【技术实现步骤摘要】
一种管式炉系统
[0001]本技术涉及生产工艺设备领域，尤其涉及一种管式炉系统。
技术介绍
[0002]管式炉主要运用于半导体加工、光伏、冶金，热处理，新能源等领域。传统的管式炉设备的保温层通常使用石膏等材料，接近完全密闭，起到很好的保温效果，减少了升温段和恒温段的热量损失。但与此同时保温层的存在也导致了设备降温时候无法及时散热，需要大量的时间来完成降温。半导体和光伏上有大量的高温工艺，需要用管式设备来完成，包含扩散炉，氧化炉，退火炉，PECVD，LPCVD等设备。
[0003]近年来随着设备不断发展，管式炉管径不断变大，长度不断加长。整个管式炉系统热质量不断增加，导致整个工艺流程中，降温所需的时间越来越长，降温的时间占比越来很大。
[0004]另一方面，由于管式设备的设计特点，炉门位于管式炉的两端，靠近炉门的位置处降温效果明显优于中间部分，这就导致了管式炉的载具的在长度方向上的降温速率不均匀，容易造成载具损坏。
[0005]因此，有必要开发一种新型管式炉系统，以避免现有技术存在的上述问题。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种管式炉系统，其特征在于，包括：管式炉体，所述管式炉体为中空圆柱体结构；加热炉丝，所述加热炉丝缠绕于所述管式炉体的外壁；保温体，所述保温体覆盖所述加热炉丝；冷却介质管道，所述冷却介质管包括输入端和输出端，所述输入端和所述输出端穿过所述保温体插入所述加热炉丝，以向所述加热炉丝内部通入冷却介质；所述输入端设置于所述加热炉丝轴向上的中心区域，所述输出端设置于所述加热炉丝轴向上的两端区域。2.根据权利要求1所述的管式炉系统，其特征在于，所述输入端自所述中心区域向所述两端区域排列，所述输出端自所述两端区域向所述中心区域排列，所述输出端覆盖所述加热炉丝的轴向距离大于所述输入端覆盖所述加热炉丝的轴向距离。3.根据权利要求2所述的管式炉系统，其特征在于，若干所述输入端在所述加热炉丝上沿周向间隔分布，若干...
【专利技术属性】
技术研发人员：戴虹，王鹏，林罡，崔慧敏，施艇，朱加宽，
申请(专利权)人：理想晶延半导体设备上海股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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