟化的单独部分KN的虚拟目标位置(P
target
)之间的比较确定步骤c)中的所述校正措施。3.根据权利要求1所述的方法,还包括:通过将所述虚拟化的单独部分K1和KN固定在它们的来自所述目标装配模型(SMM)的目标位置(P
target
)处来生成所述实际装配模型(IMM),将虚拟化的单独部分K2
–
KN
‑
1与K1和/或KN几何形式地串接在一起,以及基于至少两个虚拟化的单独部分K2
–
KN
‑
1的虚拟实际位置(P
actual_KN
‑1、P
actual_K2
)来确定步骤c)中的所述校正措施。4.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的方法,其中,将步骤d)中的所述校正措施应用于所述单独部分KN
‑
1或者应用于所述单独部分KN
‑
1和KN之间的区域,特别是间隙(V)。5.根据权利要求1
‑
4中任一项所述的方法,其中,所述单独部分KN包括:光学元件,特别是反射镜、透镜元件、光栅和/或波片,或止挡件,传感器和/或端部止挡件,和/或其中,所述单独部分KN
‑
1包括机械部件、机电部件,特别是致动器,和/或承载件。6.根据权利要求1
‑
5中任一项所述的方法,其中,所述校正措施包括:插入间隔体(304),特别是在所述单独部分K1
‑
KN中的两个之间,调整特别是将所述单独部分K1
‑
KN中的两个彼此紧固的紧固装置的游隙,和/或调整机电部件的操作点,特别是作为所述单独部分K1
‑
KN中的一个的组成部分的致动器的操作点。7.根据权利要求5或6所述的方法,其中,步骤c)中的所述校正措施是基于所述致动器的可用致动器行程来确定的。8.根据权利要求1
‑
7中任一项所述的方法,其中,N>5或10。9.根据权利要求1
‑
8中任一项所述的方法,其中,在步骤c)中确定所述单独部分K1
‑
KN中的两个之间的间隙(V),并且在步骤d)中将间隔体插入到所述间隙中。10.根据权利要求1
‑
9中任一项所述的方法,其中,根据步骤c)的所述校正措施至少与
第一和第二自由度(x,y,z)有关。11.根据权利要求10所述的方法,其中,在步骤d)中,所述校正措施应用于所述单独部分K1
‑
KN中的第一个或者在所述第一自由度(x)的第一对单独部分K1
‑
KN之间,并且应用于所述单独部分K1
技术研发人员:J多恩,S弗里茨切,W格林,P尼兰,
申请(专利权)人:卡尔蔡司SMT有限责任公司,
类型:发明
国别省市:
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