用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统技术方案

本实用新型专利技术公开了用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统，涉及碳化硅微粉研磨技术领域，包括底板和设置在底板顶面中部的U型架，底板顶部设有下研磨盘A，下研磨盘A上方转动设有上研磨盘A，上研磨盘上方的U型架内侧面之间设有下研磨盘B，下研磨盘B上方转动设有上研磨盘B，底板底面中部转动设有连接轴，连接轴底部固接有驱动电机；本实用新型专利技术通过上研磨盘B和下研磨盘B的相互配合使用，实现对碳化硅颗粒进行第一次研磨，通过下研磨盘A和上研磨盘A的相互配合使用，便于对研磨后的碳化硅微粉再次研磨，从而使得到的碳化硅微粉合格，提高碳化硅微粉的质量，进一步提高研磨的工作效率。进一步提高研磨的工作效率。进一步提高研磨的工作效率。

【技术实现步骤摘要】
用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统


[0001]本技术涉及碳化硅微粉研磨
，尤其涉及用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统。

技术介绍

[0002]碳化硅微粉呈绿色，晶体结构，硬度高，切削能力较强，化学性质稳定，导热性能好；在制造碳化硅微粉时，需要使用到研磨系统，而现有的研磨系统不能够对碳化硅进行连续的研磨，易导致研磨的后碳化硅微粉不合格，从而需要再次的对碳化硅微粉进行研磨，从而降低碳化硅微粉制造的效率；因此，如何设计一种具有连续化循环研磨的碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统显得尤为重要。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统。
[0004]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0005]用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统，包括底板和设置在底板顶面中部的U型架，所述底板顶部设有下研磨盘A，所述下研磨盘A上方转动设有与下研磨盘A配合的上研磨盘A，所述上研磨盘A上方的U型架内侧面之间设有下研磨盘B，所述下研磨盘B上方转动设有与下研磨盘B配合的上研磨盘B，所述上研磨盘B和上研磨盘A顶面均开设有导料槽，所述导料槽底面环形等间距设有多个进料孔，所述进料孔底部均贯穿上研磨盘B和上研磨盘A，所述下研磨盘B顶面内开设有与上研磨盘A顶面的导料槽连通的圆柱孔，所述底板底面中部转动设有连接轴，所述连接轴底部固接有驱动电机，所述驱动电机顶部活动贯穿出底板、下研磨盘A、上研磨盘A、下研磨盘B和上研磨盘B，所述连接轴顶部与U型架内顶面转动设置，所述下研磨盘A底部内对称设有出料槽。
[0006]优选地，所述下研磨盘A与连接轴转动连接，所述上研磨盘A和上研磨盘B均与连接轴固接，所述连接轴活动贯穿出下研磨盘B底部的圆柱孔，且所述圆柱孔的直径大于连接轴的直径。
[0007]优选地，所述上研磨盘A和上研磨盘B底部外壁上设有环形板，所述环形板底面设有环形滑块B，所述下研磨盘A和下研磨盘B顶面配合环形滑块B开设有环形滑槽B，所述环形滑块B和环形滑槽B的横截面均为梯形状，所述环形滑块B底面均匀的镶嵌有多个滚珠，所述滚珠与环形滑槽B底面接触。
[0008]优选地，所述下研磨盘A和下研磨盘B的研磨面顶部设有多个环形凸起，所述上研磨盘A和上研磨盘B的研磨面配合环形凸起开设有环形凸槽。
[0009]优选地，所述上研磨盘A顶面设有环形滑块A，所述下研磨盘B底面配合环形滑块A开设有环形滑槽A。
[0010]优选地，所述导料槽为中部高边缘底的环形槽，所述出料槽为倾斜设置在下研磨
盘A内的矩形腔，所述底板底面设有与出料槽底部连通的出料管。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术通过上研磨盘B和下研磨盘B的相互配合使用，实现对碳化硅颗粒进行第一次研磨，通过下研磨盘A和上研磨盘A的相互配合使用，便于对研磨后的碳化硅微粉再次研磨，从而使得到的碳化硅微粉合格，提高碳化硅微粉的质量，进一步提高研磨的工作效率。
附图说明
[0012]此处所说明的附图用来提供对本技术的进一步理解，构成本申请的一部分，本实用的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：
[0013]图1为本技术的外观结构示意图；
[0014]图2为本技术的正视角的剖面结构示意图；
[0015]图3为本技术的上研磨盘B俯视角的结构示意图。
[0016]图中序号：1、底板；2、U型架；3、下研磨盘A；4、上研磨盘A；5、出料管；6、驱动电机；7、连接轴；8、环形板；9、导料槽；10、进料孔；11、下研磨盘B；12、上研磨盘B；13、出料槽；14、环形滑块A。
具体实施方式
[0017]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0018]实施例：参见图1
‑
3，用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统，包括底板1和设置在底板1顶面中部的U型架2，底板1顶部设有下研磨盘A3，下研磨盘A3上方转动设有与下研磨盘A3配合的上研磨盘A4，上研磨盘A4上方的U型架2内侧面之间设有下研磨盘B11，下研磨盘B11上方转动设有与下研磨盘B11配合的上研磨盘B12，上研磨盘B12和上研磨盘A4顶面均开设有导料槽9，导料槽9底面环形等间距设有多个进料孔10，进料孔10底部均贯穿上研磨盘B12和上研磨盘A4，下研磨盘B11顶面内开设有与上研磨盘A4顶面的导料槽9连通的圆柱孔，通过圆柱孔的使用，便于第一次研磨后的碳化硅微粉进入上研磨盘A4顶部的导料槽9，同时便于连接轴7的转动；底板1底面中部转动设有连接轴7，连接轴7底部固接有驱动电机6，驱动电机6顶部活动贯穿出底板1、下研磨盘A3、上研磨盘A4、下研磨盘B11和上研磨盘B12，连接轴7顶部与U型架2内顶面转动设置，下研磨盘A3底部内对称设有出料槽13，通过出料槽13的使用，便于将研磨后的碳化硅微粉导出下研磨盘A3，从而便于碳化硅微粉的收集。
[0019]在本技术中，下研磨盘A3与连接轴7转动连接，上研磨盘A4和上研磨盘B12均与连接轴7固接，连接轴7活动贯穿出下研磨盘B11底部的圆柱孔，且圆柱孔的直径大于连接轴7的直径，便于第一次研磨的碳化硅微粉落在上研磨盘A4上的导料槽9内。
[0020]在本技术中，上研磨盘A4和上研磨盘B12底部外壁上设有环形板8，环形板8底面设有环形滑块B，下研磨盘A3和下研磨盘B11顶面配合环形滑块B开设有环形滑槽B，环形滑块B和环形滑槽B的横截面均为梯形状，环形滑块B底面均匀的镶嵌有多个滚珠，滚珠与环形滑槽B底面接触，通过滚珠的使用，便于减小环形滑块B与下研磨盘A3和下研磨盘B11的摩
擦力，从而便于上研磨盘A4和上研磨盘B12转动，进一步便于对碳化硅进行研磨，提高研磨的效率。
[0021]在本技术中，下研磨盘A3和下研磨盘B11的研磨面顶部设有多个环形凸起，上研磨盘A4和上研磨盘B12的研磨面配合环形凸起开设有环形凸槽，通过环形凸起开和环形凸槽的相互配给使用，便于降低原料在下研磨盘A3和下研磨盘B11上滚动的速率，进一步便于对原料进行研磨，提高研磨的效率。
[0022]在本技术中，上研磨盘A4顶面设有环形滑块A14，下研磨盘B11底面配合环形滑块A14开设有环形滑槽A，便于上研磨盘A4的转动。
[0023]在本技术中，导料槽9为中部高边缘底的环形槽，出料槽13为倾斜设置在下研磨盘A3内的矩形腔，底板1底面设有与出料槽13底部连通的出料管5，便于研磨后的碳化硅微粉的收集。
[0024]工作原理：工作时，将待研磨的碳化硅颗粒放置在上研磨盘B12的导料槽9内，然后启动驱动电机6，通过驱动电机6的输出轴带动连接轴7转动，进一步带动上研磨盘A4和上研磨盘B1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统，包括底板（1）和设置在底板（1）顶面中部的U型架（2），其特征在于：所述底板（1）顶部设有下研磨盘A（3），所述下研磨盘A（3）上方转动设有与下研磨盘A（3）配合的上研磨盘A（4），所述上研磨盘A（4）上方的U型架（2）内侧面之间设有下研磨盘B（11），所述下研磨盘B（11）上方转动设有与下研磨盘B（11）配合的上研磨盘B（12），所述上研磨盘B（12）和上研磨盘A（4）顶面均开设有导料槽（9），所述导料槽（9）底面环形等间距设有多个进料孔（10），所述进料孔（10）底部均贯穿上研磨盘B（12）和上研磨盘A（4），所述下研磨盘B（11）顶面内开设有与上研磨盘A（4）顶面的导料槽（9）连通的圆柱孔，所述底板（1）底面中部转动设有连接轴（7），所述连接轴（7）底部固接有驱动电机（6），所述驱动电机（6）顶部活动贯穿出底板（1）、下研磨盘A（3）、上研磨盘A（4）、下研磨盘B（11）和上研磨盘B（12），所述连接轴（7）顶部与U型架（2）内顶面转动设置，所述下研磨盘A（3）底部内对称设有出料槽（13）。2.根据权利要求1所述的用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统，其特征在于：所述下研磨盘A（3）与连接轴（7）转动连接，所述上研磨盘A（4）和上研磨盘B（12）均与连接轴（7）固接...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨天宇，崔怀江，杨涵，
申请(专利权)人：青州宇信陶瓷材料有限公司，
类型：新型
国别省市：