包括掩模的沉积装置制造方法及图纸

本申请涉及沉积装置。沉积装置包括腔室、设置在腔室中的沉积源、掩模组件、以及设置在掩模组件上的基础衬底。掩模组件包括具有框架开口的框架、设置在框架上并包括沉积孔的掩模、以及设置在掩模上的焊条。焊接槽沿着框架的边缘设置，并且在框架的厚度方向上具有深度。焊条与焊接槽重叠。焊条与焊接槽重叠。焊条与焊接槽重叠。

【技术实现步骤摘要】
包括掩模的沉积装置
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年12月8日在韩国知识产权局提交的第10
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2020
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0170132号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国申请的全部内容通过引用并入本文。


[0003]本文中本公开涉及用于制造掩模的方法和包括该掩模的沉积装置。用于制造掩模的方法可以具有改进的开口率以及包括掩模的沉积装置。

技术介绍

[0004]通常，发光显示设备包括设置在每个像素处的发光设备。发光设备包括设置在隔开的电极之间的发光层。包含在像素中的发光层可以被区分成组。
[0005]掩模组件用于将发光层的组沉积至工作衬底上。掩模组件包括框架、支撑件和掩模。工作衬底可以设置在掩模上，并且发光材料可以沉积在工作衬底上以提供图案化的发光层。
[0006]应当理解，该技术部分的背景部分地旨在为理解技术提供有用的背景。然而，该技术部分的背景也可以包括在本文所公开的主题的相应有效申请日之前不是相关领域的技术人员已知或理解的部分的观点、概念或认识。

技术实现思路

[0007]本公开提供用于制造掩模的方法。
[0008]实施方式提供了沉积装置，该沉积装置可以包括：腔室；沉积源，设置在腔室中；掩模组件和设置在掩模组件上的基础衬底。掩模组件可以包括：框架，包括框架开口；掩模，设置在框架上，该掩模包括沉积孔；以及焊条，设置在掩模上。焊接槽可以沿着框架的边缘设置，焊接槽在框架的厚度方向上具有深度。焊条可以与焊接槽重叠。
[0009]在实施方式中，掩模可以包括：基础层，包括与基础衬底接触的第一表面和与第一表面相对的第二表面，该基础层包括第一开口；以及金属层，设置在基础层的第二表面上，该金属层包括第二开口。第一开口和第二开口可以包括彼此重叠以形成设置在掩模中的沉积孔的至少一个第一开口和至少一个第二开口。至少一个第一开口的宽度可以小于至少一个第二开口的宽度。
[0010]在实施方式中，第二表面的一部分可以通过至少一个第二开口从金属层暴露。
[0011]在实施方式中，基础层可以具有限定至少一个第一开口并且可以从基础层的第一表面倾斜的第一侧表面，并且金属层可以具有限定至少一个第二开口并且可以在与基础层的第一侧表面相同的方向上从基础层的第二表面倾斜的第二侧表面。
[0012]在实施方式中，第一开口和第二开口中的每一个在剖视图中可以具有梯形形状。
[0013]在实施方式中，焊条可以焊接至框架。掩模可以设置在框架和焊条之间。焊条可以设置在焊接槽中，使得焊条和基础层的第一表面提供其上设置有基础衬底的平坦表面。
[0014]在实施方式中，掩模可以具有与焊条重叠的部分，并且可以设置在焊接槽中。
[0015]在实施方式中，掩模可以包括设置在基础层和金属层之间的无机层。无机层可以包括第三开口。
[0016]在实施方式中，第一开口、第二开口和第三开口包括彼此重叠以形成设置在掩模中的沉积孔的至少一个第一开口、至少一个第二开口和至少一个第三开口。至少一个第三开口的宽度可以大于至少一个第一开口的宽度并且小于至少一个第二开口的宽度。
[0017]在实施方式中，沉积源可以包括有机材料，并且沉积源可以蒸发有机材料并且将蒸发的有机材料注入框架开口。
附图说明
[0018]通过参考附图详细描述其实施方式，本公开的以上和其它方面和特征将变得更加显而易见，其中：
[0019]图1是示出根据实施方式的沉积装置的示意性剖视图；
[0020]图2A是示出根据实施方式的掩模组件的示意性剖视图；
[0021]图2B是示出根据实施方式的掩模组件的示意性分解立体图；
[0022]图3是示出根据实施方式的掩模的示意性平面图；
[0023]图4是示出根据实施方式的显示面板的示意性剖视图；
[0024]图5是示出根据实施方式的沉积区域的示意性平面图；
[0025]图6是沿着图3的线I
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I'截取的示意性剖视图；
[0026]图7是示出根据实施方式的掩模的示意性剖视图；
[0027]图8A是根据实施方式的用于制造掩模的方法的示意性剖视图；
[0028]图8B是根据实施方式的用于制造掩模的方法的示意性剖视图；
[0029]图8C是根据实施方式的用于制造掩模的方法的示意性剖视图；
[0030]图8D是根据实施方式的用于制造掩模的方法的示意性剖视图；
[0031]图8E是根据实施方式的用于制造掩模的方法的示意性剖视图；
[0032]图9A是根据实施方式的用于制造掩模的方法的示意性剖视图；
[0033]图9B是根据实施方式的用于制造掩模的方法的示意性剖视图；以及
[0034]图9C是根据实施方式的用于制造掩模的方法的示意性剖视图。
具体实施方式
[0035]现在将参考附图在下文中更全面地描述本公开，在附图中示出了实施方式。然而，本公开可以以不同的形式来实施，并且不应被解释为限于在本文中阐述的实施方式。相反，提供这些实施方式使得本公开将是彻底和完整的，并且将本公开的范围完全传达给本领域技术人员。
[0036]在本说明书中，还将理解，当一个部件(或区域、层、部分)被称为在另一个部件“上”、“连接至”或“联接至”另一个部件时，它可以直接设置/连接/联接至一个部件上，或也可以存在介于中间的第三部件。
[0037]相同的附图标记始终表示相同的元件。此外，在附图中，为了说明的清楚，夸大了部件的厚度、比率和尺寸。
[0038]术语“和/或”包括相关列出项目中的一个或多个的任何和所有组合。
[0039]应当理解，尽管在本文中使用诸如“第一”和“第二”的术语来描述各种元件，但是这些元件不应受到这些术语的限制。这些术语仅用于将一个部件与其它部件区分开。例如，在不脱离所附权利要求的范围的情况下，在实施方式中被称为第一元件的第一元件可以在另一个实施方式中被称为第二元件。除非相反地提及，否则单数形式的术语可以包括复数形式。
[0040]此外，“之下”、“下面”、“上面”、“上部”等用于解释附图中所示的部件的关系关联。术语可以是相对概念并且基于附图中所表达的方向来描述。
[0041]为易于说明，空间相对术语“下面”、“下方”、“下部”、“上面”、“上部”等可以在本文中用于描述如附图中所示的一个元件或部件与另一个元件或部件之间的关系。应当理解，除了附图中所描绘的定向之外，空间相对术语旨在包括设备在使用或操作中的不同定向。例如，在图中所示的设备被翻转的情况下，位于另一设备“下面”或“下方”的设备可以被放置在另一设备“上面”。因此，说明性术语“下面”可以包括下部位置和上部位置两者。设备也可以在其它方向上定向，并且因此空间相对术语可以根据定向而被不同地解释。
[0042]术语“重叠(overlap)”或“重叠(overlapped)”意味着第一对象可以在第二对本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.沉积装置，包括：腔室；沉积源，设置在所述腔室中；掩模组件，包括：框架，包括框架开口；掩模，设置在所述框架上，所述掩模包括沉积孔；以及焊条，设置在所述掩模上；以及基础衬底，设置在所述掩模组件上，其中，沿着所述框架的边缘设置有焊接槽，所述焊接槽在所述框架的厚度方向上具有深度，以及所述焊条与所述焊接槽重叠。2.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，所述掩模包括：基础层，包括与所述基础衬底接触的第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，所述基础层包括：第一开口；以及金属层，设置在所述基础层的所述第二表面上，所述金属层包括第二开口；所述第一开口和所述第二开口包括至少一个第一开口和至少一个第二开口，所述至少一个第一开口和所述至少一个第二开口彼此重叠以形成设置在所述掩模中的沉积孔，以及所述至少一个第一开口的宽度小于所述至少一个第二开口的宽度。3.根据权利要求2所述的沉积装置，其中，所述第二表面的一部分通过所述至少一个第二开口从所述金属层暴露。4.根据权利要求2所述的沉积装置，其中，所述基础层具有限定所述至少一个第一开口并且从所述基础层的所述第一表面倾斜的第一侧表面，以及所述金属层具有第二侧表面，所述第二侧表面限定所述至少一个第二开口，并且在与所述基础...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙智熙，文英慜，金载运，宋升勇，任星淳，郑锺铉，赵炫珉，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：