激光退火设备及系统技术方案

本申请提供了一种激光退火设备及系统，激光退火设备包括：激光装置和光学补偿装置；激光装置用于向光学补偿装置发射激光光束；光学补偿装置包括分束结构和翻转结构；分束结构用于对激光光束进行反射和透射，分别得到第一光束和第二光束，并将第一光束和能量翻转后的第二光束叠加后输出；翻转结构位于分束结构的远离入射光束的一侧，用于对第二光束进行能量翻转。本申请的技术方案可提高激光光束的能量均一性。一性。一性。

【技术实现步骤摘要】
激光退火设备及系统


[0001]本申请涉及显示器制备
，尤其涉及一种激光退火设备及系统。

技术介绍

[0002]在显示装置的制备技术中，通常采用ELA(Excimer Laser Annealing，准分子激光退火)工艺，制备背板中的多晶硅薄膜。具体地，ELA设备可采用准分子激光束对基板上的非晶硅(A
‑
Si)进行短时间照射，使其熔融后再结晶变成多晶硅(P
‑
Si)薄膜。当前ELA工艺中，激光光束在长轴方向和短轴方向上的能量通常是不均匀的，在对非晶硅进行照射时，非晶硅单位面积内受热不均匀，导致非晶硅熔融再结晶后多晶硅晶粒存在较大区域性差异，进而容易显示不良。

技术实现思路

[0003]本申请实施例提供一种激光退火设备及系统，以解决相关技术存在的问题，技术方案如下：
[0004]第一方面，本申请实施例提供了一种激光退火设备，包括：激光装置和光学补偿装置；
[0005]激光装置用于向光学补偿装置发射激光光束；
[0006]光学补偿装置包括分束结构和翻转结构；
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种激光退火设备，其特征在于，包括：激光装置和光学补偿装置；所述激光装置用于向所述光学补偿装置发射激光光束；所述光学补偿装置包括分束结构和翻转结构；所述分束结构用于对所述激光光束进行反射和透射，分别得到第一光束和第二光束，并将所述第一光束和能量翻转后的第二光束叠加后输出；所述翻转结构位于所述分束结构的远离入射光束的一侧，用于对所述第二光束进行能量翻转。2.根据权利要求1所述的激光退火设备，其特征在于，所述分束结构包括分束镜；所述分束镜的表面具有氟化镁膜层。3.根据权利要求2所述的激光退火设备，其特征在于，所述分束镜的反射率和透射率均为50％。4.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的激光退火设备，其特征在于，所述翻转结构包括：至少两个反射镜；所述至少两个反射镜用于对所述第二光束进行至少两次反射，使所述第二光束被反射至所述分束结构。5.根据权利要求4所述的激光退火设备，其特征在于，所述翻转结构中所述反射镜的数量为偶数。6.根据权利要求5所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：李若尧，路兆里，全祥皓，刘松林，江玲，易靖洋，陈科全，刘晓锋，熊月，张苁，王云飞，于泽，黄万奇，王丙海，罗平，程正东，罗晓霜，倪仁旺，季子云，曹烘燕，
申请(专利权)人：重庆京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：