一种提高背面反射率的碱刻蚀配液槽制造技术

本实用新型专利技术公开了一种提高背面反射率的碱刻蚀配液槽，包括配液槽和出液口，配液槽内设有用于对刻蚀液进行中和的反应区、对刻蚀液进行混合的混流区和用于对刻蚀液内粘性沉淀物进行沉淀的沉淀区，反应区、混流区和沉淀区依次设置在配液槽内部，反应区包括用于对配液进行导入的入液管，混流区包括用于对配液进行混合的混合隔板，沉淀区包括用于对配液进行沉淀的沉淀板，混合隔板和沉淀板均与配液槽可拆洗连接，反应区能够对导入放入刻蚀液和添加补充剂进行中和反应，使得添加剂能够与刻蚀液进行混合，混流区能够带动刻蚀配液充分的进行混合导流，沉淀区能够对配液进行沉淀检测，提高刻蚀配液的效率和质量，从而提高硅片在蚀刻后的背面反射率。的背面反射率。的背面反射率。

An alkaline etching solution tank for improving the reflectivity of the back surface

【技术实现步骤摘要】
一种提高背面反射率的碱刻蚀配液槽


[0001]本技术涉及太阳能硅片领域，具体是一种提高背面反射率的碱刻蚀配液槽。

技术介绍

[0002]蚀刻液，通过侵蚀材料的特性来进行雕刻的一种液体。从理论上讲，凡能氧化铜而生成可溶性铜盐的试剂，都可以用来蚀刻敷铜箔板，但权衡对抗蚀层的破坏情况、蚀刻速度，蚀刻系数、溶铜容量、溶液再生及铜的回收、环境保护及经济效果等方面，电路板行业大量使用含氨的碱性氯化铜蚀刻液，由于需要添加氨水或充氨气，在碱性条件下使用，一般称为碱性蚀刻液。这种蚀刻液具有蚀刻速度快、侧蚀小、溶铜量高、循环使用成本低、适应性广、可自动控制等优点。
[0003]CB碱性蚀刻的原理：利用干膜、湿膜、锡层、镍金属层的抗蚀性能来保护有效图形部分，通过碱性氯化氨铜溶液蚀去无抗蚀层保护的铜面，然后再根据板的种类以不同处理方法退除抗蚀层。
[0004]影响蚀刻速率的因素，蚀刻液中的Cu含量、pH值、氯化铵浓度、添加剂含量以及蚀刻液的温度对蚀刻速率均有影响，Cu含量蚀刻液中的Cu绝大部分是以铜氨络离子[Cu(NH)12形式存在，一般以化验的Cu含本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种提高背面反射率的碱刻蚀配液槽，包括配液槽(1)和出液口(2)，其特征在于：所述配液槽(1)内设有用于对刻蚀液进行中和的反应区、用于对刻蚀液进行混合的混流区和用于对刻蚀液内粘性沉淀物进行沉淀的沉淀区，反应区、混流区和沉淀区依次设置在配液槽(1)内部，反应区包括用于对配液进行导入的入液管，混流区包括用于对配液进行混合的混合隔板(12)，沉淀区包括用于对配液进行沉淀的沉淀板(16)，混合隔板(12)和沉淀板(16)均与配液槽(1)可拆洗连接。2.根据权利要求1所述的一种提高背面反射率的碱刻蚀配液槽，其特征在于:所述反应区包括用于对刻蚀液进行初步中和的中和反应台(5)，中和反应台(5)内部设有储液腔，入液管包括用于将刻蚀液进行导入的主入液管(6)和用于对添加剂组成补充液进行导入的辅助入液管(7)，储液腔内部设有用于感应配液液位的液位传感器(8)，储液腔底部设有送液一口(10)，送液一口(10)上设有用于将配液导入混流区的智能控制阀(9)，智能控制阀(9)与液位传感器(8)电连接。3.根据权利要求1所述的一种提高背面反射率的碱刻蚀配液槽，其特征在于:所述混流区包括用于对配液进行搅拌的若干搅拌扇叶(11)，搅拌扇叶(11)设置在混合隔板(12)上，混合隔板(12)呈...

【专利技术属性】
技术研发人员：张尧羲，马传兵，王旭，
申请(专利权)人：江苏华恒新能源有限公司，
类型：新型
国别省市：