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一种抗菌光触媒水性聚氨酯合成革的配方及工艺组成比例

技术编号:33786135 阅读:30 留言:0更新日期:2022-06-12 14:41
本发明专利技术公开了一种抗菌光触媒水性聚氨酯合成革的配方,包括基布和涂层液,所述涂层液包括以下组份且各组份比例为:水性聚氨酯乳液10.3%

【技术实现步骤摘要】
一种抗菌光触媒水性聚氨酯合成革的配方及工艺


[0001]本专利技术涉及聚氨酯合成革
,特别涉及一种抗菌光触媒水性聚氨酯合成革的配方及工艺。

技术介绍

[0002]聚氨酯合成革属于聚氨酯弹性体的一类,具有光泽柔和、自然,手感柔软,真皮感强的外观,具有与基材粘接性能优异、抗磨损、耐挠曲、抗老化等优异的机械性能,同时还具备耐寒性好、透气、可洗涤、加工方便、价格优廉等优点,是天然皮革的最为理想的替代品,其中通过发泡技术所生产出的水性生态合成革不仅拥有了纳米二氧化钛抗菌杀菌、抗紫外线和自洁净的特殊性能,且不影响成品革的透气性。但是现有的聚氨酯合成革存在一定的弊端,首先聚氨酯合成革耐磨性较差,且使得聚氨酯合成革在使用时容易出现划痕,从而使得聚氨酯合成革的外管比较难看,影响销售或者使用,还有一些雨水或者水渍滴落到聚氨酯合成革表面,容易使得聚氨酯合成革湿透,比较影响使用,最后在加工工艺中,混合液体的混合不充分,从而使得液体之间不能发挥较好的性能。

技术实现思路

[0003]本专利技术的主要目的在于提供一种抗菌光触媒水性聚氨酯合成革的配方及本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抗菌光触媒水性聚氨酯合成革的配方,包括基布和涂层液,其特征在于:所述涂层液包括以下组份且各组份比例为:2.根据权利要求1所述的一种抗菌光触媒水性聚氨酯合成革的配方,其特征在于:所述涂层液涂覆在基布上制成。3.根据权利要求1所述的一种抗菌光触媒水性聚氨酯合成革的配方,其特征在于:所述润湿剂为阴离子型有机硅润湿剂,所述润湿剂的组份包括乙醇、丙二醇、甘油混合液,且乙醇占混合液的组份比例为23.5%

45.2%;丙三醇12.2%

50.6%和甘油20.8%

40%。4.根据权利要求1所述的一种抗菌光触媒水性聚氨酯合成革的配方,其特征在于:所述耐磨助剂的组份为超高分子量聚硅氧烷分散液,且该组份的粘度为50,000

100,000cs,所述耐磨助剂与水的比例为1:1.5,一边加入水一边搅拌,然后混合液添加到涂料体系中。5.一种抗菌光触媒水性聚氨酯合成革的工艺,其特征在于:包括以下步骤:S1、对基布进行初步处理,将基布进行平整、干燥、除尘处理,从而使得基布可以进行处理;S2、将初步处理好的基布进行烫平烘干,使得基布可以的外表面比较顺滑,没有发生褶皱的情况;S3、配制涂抹基布的A和B组合液,将涂层液分为A组合液...

【专利技术属性】
技术研发人员:宋金火
申请(专利权)人:宋金火
类型:发明
国别省市:

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