包括掩模的沉积装置制造方法及图纸

本申请涉及沉积装置。沉积装置包括腔室、设置在腔室中的沉积源、掩模组件、以及设置在掩模组件上的基础衬底。掩模组件包括具有框架开口的框架、设置在框架上并包括沉积孔的掩模、以及设置在掩模上的焊条。焊接槽沿着框架的边缘设置，并且在框架的厚度方向上具有深度。焊条与焊接槽重叠。焊条与焊接槽重叠。焊条与焊接槽重叠。

【技术实现步骤摘要】
包括掩模的沉积装置
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年12月8日在韩国知识产权局提交的第10
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2020
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0170132号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国申请的全部内容通过引用并入本文。


[0003]本文中本公开涉及用于制造掩模的方法和包括该掩模的沉积装置。用于制造掩模的方法可以具有改进的开口率以及包括掩模的沉积装置。

技术介绍

[0004]通常，发光显示设备包括设置在每个像素处的发光设备。发光设备包括设置在隔开的电极之间的发光层。包含在像素中的发光层可以被区分成组。
[0005]掩模组件用于将发光层的组沉积至工作衬底上。掩模组件包括框架、支撑件和掩模。工作衬底可以设置在掩模上，并且发光材料可以沉积在工作衬底上以提供图案化的发光层。
[0006]应当理解，该技术部分的背景部分地旨在为理解技术提供有用的背景。然而，该技术部分的背景也可以包括在本文所公开的主题的相应有效申请日之前不是相关领域的技术人员已知或理解的部分的观点、概念或认识。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.沉积装置，包括：腔室；沉积源，设置在所述腔室中；掩模组件，包括：框架，包括框架开口；掩模，设置在所述框架上，所述掩模包括沉积孔；以及焊条，设置在所述掩模上；以及基础衬底，设置在所述掩模组件上，其中，沿着所述框架的边缘设置有焊接槽，所述焊接槽在所述框架的厚度方向上具有深度，以及所述焊条与所述焊接槽重叠。2.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，所述掩模包括：基础层，包括与所述基础衬底接触的第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，所述基础层包括：第一开口；以及金属层，设置在所述基础层的所述第二表面上，所述金属层包括第二开口；所述第一开口和所述第二开口包括至少一个第一开口和至少一个第二开口，所述至少一个第一开口和所述至少一个第二开口彼此重叠以形成设置在所述掩模中的沉积孔，以及所述至少一个第一开口的宽度小于所述至少一个第二开口的宽度。3.根据权利要求2所述的沉积装置，其中，所述第二表面的一部分通过所述至少一个第二开口从所述金属层暴露。4.根据权利要求2所述的沉积装置，其中，所述基础层具有限定所述至少一个第一开口并且从所述基础层的所述第一表面倾斜的第一侧表面，以及所述金属层具有第二侧表面，所述第二侧表面限定所述至少一个第二开口，并且在与所述基础...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙智熙，文英慜，金载运，宋升勇，任星淳，郑锺铉，赵炫珉，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：