【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种在基片上形成镜面的方法，其特征在于，所述方法包括下列步骤： 在所述基片上形成已形成图案的掩膜层，所述掩膜层覆盖了基片的第一区域以及基片的两侧区域，所述两侧区域的每一侧都邻近所述第一区域的一侧； 使用所述已形成图案的掩膜层将基片的未覆盖部分去除，以在所述第一基片区域中留下第一凸起结构，并在邻近所述第一凸起结构的每侧基片区域上留下两个防蚀凸起结构； 当留下完整的所述第一凸起结构时，选择性地去除防蚀凸起结构；和 在所述第一凸起结构的侧壁上形成反射面。
【技术特征摘要】
...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。