一种渐变颜色后盖装饰工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种渐变颜色后盖装饰工艺，包括采用镀膜工艺、黄光涂布、曝光显影、等离子蚀刻及褪镀后的再镀颜色膜等工艺，以实现渐变颜色后盖装饰；本发明专利技术的基材可以是膜片/玻璃，在这基础上镀颜色膜，然后进行喷涂光阻；再曝光显影、蚀刻镀层、及褪镀光阻后可以再镀其他想要的颜色，也可搭配相同图形的纹理PET。本发明专利技术的工艺搭配与现有后盖装饰相比，能够提高装饰图形多样性、颜色多样性、灵活性、金属感强及增加立体感等；且采用等离子蚀刻工艺避免了化学蚀刻工艺中药水对产品结构带来的冲击缺陷。学蚀刻工艺中药水对产品结构带来的冲击缺陷。

【技术实现步骤摘要】
一种渐变颜色后盖装饰工艺


[0001]本专利技术涉及电子产品后盖效果装饰工艺，尤其涉及一种渐变颜色后盖装饰工艺，主要针对市场上无盖板的区域性渐变镀膜和区域性异型镀膜。

技术介绍

[0002]目前手机市场后盖颜色装饰工艺大体分为以下几种：1.渐变色镀膜：这种工艺局限于颜色之间搭配，基于红、橙、黄、绿、青、蓝、紫的物质颜色和吸光颜色关系而定，不能做到任意两种或者随意多种颜色的渐变。2.胶片印刷渐变色：使用印刷的方式打印两种渐变色或任意两种颜色渐变，但膜面颗粒感强，导致解析度差。3.OC0渐变色：良率低，无金属质感。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种渐变颜色后盖装饰工艺，解决了现有工艺对后盖装饰图形及颜色呈现的多样性制作的成本高、良率低等问题。
[0004]为实现上述的目的，本专利技术采用如下的技术方案：一种渐变颜色后盖装饰工艺，包括以下步骤：S1、设计好想要的Mask图案黄光曝光图纸；S2、将胶片或者玻璃贴附在治具上，然后镀膜；S3、将镀完膜后的胶片或者玻璃喷涂光阻；S4、将涂布好光阻的胶片或者玻璃进行预烤；S5、导入转换好的Mask挡板图纸，将预烤好的胶片及玻璃进行曝光、显影；S6、将显影完的胶片及玻璃进行等离子蚀刻；S7、将蚀刻完后的胶片及玻璃褪镀光阻；S8、将膜片或者玻璃贴附在治具上，再次镀膜，实现任意颜色渐变镀膜。
[0005]进一步的，S1中所述图纸为上下渐变图纸或左右渐变图纸或中间往边缘渐变图纸。
[0006]进一步的，S2中将胶片或者玻璃贴附在治具上，然后镀膜；包括：将胶片\玻璃贴附在玻璃治具上，贴附平整，胶片边缘使用高温胶带贴实，然后放入光阻喷涂机，玻璃用双面胶带贴非客户面；镀膜厚度一般为50nm
‑
1200nm；温度设为45
°
左右，镀膜材料为：二氧化硅、Nb2O5、硅铝合金、氮化硅、TiO2O5、硅、铝中的任意一种。
[0007]优选的，S4中预烤温度为120℃，时间 为10min。
[0008]进一步的，S5中包括将预烤好的胶片及玻璃曝光显影，导入转换好Mask挡板图纸，确认Mask挡板图纸与要做的样品图是否一致，确认完成后，将胶片及玻璃从治具上取下，先用一张带光阻的胶片曝光实验，截取机台在实验胶片上曝光位置，曝光位置的选择居中；位置选取完成后，将要曝光的胶片重复放在选取实验胶片位置；曝光参数设550mj/cm
²
，显影液温度设置为25
°
，速度设置8m/min,导电度设置为31
‑
32ms。
[0009]优选的，S6中等离子蚀刻的条件为：分子泵设定值：650Hz,实际工作风扇转速值：650Hz，Keeper电源设定值：2.0A
±
0.01，实际工作电流2.0
±
0.01A，实际工作电压值：23V
±
0.1,远程控制设为：ON；Emission电源设定电压值：70V
±
1，实际工作电压值70V
±
1，电流设定值：1.50A
±
0.1，实际工作电流值1.50A
±
0.1，远程控制设为：ON；靶材源控制：水流量1
‑
2均设为：ON；Extraction电源电压设定值：1100V
±
1，实际工作电压值：1100V
±
1,电流设定值为1A
±
0.1，实际工作电流值：1A
±
0.1，Suppression电源电压设定值：550V
±
1，实际工作电压值：550V
±
1，电流设定值0.50A
±
0.01，实际电流值0.50A
±
0.01，Matchbox设定值75.0%
±
0.1，实际电容1工作值75.0%
±
0.1，设定值42.0%
±
0.1，实际电容2工作值42.0%
±
0.1；射频发生器设定值：1500W直射功率：1500W，反射功率：1W，输出功率：1500W，频率设定值13560KHz,实际工作频率：13560KHz；胶片蚀刻速度1.0圈\s,蚀刻厚度sio2氧化硅1.6nm，Si3N4氮化硅1.23nm，si硅1.32nm；蚀刻温度50
°
以内。
[0010]进一步的，S8之后还包括：S9、将镀膜好的胶片或玻璃进行丝印盖底，包括采用丝印机对上述胶片进行丝印，油墨为聚氯乙烯或邻苯二甲酸酯类，油墨配比：主油55
‑
65%、稀释剂25
‑
35%、固化剂10%，丝印油墨厚度3
‑
6um，刮板走速100
‑
150mm/s，丝印后将其过隧道炉进行一次预烤，设置温度75
‑
80℃、时间4
‑
6min；再对上述丝印好的胶片进行固烤，温度75℃
‑
80℃、时间30min。
[0011]进一步的，S9之后还包括：S10、对胶片进行镭射切割。
[0012]进一步的，还包括S11、镭射切割好的胶片贴上引导膜，设备参数设为气压源：0.6mpa滚轮压力：0.3mpa下箱体手动速度：3mm/s，自动速度50mm/s，上翻板手动速度：5
°
/s，自动速度180
°
/s。
[0013]进一步的，还包括S12、将贴好引导膜的胶片与3D曲面玻璃贴合，3D贴合机参数设置为：气压源：0.55
±
0.05mpa,压合时间6
±
1s组合压力450
±
50kpa, 贴合精度控制为：
±
0.15mm。
[0014]本专利技术的基材可以是膜片/玻璃，在这基础上镀颜色膜，然后进行喷涂光阻；再曝光显影、蚀刻镀层、及褪镀光阻后可以再镀其他想要的颜色，也可搭配相同图形的纹理PET。本专利技术的工艺搭配与现有后盖装饰相比，能够提高装饰图形多样性、颜色多样性、灵活性、金属感强及增加立体感等；且采用等离子蚀刻工艺避免了化学蚀刻工艺中药水对产品结构带来的冲击缺陷。
[0015]附图说明
[0016]图1为本专利技术的产品堆叠示意图；图2为本专利技术的产品工艺流程示意图；图3为本专利技术的工艺流程示意图；附图中标记为：10、CG（玻璃盖板），20、PET层，30、UV层，40、PVD镀膜层，50、INK油墨层；101、PET白膜，102、镀膜、103喷涂光阻、104、曝光显影，105、等离子蚀刻，106、退镀。
[0017]具体实施方式
[0018]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，但不构成对本专利技术保护范围的限制。
[0019]参见附图1~3所示，本专利技术提供了一种渐变颜色后盖装饰工艺，包括采用镀膜工艺、黄光涂布、曝光显影、等离子蚀刻及褪本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种渐变颜色后盖装饰工艺，其特征在于，包括以下步骤：S1、设计好想要的Mask图案黄光曝光图纸；S2、将胶片或者玻璃贴附在治具上，然后镀膜；S3、将镀完膜后的胶片或者玻璃喷涂光阻；S4、将涂布好光阻的胶片或者玻璃进行预烤；S5、导入转换好的Mask挡板图纸，将预烤好的胶片及玻璃进行曝光、显影；S6、将显影完的胶片及玻璃进行等离子蚀刻；S7、将蚀刻完后的胶片及玻璃褪镀光阻；S8、将膜片或者玻璃贴附在治具上，再次镀膜，实现任意颜色渐变镀膜。2.如权利要求1所述的一种渐变颜色后盖装饰工艺，其特征在于：S1中所述图纸为上下渐变图纸或左右渐变图纸或中间往边缘渐变图纸。3.如权利要求1所述的一种渐变颜色后盖装饰工艺，其特征在于：S2中将胶片或者玻璃贴附在治具上，然后镀膜；包括：将胶片或玻璃贴附在玻璃治具上，贴附平整，胶片边缘使用高温胶带贴实，然后放入光阻喷涂机，玻璃用双面胶带贴非客户面；镀膜厚度一般为50nm
‑
1200nm；温度设为45
°
左右，镀膜材料为：二氧化硅、Nb2O5、硅铝合金、氮化硅、TiO2O5、硅、铝中的任意一种。4.如权利要求1所述的一种渐变颜色后盖装饰工艺，其特征在于：S4中预烤温度为120℃，时间 为10min。5.如权利要求1所述的一种渐变颜色后盖装饰工艺，其特征在于：S5中包括将预烤好的胶片或玻璃曝光显影，导入转换好Mask挡板图纸，确认Mask挡板图纸与要做的样品图是否一致，确认完成后，将胶片或玻璃从治具上取下，先用一张带光阻的胶片曝光实验，截取机台在实验胶片上曝光位置，曝光位置的选择居中；位置选取完成后，将要曝光的胶片重复放在选取实验胶片位置；曝光参数设550mj/cm
²
，显影液温度设置为25
°
，速度设置8m/min，导电度设置为31
‑
32ms。6.如权利要求1所述的一种渐变颜色后盖装饰工艺，其特征在于：S6中等离子蚀刻的条件为：分子泵设定值：650Hz,实际工作风扇转速值：650Hz，Keeper电源设定值：2.0A
±
0.01，实际工作电流2.0
±
0.01A，实际工作电压值：23V
±
0.1,远程控制设为：ON；Emission电源设定电压值：70V
±
1，实际工作电压值70V
±
1，电流设定值：1.50A
±
0.1，实际工作电流值1.50A
±
0.1，远程控制设为：ON；靶材源控制：水流量1
‑
2均设为：ON；Extraction电源电压设定值：1100V
±
1，实际...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗兵，黄宇正，林汉伦，洪嘉乐，
申请(专利权)人：伯恩光学惠州有限公司，
类型：发明
国别省市：