一种低水份二氧化氯汽化制备装置制造方法及图纸

技术编号:34097532 阅读:36 留言:0更新日期:2022-07-11 22:40
本实用新型专利技术公开一种低水份二氧化氯汽化制备装置,其中,低水份二氧化氯汽化制备装置包括:反应模块、搅拌装置、存储罐体和输送模块。反应模块设有第一搅拌腔室和气体腔室,所述气体腔室设于所述第一搅拌腔室的上侧,且与所述第一搅拌腔室连通;搅拌装置包括分体设置且磁性连接的定子和转子,所述转子设于所述第一搅拌腔室,所述转子设于所述第一搅拌腔室的底壁下侧;存储罐体与所述第一搅拌腔室连通;输送模块包括第一泵体和第二泵体,所述第一泵体设于所述存储罐体与所述第一搅拌腔室连通的连通管上,所述第二泵体与所述气体腔室连通。本实用新型专利技术技术方案可以降低二氧化氯中的水含量。水含量。水含量。

A low moisture chlorine dioxide vaporization preparation device

【技术实现步骤摘要】
一种低水份二氧化氯汽化制备装置


[0001]本技术涉及二氧化氯制备
,特别涉及一种低水份二氧化氯汽化制备装置。

技术介绍

[0002]二氧化氯属于高效消毒剂,可对空气物表进行消毒。但现有的机器设备中常见的是以加热熏蒸二氧化氯溶液、雾化二氧化氯溶液来制造生成消毒杀菌气体。
[0003]熏蒸法是通过加热将二氧化氯从溶液中逸出,但以该方法制备二氧化氯的机器设备生成的二氧化氯大多数的水分含量较高,会改变空气的湿度,较多需要干燥的环境和场合并不适用。

技术实现思路

[0004]本技术的主要目的是提供一种低水份二氧化氯汽化制备装置,旨在实现二氧化氯与制备溶液的气液分离。
[0005]为实现上述目的,本技术提出的低水份二氧化氯汽化制备装置,包括:反应模块、搅拌装置、存储罐体和输送模块。反应模块设有第一搅拌腔室和气体腔室,所述气体腔室设于所述第一搅拌腔室的上侧,且与所述第一搅拌腔室连通;搅拌装置包括分体设置且磁性连接的定子和转子,所述转子设于所述第一搅拌腔室,所述转子设于所述第一搅拌腔室的底壁下侧;存储罐体与所述第一搅拌腔室连通;输送模块包括第一泵体和第二泵体,所述第一泵体设于所述存储罐体与所述第一搅拌腔室连通的连通管上,所述第二泵体与所述气体腔室连通。
[0006]可选地,所述第一搅拌腔室的直径小于气体腔室,所述第一搅拌腔室和所述气体腔室的连接位置设有引流侧壁,所述引流侧壁呈向下渐缩设置。
[0007]可选地,所述反应模块至少包括一腔体。
[0008]可选地,所述反应模块包括相互连通的第一腔体和第二腔体。
[0009]可选地,所述第一腔体设有所述第一搅拌腔室和所述气体腔室,所述第二腔体设有第二搅拌腔室。
[0010]可选地,所述定子包括第一搅拌件和第二搅拌件,所述第一搅拌件设于所述第一搅拌腔室,所述第二搅拌件设于所述第二搅拌腔室。
[0011]可选地,所述第一搅拌件设有呈十字的第一搅拌头;和/或所述第二搅拌件设有多个第二搅拌头,多个所述第二搅拌头在周向方向上均布于所述第二搅拌件。
[0012]可选地,所述罐体包括第一存储罐和第二存储罐,所述第一存储罐和所述第二存储罐均与所述第一搅拌腔室连通。
[0013]可选地,所述低水份二氧化氯汽化制备装置还包括换瓶模块和安装座;所述换瓶模块包括导轨、滑块和连接板,所述导轨设于所述安装座,且沿高度方向向上延伸,所述滑块滑动设于所述导轨,所述滑块连接有连接板,所述连接板上开设有第一吸液针和第二吸
液针,所述第一吸液针可活动穿设于所述第一存储罐的顶部,所述第二吸液针可活动穿设于所述第二存储罐的顶部。
[0014]可选地,所述第一泵体配置为蠕动泵,所述第二泵体配置为气泵。
[0015]本技术技术方案通过第一泵体将存储罐体中的待反应液体输送至第一搅拌腔室进行反应,反应中的液体在搅拌装置的高速搅拌下提升了反应效率并且实现了气体的溢出,具体而言,搅拌装置包括分体设置的定子和转子,转子设于所述第一搅拌腔室参与搅拌,定子设于第一搅拌腔室的底壁下侧,为转子的转动提供动力。第一泵体设于存储罐体与第一搅拌腔室连通的连通管上,第一泵体持续地将待反应液体输送至第一搅拌腔室,第二泵体持续地将气体泵入气体腔室,通过将气体泵入气体腔室的方式将产生的消毒气体吹出。本技术通过搅拌装置,以高速旋转搅拌的方法,在室温下使二氧化氯气体从溶液中分离出来并输送到环境中,实现二氧化氯的高效气液分离。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0017]图1为本技术低水份二氧化氯汽化制备装置一实施例的结构示意图;
[0018]图2为本技术低水份二氧化氯汽化制备装置一实施例的结构示意图;
[0019]图3为本技术低水份二氧化氯汽化制备装置的反应模块一实施例的结构示意图;
[0020]图4为本技术低水份二氧化氯汽化制备装置的反应模块剖视图;
[0021]图5为本技术低水份二氧化氯汽化制备装置的换瓶模块的结构示意图;
[0022]图6为本技术低水份二氧化氯汽化制备装置的第一搅拌装置结构示意图;
[0023]图7为本技术低水份二氧化氯汽化制备装置的第一搅拌件结构示意图;
[0024]图8为本技术低水份二氧化氯汽化制备装置的第二搅拌装置结构示意图;
[0025]图9为本技术低水份二氧化氯汽化制备装置的第二搅拌件结构示意图。
[0026]附图标号说明:
[0027][0028][0029]本技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
[0030]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0031]需要说明,本技术实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。
[0032]在本技术中,除非另有明确的规定和限定,术语“连接”、“固定”等应做广义理解,例如,“固定”可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可
以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0033]另外,若本技术实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述,则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地至少包括一个该特征。另外,全文中出现的“和/或”的含义,包括三个并列的方案,以“A和/或B”为例,包括A方案、或B方案、或A和B同时满足的方案。另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本技术要求的保护范围之内。
[0034]本技术提出一种低水份二氧化氯汽化制备装置。
[0035]参考图1至图9,在本技术一实施例中,该低水份二氧化氯本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种低水份二氧化氯汽化制备装置,其特征在于,包括:反应模块,设有第一搅拌腔室和气体腔室,所述气体腔室设于所述第一搅拌腔室的上侧,且与所述第一搅拌腔室连通;搅拌装置,包括分体设置且磁性连接的定子和转子,所述转子设于所述第一搅拌腔室,所述定子设于所述第一搅拌腔室的底壁下侧;存储罐体,与所述第一搅拌腔室连通;以及输送模块,包括第一泵体和第二泵体,所述第一泵体设于所述存储罐体与所述第一搅拌腔室连通的连通管上,所述第二泵体与所述气体腔室连通。2.如权利要求1所述的低水份二氧化氯汽化制备装置,其特征在于,所述第一搅拌腔室的直径小于气体腔室,所述第一搅拌腔室和所述气体腔室的连接位置设有引流侧壁,所述引流侧壁呈向下渐缩设置。3.如权利要求1所述的低水份二氧化氯汽化制备装置,其特征在于,所述反应模块至少包括一腔体。4.如权利要求3所述的低水份二氧化氯汽化制备装置,其特征在于,所述反应模块包括相互连通的第一腔体和第二腔体。5.如权利要求4所述的低水份二氧化氯汽化制备装置,其特征在于,所述第一腔体设有所述第一搅拌腔室和所述气体腔室,所述第二腔体设有第二搅拌腔室。6.如权利要求5所述的低水份二氧化...

【专利技术属性】
技术研发人员:贾红伟韩玉辉赵兵
申请(专利权)人:深圳市安保医疗感控科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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