收纳装置、曝光装置以及物品制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供收纳装置、曝光装置以及物品制造方法。收纳装置收纳包括形成有图案的图案面的原版，并具有：第1供给部，以形成沿着原版的与图案面相反侧的第1面的第1气流及沿着保护构件的与图案面侧相反侧的第2面的第2气流中的至少一方气流的方式吹出并供给气体，保护构件与图案面分离设置并保护图案面；第2供给部，以形成与由第1供给部形成的至少一方气流干涉的第3气流的方式吹出并供给气体；以及构件，包括与从第2供给部吹出的气体的吹出方向交叉并用于接受由第2供给部形成的第3气流的接受面，第1供给部以用于搬送原版的搬送口为基准配置在收纳原版的收纳空间的进深侧，第2供给部以搬送口为基准配置在收纳空间的近前侧。搬送口为基准配置在收纳空间的近前侧。搬送口为基准配置在收纳空间的近前侧。

【技术实现步骤摘要】
收纳装置、曝光装置以及物品制造方法


[0001]本专利技术涉及收纳装置、曝光装置以及物品制造方法。

技术介绍

[0002]在半导体元件或液晶显示元件的制造工序(光刻(Lithography)工序)中，使用了将原版(掩模或者光罩)的图案向配置有抗蚀剂材料的基板(晶圆)投影而在基板上转印(形成)图案的曝光装置。在曝光装置中，当将原版的图案向基板上投影时，即在基板曝光时，若在原版上有异物等存在，则该异物会连同图案一起被转印到基板上而成为缺陷(不良)的原因。
[0003]因而，一般来讲，为了防止在原版的图案面(形成有图案的面)上附着异物，在原版上设有被称为蒙版(Pellicle)的保护构件。在蒙版中例如有由合成树脂构成的膜状制品。蒙版经由蒙版支撑框从原版的图案面偏移了规定距离地被支撑。由此，由于异物附着在从原版的图案面偏移了规定距离的蒙版膜上，所以，在曝光时在基板上无法结成焦点，只不过是作为光斑显现。这样，通过在原版设置蒙版，能够降低曝光时的异物影响。
[0004]另外，在曝光装置中，为了应对半导体元件的微细化来实现高分辨率，正在发展曝本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种收纳装置，该收纳装置收纳包括形成有图案的图案面的原版，其特征在于，上述收纳装置具有：第1供给部，该第1供给部以形成第1气流以及第2气流中的至少一方气流的方式吹出并供给气体，上述第1气流沿着上述原版的与上述图案面相反侧的第1面，上述第2气流沿着保护构件的与上述图案面那侧相反侧的第2面，上述保护构件与上述图案面分离设置并保护上述图案面；第2供给部，该第2供给部以形成第3气流的方式吹出并供给气体，上述第3气流与由上述第1供给部形成的上述至少一方气流干涉；以及构件，该构件包括与从上述第2供给部吹出的气体的吹出方向交叉并用于接受由上述第2供给部形成的上述第3气流的接受面，上述第1供给部以用于搬送上述原版的搬送口为基准而配置在收纳上述原版的收纳空间的进深侧，上述第2供给部以上述搬送口为基准而配置在上述收纳空间的近前侧。2.如权利要求1所述的收纳装置，其特征在于，上述第1供给部以作为上述至少一方气流形成从上述收纳空间的进深侧朝向上述收纳空间的近前侧的一个方向的气流的方式吹出并供给气体。3.如权利要求1所述的收纳装置，其特征在于，上述第2供给部以作为上述第3气流形成与由上述第1供给部形成的上述至少一方气流碰撞的气流的方式吹出并供给气体。4.如权利要求1所述的收纳装置，其特征在于，上述构件以上述接受面在与上述图案面正交的方向上位于比上述第2面靠下方的位置的方式配置。5.如权利要求1所述的收纳装置，其特征在于，上述构件以在与上述图案面正交的方向上的上述接受面与上述第2供给部的气体的吹出口之间的距离为10mm以上且500mm以下的方式配置。6.如权利要求1所述的收纳装置，其特征在于，上述接受面相对于上述保护构件的上述第2面在沿着上述第2面的方向上在自上述第2面起向外侧为0mm以上且300mm以下的范围内延伸。7.如权利要求1所述的收纳装置，其特征在于，上述第1供给部以形成上述第1气流以及上述第2气流的方式吹出并供给气体，上述第3气流的流量小于上述第1气流的流量与上述第2气流的流量之和。8.如权利要求1所述的收纳装置，其特征在于，上述接受面包括向上述第2供给部那侧突出的凸部。...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤野康平，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
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