基于FPGA光直写方法及成像传输系统设备技术方案

本发明专利技术公开了一种基于FPGA光直写方法及成像传输系统设备，涉及激光直写技术领域。本发明专利技术包括通过计算机直写软件设计出基片掩模上需要的图形；通过计算机产生设计的微光学元件或待制作的VLSI掩摸结构数据；将数据转换成直写系统控制数据，由计算机控制激光源发射激光束在光刻胶上直接扫描曝光；通过激光束在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形，从而把设计图形直接转移到基片掩模上。本发明专利技术通过设置的两个夹板，能带动两个夹板相对移动对放置台上的放置的基片进行夹持固定，激光发射器和摄像设备位于操作箱的下面，从而减少了激光发射器和摄像设备自身的重量对操作箱造成较大的压力的情况。的压力的情况。的压力的情况。

【技术实现步骤摘要】
基于FPGA光直写方法及成像传输系统设备


[0001]本专利技术属于激光直写
，特别是涉及一种基于FPGA光直写方法及成像传输系统设备。

技术介绍

[0002]激光直写技术主要用于制作平面计算全图、掩模、微透镜、微透镜阵列、Fresnel微透镜、Fresnel波带板、连续位相浮雕的闪耀光学元件等，制作工艺己经逐渐成熟。激光直写技术的发展趋势是从直角坐标写入系统到极坐标写入系统，直至多功能写入系统；从基片小尺寸到大尺寸，从平面写入到球面、柱面以及曲面；从利用光刻胶材料到聚合物以及其他特殊工艺材料；写入元件的特征尺寸从几百微米到亚微米；元件制作时间从几天到几小时甚至几分钟；从制作二值图样到写入连续浮雕轮廓；从光学元件到微电子、集成电路、集成光学器件等；从发达的国家到发展中国家，并己经应用到空间光学、光通讯、光学显示等领域，为DOE和微电子、微光学、微机械器件的制作提供了一种新的制作设备。
[0003]但现有技术中需要对基板进行曝光扫描，但是现有技术中，激光直写式成像设备上的激光机构一般侧挂于横梁上，以对正下方轨道上的待蚀刻产品进行曝光。激光机构侧挂于横梁上且沿横梁方向运动，激光机构自身的重量对横梁造成较大的压力，长时间对整个设备的稳定性造成一定的影响。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种基于FPGA光直写方法及成像传输系统设备，解决了现有技术中激光机构侧挂于横梁上且沿横梁方向运动，激光机构自身的重量对横梁造成较大的压力的技术问题。
[0005]为达上述目的，本专利技术是通过以下技术方案实现的：
[0006]一种基于FPGA光直写方法，包括
[0007]步骤一：通过计算机直写软件设计出基片掩模上需要的图形；
[0008]步骤二：通过计算机产生设计的微光学元件或待制作的VLSI掩摸结构数据；
[0009]步骤三：将数据转换成直写系统控制数据，由计算机控制激光源发射激光束在光刻胶上直接扫描曝光；当激光源发射激光束时，分光装置将激光源发出的单束激光束分成至少两束等距的激光束并进行发射；分光装置发射的每束激光束有对应的开合控制装置，所述开合控制装置至少两个，开合控制装置在接收到从分光装置发射的激光束时打开通路并进行发射；基片接收开合控制装置射出的至少两束激光束，激光束在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形。
[0010]基片接收开合控制装置射出的至少两束激光束，激光束在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形。如权利要求1所述的一种基于FPGA光直写方法，其特征在于，在步骤三中控制激光源，激光源将激光光束与直写基片之间产生X轴和Y轴两个轴向上的相对运动，对基片掩模进行激光直写
[0011]步骤四：通过激光束在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形，从而把设计图形直接转移到基片掩模上。
[0012]一种基于FPGA光直写成像传输系统，包括获取模块，获取模块连接有设计模块，设计模块连接有控制模块，控制模块连接激光模块、设备模块、摄像模块。
[0013]一种基于FPGA光直写设备，包括操作箱，操作箱内部一侧装设有放置台，操作箱内装设有电动滑轨，电动滑轨内滑动配合有移动箱，移动箱下侧连接有激光发射器，激光发射器下侧装设有摄像设备。
[0014]可选的，激光发射器与移动箱之间装设有连接杆，连接杆一端装设有承载板，承载板上侧装设有第一电机，第一电机的输出端装设有齿轮，移动箱内装设有与齿轮相啮合的齿板，移动箱内壁一侧开设有多个槽道，承载板下侧装设有与多个槽道一一对应的多个滑轮。
[0015]可选的，操作箱底部设有内腔，内腔内转动配合有丝杆，操作箱一侧装设有与丝杆固定连接的第二电机，操作箱内部一侧滑动配合有与丝杆螺纹配合的两个夹板，丝杆两端的螺纹方向相反。
[0016]可选的，操作箱一侧装设有控制器，控制器为控制模块。
[0017]本专利技术的实施例具有以下有益效果：
[0018]本专利技术的一个实施例通过设置的两个夹板，能使控制器控制第二电机通过丝杆转动，能带动两个夹板相对移动对放置台上的放置的基片进行夹持固定，通过设置的移动箱，能使控制器控制电动滑轨通过移动箱带动激光发射器和摄像设备沿X轴方向移动，通过设置的齿板，能使控制器控制第一电机通过连接杆带动激光发射器和摄像设备沿Y轴方向移动，从而便于激光发射器和摄像设备对基片进行曝光扫描，激光发射器和摄像设备位于操作箱的下面，从而减少了激光发射器和摄像设备自身的重量对操作箱造成较大的压力的情况。
[0019]当然，实施本专利技术的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
[0020]构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：
[0021]图1为本专利技术一实施例的光直写方法结构示意图；
[0022]图2为本专利技术一实施例的操作箱结构示意图；
[0023]图3为本专利技术一实施例的电动滑轨结构示意图；
[0024]图4为本专利技术一实施例的承载板结构示意图。
[0025]其中，上述附图包括以下附图标记：
[0026]操作箱1，放置台2，控制器3，第二电机4，激光发射器5，摄像设备6，夹板7，电动滑轨8，移动箱10，连接杆11，丝杆12，内腔14，第一电机15，齿轮16，齿板17，承载板18，槽道19，滑轮20。
具体实施方式
[0027]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完
整地描述，显然，所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本专利技术及其应用或使用的任何限制。
[0028]为了保持本专利技术实施例的以下说明清楚且简明，本专利技术省略了已知功能和已知部件的详细说明。
[0029]请参阅图1
‑
4所示，一种基于FPGA光直写方法，包括
[0030]步骤一：通过计算机直写软件设计出基片掩模上需要的图形；
[0031]步骤二：通过计算机产生设计的微光学元件或待制作的VLSI掩摸结构数据；
[0032]步骤三：将数据转换成直写系统控制数据，由计算机控制激光源发射激光束在光刻胶上直接扫描曝光；当激光源发射激光束时，分光装置将激光源发出的单束激光束分成至少两束等距的激光束并进行发射；分光装置发射的每束激光束有对应的开合控制装置，所述开合控制装置至少两个，开合控制装置在接收到从分光装置发射的激光束时打开通路并进行发射；基片接收开合控制装置射出的至少两束激光束，激光束在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形；
[0033]分光装置由分光镜组和锯齿形反射镜组成，分光镜组将单束激光束分成至少两束激光束，锯齿形反射镜将从分光镜接收到的至少两束激光束变成相等距离，分光镜组包括至少一个分光镜，且当包括多于等于两个分光镜时，分光镜串联倍分激光束，分光镜组由第一分光镜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于FPGA光直写方法，其特征在于，包括：步骤一：通过计算机直写软件设计出基片掩模上需要的图形；步骤二：通过计算机产生设计的微光学元件或待制作的VLSI掩摸结构数据；步骤三：将数据转换成直写系统控制数据，由计算机控制激光源发射激光束在光刻胶上直接扫描曝光；步骤四：通过激光束在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形，从而把设计图形直接转移到基片掩模上。2.如权利要求1所述的一种基于FPGA光直写方法，其特征在于，在步骤三中当激光源发射激光束时，分光装置将激光源发出的单束激光束分成至少两束等距的激光束并进行发射。3.如权利要求2所述的一种基于FPGA光直写方法，其特征在于，分光装置发射的每束激光束有对应的开合控制装置，所述开合控制装置至少两个，开合控制装置在接收到从分光装置发射的激光束时打开通路并进行发射。4.如权利要求3所述的一种基于FPGA光直写方法，其特征在于，基片接收开合控制装置射出的至少两束激光束，激光束在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形。5.如权利要求1所述的一种基于FPGA光直写方法，其特征在于，在步骤三中控制激光源，激光源将激光光束与直写基片之间产生X轴和Y轴两个轴向上的相对运动，对基片掩模进行激光直写。6.如权利要求1所述的一种基于FPGA光直写成像传输系统，其特征在于，包括获取模块，获取模块连接有设计模块，设计模块连接有控制模块，控...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨国环，张昌清，刘涛，
申请(专利权)人：浙江津芯微电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：