【技术实现步骤摘要】
基板式传感器及测量化学品的冲击点及冲击力的方法
[0001]本文描述的本专利技术构思的实施例涉及基板式传感器及测量化学品的冲击点及冲击力的方法。
技术介绍
[0002]为了制造半导体装置或平板显示面板,在基板上进行各种工艺,诸如光刻工艺、灰化工艺、蚀刻工艺、离子植入工艺、薄膜沉积工艺及清洗工艺,其中清洗工艺为移除残留在基板上的颗粒的工艺,且在每一工艺前后的步骤中进行。
[0003]根据基板的表面特性不同地应用清洁工艺。特别地,当疏水化基板表面或清洁疏水化的表面时,执行化学处理步骤及润湿处理步骤。在旋转的同时向基板供应化学品,然后供应润湿液。此外,可在借助供应化学润湿液等液体来处理基板的工艺前后,向基板供应惰性气体等气体进行干燥等。
[0004]在供应液体及气体等流体的所述工艺中,供应有流体的基板上的位置影响所述工艺。因此,需要精确地设置喷嘴以将流体供应至基板上的正确位置。
[0005]此外,不易确定基板上的流体供应点是否偏离正确位置,且不易确定所供应的气体及液体的供应量或供应压力是否存在异常。 >
技术实现思路
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基板式传感器,其包括:基板状构件;压力传感器面板,其设置在所述基板状构件处,所述压力传感器面板包括多个压力传感器;中央模块,其包括接收单元,所述接收单元从所述压力传感器面板接收数据;以及电池,其用于向所述压力传感器面板及所述中央模块供电。2.根据权利要求1所述的基板式传感器,其中所述基板状构件具有与基板实质相同的物理尺寸。3.根据权利要求1所述的基板式传感器,其进一步包括发送单元,所述发送单元用于将从所述接收单元接收到的所述数据发送至外部。4.根据权利要求3所述的基板式传感器,其中所述发送单元包括无线通信模块。5.根据权利要求1所述的基板式传感器,其中所述压力传感器面板包括:前压力传感器面板,其设置在所述基板状构件的前部;以及后压力传感器面板,其设置在所述基板状构件的背部。6.根据权利要求1所述的基板式传感器,其中所述中央模块和所述电池设置在所述基板状构件的前部。7.根据权利要求1所述的基板式传感器,其中所述基板式传感器设置在使用化学品对基板进行液体处理的设备处,并且所述压力传感器面板安装在所述化学品排放的位置附近或安装在整个所述基板状构件上。8.根据权利要求1所述的基板式传感器,其中所述多个压力传感器按行和列排列。9.根据权利要求1所述的基板式传感器,其中所述基板式传感器设置在利用化学品对基板进行液体处理的液体处理设备处,并且所述压力传感器测量所述化学品的冲击点和冲击力中的一者或多者。10.根据权利要求9所述的基板式传感器,其中所述液体处理设备包括:支撑单元,其用于支撑所述基板;喷嘴,其用于将第一化学品排放至设置在所述支撑单元上的所述基板的顶表面;以及背部喷嘴,其用于将第二化学品排放至设置在所述支撑单元上的所述基板的底表面,并且所述压力传感器面板包括:前压力传感器面板,其设置在所述基板的前部;以及后压力传感器面板,其设置在所述基板的背部;并且所述前压力传感器面板测量所述喷嘴的所述第一化学品的冲击点及冲击力中的一者或多者,并且所述后压力传感器面板测量所述背部喷嘴的所述第二化学品的冲击点及冲击力中的一者或多者。11.一种测量从用于对基板进行液体处理的液体处理设备的喷嘴排放的化学品的冲击点及冲击力的方法,所述方法包括:将根据权利要求1所述的基板式传感器定位在所述液体处理设备处;以及在所述基板式传感器上排放化学品。
12.根据权利要求11所述的方法,其中所述液体处理设备包括:支撑单元,其用于支撑所述基板;以及喷嘴,其用于将第一化学品排放至设置在所述支撑单元上的所述基板的顶表面上;并且所述方法进一步包括:在将所述第一化学品排放至所述基板式传感器的...
【专利技术属性】
技术研发人员:崔永燮,徐溶晙,孙相睍,李俊权,金学贤,朴善用,
申请(专利权)人:细美事有限公司,
类型:发明
国别省市:
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