一种三氟化氯合成方法技术

技术编号:33932799 阅读:21 留言:0更新日期:2022-06-25 22:42
本发明专利技术公开了一种节能减排的三氟化氯合成制备方法,采用原料氟气和氮气的混合气,混合气和氯气首先进入静态混合器充分混合,混合后物料进入热量回收器,物料中的原料被预热,产物预冷,反应热量被回收利用,达到节能的效果,原料预热后进入列管式反应器,反应产物在经热量回收器降温后,进入吸附柱,将反应产生的氟化氢杂质吸附脱除,反应产物脱除氟化氢杂质后进入冷凝器,将原料液化后进入气液分离器,液相进入收集钢瓶,得到三氟化氯。本发明专利技术回收利用反应热量、装置能耗低,同时可以脱除氟化氢杂质,反应收率高,产品纯度高,反应收率高。高。

【技术实现步骤摘要】
一种三氟化氯合成方法


[0001]本专利技术属于气体纯化领域,特别涉及一种三氟化氯节能合成方法。

技术介绍

[0002]三氟化氯(ClF3)作为半导体生产用清洗气体,已在聚硅、SiN等低压化学气相沉积(LPCVD)和无结晶合金硅的等离子体CVD等方面使用。半导体制造种化学气相沉积(CVD)过程是,采用热量或等离子体作为能源使源气体在硅基片上分解。由来自硅片(冷壁反应器)或加热炉(热壁反应器)的热量来推动低压化学汽相淀积过程中的(LPCVD)膜生成反应的进行。冷壁LPCVD反应器是典型的单硅片生产装置,而LPCVD加热炉可成批处理硅片。在等离子体增强化学汽相淀积过程中(PECVD),由RF(射频)或微波辉光放电中的热(~5eV)电子分解源气体。在进行CVD期间,材料不仅淀积在硅基片上,而且还淀积在工艺室的室壁上。因此,对工艺室要定期进行清洗以除去脱落下来的粒子。就地清洗之所以被需要,是因为采用这种清洗过程不用拆开工艺室就可除去固体残留物。用氟气就地清洗PECVD和LPCVD(冷壁)的工艺室,已成功地使用多年。用氟气清洗时,氟原子与固体残留物反应生成易挥发的反应产物,再由泵将该产物从系统中抽走。因为没有可供利用的热能,必须用等离子体来生成活性氟物质。与其它含氟气体(如NF3、C2F6和CF4)不同,ClF3在室温下能与半导体材料进行反应。因为ClF3具有这种反应特性,所以不必用等离子体就可用它来清洗冷壁的CVD工艺室。用ClF3进行清洗是一种化学刻蚀过程,而不存在像二极管RF等离子体那样的高能离子轰击过程。没有了离子轰击过程,对工艺室的损坏可降到最低限度,并且已被事实证明还可延长两次湿式清洗的间隔时间。
[0003]三氟化氯反应活性极高,基本上能和绝大多数物质反应,并且具有腐蚀性和剧毒性,对实验和生产工艺控制及设备材料要求极高,使得对它的研究、生产和应用研究较少。专利CN104477849B介绍了一种三氟化氯的制备方法,采用液相氯化物和氟气反应的方式进行反应得到三氟化氯,此方法反应转化率高,副产物易分离,但是反应在100~400℃温度下进行,没有进行反应热量回收利用,工艺装置节能方面需要提升。专利CN104477850B介绍了氟气、氯气和稀释气进入催化反应器中进行反应得到三氟化氯的方法,缩短了反应器的长度、简化了生成工艺,该反应同样是在100~400℃温度下进行,也没有进行反应热量回收利用。同时因为生成三氟化氯的过程中不可避免的会产生氟化氢,两个专利中都没有说明对氟化氢杂质的脱除方法,并且两个专利中都采用填料反应器,反应器内部温度分布不均匀。

技术实现思路

[0004]为解决上述技术问题,本专利技术提供了一种节能的三氟化氯合成方法,回收利用反应热量、装置能耗低,同时可以脱除氟化氢杂质,反应收率高,产品纯度高。
[0005]本专利技术的技术方案是:一种三氟化氯合成制备方法,具有以下步骤:
[0006]1)、混合氮气与氟气;
[0007]2)、将氮气和氟气混合气与氯气充分混合,成为反应原料气;
[0008]3)、将反应原料气送入热量回收器;反应原料气中的氟气与氯气开始反应生成反应产物,在热量回收器中同时包含反应产物和原料混合气;原料混合气与反应产物进行热量交换,原料混合气被预热,反应产物被预冷;
[0009]4)、原料混合气经预热后进入列管式反应器继续反应;
[0010]5)、反应产物三氟化氯经热量回收器预冷后进入吸附柱,脱除杂质;
[0011]6)、经吸附柱脱除杂质后反应产物进入冷凝器,在冷凝器中反应产物被冷凝;
[0012]7)、反应产物经冷凝器冷凝后,产物三氟化氯液化,不凝气继续存在于气相中,在气液分离器中,不凝气经气相排至尾气处理系统,液相产品进入收集钢瓶;
[0013]8)、收集钢瓶提前抽真空,并将收集钢瓶放在充满钢瓶的容器中进行降温,得到三氟化氯产品。
[0014]其中,所述第1)步中,氮气减压至0.2MPag,打开MFC1控制氮气流量为2kg/h~10kg/h,来自电解制氟净化后的氟气减压至0.2MPag,打开MFC2控制氟气流量为1kg/h~6kg/h,两种气体混合。
[0015]其中,所述第1)步中,氮气在混合气中所占体积分数为70%。
[0016]其中,所述第2)步中,氯气为钢瓶氯气,打开氯气钢瓶,减压至0.2MPag,打开MFC3控制氯气流量为0.5kg/h~4kg/h,再与氟气和氮气混合气一起进入静态混合器。
[0017]其中,所述第3)步,原料混合气被预热到150℃~250℃,反应产物被冷却到20℃~100℃。
[0018]其中,所述第4)步,列管式反应器反应管中填充氟化锌颗粒作为反应催化剂,颗粒直径3mm

5mm;反应在200℃~300℃下进行,反应压力0.2MPag。
[0019]其中,所述第5)步中,反应产物三氟化氯经热量回收器被预冷到20℃~100℃。
[0020]其中,所述第5)步中,吸附柱内装填氟化钠颗粒,粒径3mm

5mm。
[0021]其中,所述第6)步中,在冷凝器中反应产物被冷凝到

30℃~

10℃。
[0022]其中,所述第7)步中,气液分离器操作温度

5℃~5℃,操作压力0.1~0.2MPag。
[0023]由于氟气和氯气直接反应会非常剧烈,难以控制,故本专利技术采用原料氟气和氮气的混合气,其中氮气体积分数70%,氯气由钢瓶提供,混合气和氯气首先进入静态混合器,将反应物料充分混合利于后续反应,混合后物料进入热量回收器,此时反应已在进行,因此混合气中同时包含原料混合气和反应产物,原料混合气与反应产物进行热量交换,原料混合气被预热,产物预冷,反应热量被回收利用,达到节能的效果;原料混合气预热后进入列管式反应器继续反应,反应产物在经热量回收器降温后,进入吸附柱,将反应产生的氟化氢杂质吸附脱除,反应产物脱除氟化氢杂质后进入冷凝器,将原料混合气液化后进入气液分离器,在气液分离器中不凝气(包括氮气、氧气、氟气、氯气、一氟化氯、五氟化氯、氯化氢等)排出至尾气处理装置,液相进入收集钢瓶,得到三氟化氯。
[0024]针对目前三氟化氯合成中存在的反应热量没有回收利用,装置能耗高,且没有脱除氟化氢杂质的过程,反应器采用填料反应器,反应器内部温度分布不均匀的缺陷,本专利技术提供了一种节能的三氟化氯合成方法,回收利用反应热量、装置能耗低,同时可以脱除氟化氢杂质,反应收率高,产品纯度高;并且,本专利技术反应采用列管式反应器,内部温度更均匀,有利于反应充分进行,提高反应收率。本专利技术节能合成工艺三氟化氯收率可以达到85%,由于增加了分离过程,产品纯度可以达到97%及以上,制备合成工艺中充分进行热量回收,装
置节能约30%左右。
具体实施方式
[0025]下面结合具体实施例对本专利技术的技术方案作进一步的描述,但本专利技术并不限于这些实施例。
[0026]一种三氟本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种三氟化氯合成制备方法,其特征在于,所述三氟化氯合成制备方法具有以下步骤:1)、混合氮气与氟气;2)、将氮气和氟气混合气与氯气充分混合,成为反应原料气;3)、将反应原料气送入热量回收器;反应原料气中的氟气与氯气开始反应生成反应产物,在热量回收器中同时包含反应产物和原料混合气;原料混合气与反应产物进行热量交换,原料混合气被预热,反应产物被预冷;4)、原料混合气经预热后进入列管式反应器继续反应;5)、反应产物三氟化氯经热量回收器预冷后进入吸附柱,脱除杂质;6)、经吸附柱脱除杂质后反应产物进入冷凝器,在冷凝器中反应产物被冷凝;7)、反应产物经冷凝器冷凝后,产物三氟化氯液化,混合气中的不凝气继续存在于气相中,在气液分离器中,不凝气经气相排至尾气处理系统,液相产品进入收集钢瓶;8)、收集钢瓶提前抽真空,并将收集钢瓶放在充满钢瓶的容器中进行降温,得到三氟化氯产品。2.根据权利要求1所述的三氟化氯合成制备方法,其特征在于,所述第1)步中,氮气减压至0.2MPag,打开MFC1控制氮气流量为2kg/h~10kg/h,来自电解制氟净化后的氟气减压至0.2MPag,打开MFC2控制氟气流量为1kg/h~6kg/h,两种气体混合。3.根据权利要求1所述的三氟化氯合成制备方法,其特征在于,所述第1)步中,氮气在混合气中所占体积分数为70%。4.根据权利要求1所述的三氟化氯合成制备方...

【专利技术属性】
技术研发人员:温海涛孙猛
申请(专利权)人:苏州金宏气体股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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