一种单元组合式氟气吸附纯化装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种单元组合式氟气吸附纯化装置，包括若干个吸附单元，每个吸附单元包括多个独立的吸附塔，吸附塔由上至下依次包括进气口、塔体和出气口，相邻两个塔体之间通过连接管首尾串联而成，且前一个塔体的出气口连接于后一个塔体的进气口，吸附单元的第一个塔体的进气口和最后一个塔体的出气口分别通过连接管外接于反应系统，且吸附单元内的第一个塔体的进气口和最后一个塔体的出气口还分别通过连接管连接于氮气进口和氮气出口。本实用新型专利技术，由多个独立的吸附塔组组合而成，便于从系统中拆除以及内部吸附剂的更换，工艺简单、安全可靠，有利于连续化生产，具有良好的经济价值。济价值。济价值。

【技术实现步骤摘要】
一种单元组合式氟气吸附纯化装置


[0001]本技术涉及电解制氟生产
，具体涉及一种单元组合式氟气吸附纯化装置。

技术介绍

[0002]氟气(F2)，相对分子量为38.00，沸点为
‑
188℃，是一种具有刺激性气味的强氧化性浅黄色有毒气体。氟气化学性质异常活泼，几乎能与所有的元素发生反应，被誉为自然界中最活泼的物质。氟气被广泛应用于电子、激光技术、医药、塑料、石油化工、航空航天等领域，是化工领域的重要原料。高纯氟气作为化学气相沉积反应腔室的清洗剂，具有很强的反应活性且不会造成温室效应，在半导体领域极具市场潜力。
[0003]公知的制备氟气的常规方法是电解法，分为低温电解法、高温电解法和中温电解法三种工艺，工业上常用的是中温电解制氟工艺。在中温电解法制备的氟气中或多或少都含有1～15％的氟化氢(HF)气体，1～5％左右的四氟化碳(CF4)、1～10％的氮气(N2)和微量的氧气(O2)以及二氟化氧(OF2)等杂质气体。氟气的纯度只有90～95％左右，必须经过提纯后方可适用于半导体领域。常见的氟气提纯方法有低温冷冻法和氟本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单元组合式氟气吸附纯化装置，其特征在于，包括若干个吸附单元，每个所述吸附单元包括多个独立的吸附塔，所述吸附塔由上至下依次包括进气口、塔体和出气口，所述进气口和出气口分别设置于所述塔体的首、尾两端，相邻两个所述塔体之间通过连接管首尾串联而成，且前一个所述塔体的所述出气口连接于后一个所述塔体的所述进气口，所述吸附单元的第一个所述塔体的所述进气口和最后一个所述塔体的出气口分别通过所述连接管外接于反应系统，且所述吸附单元内的第一个所述塔体的所述进气口和最后一个所述塔体的所述出气口还分别通过所述连接管连接于氮气进口和氮气出口。2.如权利要求1所述的单元组合式氟气吸附纯化装置，其特征在于，每个所述吸...

【专利技术属性】
技术研发人员：王兆敏，
申请(专利权)人：天津海嘉斯迪新材料合伙企业有限合伙，
类型：新型
国别省市：