掩模框架制造技术

掩模框架包括：第一水平部分；第二水平部分，设置在第一水平部分下方；至少一个竖直部分，连接第一水平部分和第二水平部分；以及拉伸杆，联接到第一水平部分，并且拉伸杆配置成在拉伸杆的纵向方向上向第一水平部分施加收缩力。缩力。缩力。

【技术实现步骤摘要】
掩模框架


[0001]本专利技术的实施方式总体上涉及掩模框架和制造掩模框架的方法。

技术介绍

[0002]显示装置可以包括多个像素。多个像素中的每个可以包括设置在相对的电极之间的发光层。发光层可以通过各种方法形成，其中之一可以是使用掩模的沉积方法。如果在使用掩模形成发光层的工艺中，掩模的形状由于支承掩模的掩模框架的变形而变形，则可能降低发光层的沉积可靠性。
[0003]在本
技术介绍
部分中公开的以上信息仅用于理解本专利技术构思的
技术介绍
，并且因此，它可以包含不构成现有技术的信息。

技术实现思路

[0004]根据本专利技术的例示性实现方式构造的装置和方法使用具有拉伸杆的掩模框架能够改善在显示装置上的发光层的形成。
[0005]本专利技术的目的在于，提供可改善框架的弯曲变形的掩模框架。
[0006]本专利技术的另一目的在于，提供可改善框架的弯曲变形的制造掩模框架的方法。
[0007]本专利技术构思的其它特征将在下面的描述中进行阐述，并且将从该描述部分地显而易见，或者可以通过本专利技术构思的实践而习得。
[0008]根据实施方式的掩模框架可以包括：第一水平部分；第二水平部分，设置在第一水平部分下方；至少一个竖直部分，连接第一水平部分和第二水平部分；以及拉伸杆，联接到第一水平部分，并且拉伸杆配置成在拉伸杆的纵向方向上向第一水平部分施加收缩力。
[0009]拉伸杆可以联接到第一水平部分的下表面。
[0010]拉伸杆的第一端部区域和拉伸杆的与第一端部区域相对的第二端部区域可以焊接到第一水平部分。
[0011]拉伸杆可以包括第一区域和第二区域，第二区域施加的收缩力的强度与从第一区域施加的收缩力的强度不同。
[0012]拉伸杆可以包括金属。
[0013]拉伸杆可以具有在约50μm至约2mm的范围内的厚度。
[0014]拉伸杆可以包括第一拉伸杆和第二拉伸杆。
[0015]第一拉伸杆和第二拉伸杆可以在第一水平部分的纵向方向上布置。
[0016]第一拉伸杆和第二拉伸杆可以联接到第一水平部分的上表面。
[0017]根据实施方式的掩模框架可以包括：第一水平部分；第二水平部分，设置在第一水平部分下方；第一竖直部分，连接第一水平部分和第二水平部分；台，设置在第二水平部分下方；以及拉伸杆，联接到第一竖直部分和台，并且配置成向第一竖直部分施加收缩力。
[0018]拉伸杆的第一端部区域可以刚性地附接(诸如，焊接)到第一竖直部分，并且拉伸杆的与第一端部区域相对的第二端部区域刚性地附接(诸如，焊接)到台。
[0019]拉伸杆可以包括金属。
[0020]根据实施方式的制造掩模框架的方法可以包括：准备框架单元，框架单元包括第一水平部分、与第一水平部分间隔开的第二水平部分、以及连接第一水平部分和第二水平部分的至少一个竖直部分；在拉伸杆的纵向方向上向拉伸杆施加拉伸力；以及在将拉伸力施加到拉伸杆的状态下将拉伸杆联接到框架单元的第一水平部分。
[0021]可以将拉伸杆的第一端部区域和拉伸杆的与第一端部区域相对的第二端部区域焊接到第一水平部分。
[0022]该方法还可以包括在拉伸杆的纵向方向上向拉伸杆施加拉伸力之前测量第一水平部分的弯曲变形的量，并且可以根据弯曲变形的量来确定拉伸力的强度。
[0023]在拉伸杆的纵向方向上向拉伸杆施加拉伸力可以包括分别向拉伸杆的第一区域和第二区域施加相互不同的拉伸力，以补偿弯曲变形的量。
[0024]拉伸杆可以包括金属。
[0025]拉伸杆可以具有在约50μm至约2mm的范围内的厚度。
[0026]拉伸杆可以包括第一拉伸杆和第二拉伸杆。
[0027]可以在第一水平部分的纵向方向上布置第一拉伸杆和第二拉伸杆。
[0028]由于根据本专利技术的实施方式，拉伸杆联接到掩模框架，因此可以防止掩模框架的第一水平部分、第一竖直部分和第二竖直部分的下垂或弯曲变形。在拉伸力从拉伸杆消失之后，可以在拉伸杆中产生收缩力，并且可以由于收缩力而防止掩模框架的变形。因此，在使用掩模框架的沉积工艺期间，可以改善沉积质量。
[0029]在根据本专利技术的实施方式的制造掩模框架的方法中，将拉伸杆拉伸并焊接到掩模框架，从而可以防止掩模框架的第一水平部分、第一竖直部分和第二竖直部分的下垂或弯曲变形。即，在从拉伸杆去除拉伸力之后，可以在拉伸杆中产生收缩力，并且可以由于收缩力而防止掩模框架的变形。
[0030]应理解的是，前面的概括性描述和下面的详细描述二者都是例示性的和说明性的，并且旨在提供对所要求保护的本专利技术的进一步说明。
附图说明
[0031]附图示出了本专利技术的例示性实施方式并且与说明书一起用于说明本专利技术构思，其中，包括附图以提供对本专利技术的进一步理解，并且附图并入本说明书中并构成本说明书的一部分。
[0032]图1是示出根据本专利技术的原理构造的根据实施方式的掩模框架的平面图。
[0033]图2是图1中所示的区域A的放大图。
[0034]图3是沿着图2中所示的线I
‑
I'截取的剖视图。
[0035]图4、图5和图6是示出根据实施方式的掩模框架的放大图。
[0036]图7是示出根据实施方式的掩模框架的平面图。
[0037]图8是图7中所示的区域B的放大图。
[0038]图9是沿着图8中所示的线II
‑
II'截取的剖视图。
[0039]图10、图11和图12是示出根据实施方式的掩模框架的放大图。
[0040]图13是示出根据实施方式的掩模框架的剖视图。
[0041]图14是示出根据实施方式的掩模框架的平面图。
[0042]图15是图14中所示的区域C的放大图。
[0043]图16是沿着图15中所示的线III
‑
III'截取的剖视图。
[0044]图17、图18和图19是示出根据实施方式的掩模框架的放大图。
[0045]图20、图21和图22是示出根据实施方式的掩模框架的平面图。
[0046]图23和图24是示出根据实施方式的制造掩模框架的方法的平面图。
[0047]图25是示出根据实施方式的制造掩模框架的方法的平面图。
[0048]图26是示出根据实施方式的制造掩模框架的方法的剖视图。
[0049]图27是示出根据实施方式的制造掩模框架的方法的平面图。
[0050]图28是示出根据实施方式的制造掩模框架的方法的平面图。
具体实施方式
[0051]在下面的描述中，出于说明的目的，阐述了许多具体细节，以提供对本专利技术的各种实施方式或实现方式的透彻理解。如本文中所使用的，“实施方式”和“实现方式”是可互换的词语，其是采用本文中公开的本专利技术构思中的一个或多个的装置或方法的非限制性示例。然而，显而易见的是，各种实施方式可以在没有这些具体细节的情况下或通过一个或多个等同布置实践。在其他例示中，以框图本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.掩模框架，包括：第一水平部分；第二水平部分，设置在所述第一水平部分下方；至少一个竖直部分，连接所述第一水平部分和所述第二水平部分；以及拉伸杆，联接到所述第一水平部分，以及其中，所述拉伸杆配置成在所述拉伸杆的纵向方向上向所述第一水平部分施加收缩力。2.根据权利要求1所述的掩模框架，其中，所述拉伸杆联接到所述第一水平部分的下表面。3.根据权利要求1所述的掩模框架，其中，所述拉伸杆的第一端部区域和所述拉伸杆的与所述第一端部区域相对的第二端部区域刚性地附接到所述第一水平部分。4.根据权利要求1所述的掩模框架，其中，所述拉伸杆包括第一区域和第二区域，所述第二区域施加的收缩力的强度与从所述第一区域施加的收缩力的强度不同。5.根据权利要求1所述的掩模框架，其中，所述拉伸杆包括金属。6.根据权利要求1所述的掩模框架，其中，所述拉伸杆具有在50μ...

【专利技术属性】
技术研发人员：李锺奫，李丞赈，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：