一种聚合型光稳定剂以及制备与应用制造技术

本发明专利技术提供一种聚合型高分子量高效、抗迁移、耐抽提的位阻胺光稳定剂，其如通式(Ⅰ)所示，具有热稳定性好、更低碱性、更长效、阻燃等优势，可广泛应用于高分子制品中。可广泛应用于高分子制品中。可广泛应用于高分子制品中。

【技术实现步骤摘要】
一种聚合型光稳定剂以及制备与应用


[0001]本专利技术涉及高分子材料
，具体的，涉及一种聚合型光稳定剂以及制备方法和用途。

技术介绍

[0002]高分子材料由于其成本低、可塑性强等优势在人们日常生活扮演着越来越重要的角色，然而由于光、热、氧等环境因素的侵害，高分子材料在使用过程中会发生黄变、变硬、变脆等老化现象。为了解决这一问题，人们通常在加工高分子制品过程中加入抗老化剂来减缓老化现象从而维持高分子材料原有的性能以及延长高分子制品的使用寿命。其中，光稳定剂就是最重要、最常用的抗老化添加剂。位阻胺型光稳定剂(HALS)由于其突出的性能以及工艺制造便捷性在光稳定剂市场占据着主导地位。根据分子量的分布，可以将位阻胺型光稳定剂分为低分子量型和高分子量型位阻胺稳定剂。相比较而言，高分子量比低分子量型位阻胺稳定剂产品具有抗挥发、难迁移、抗抽提、更耐热、低毒性等优势，因此高分子量聚合型光稳定剂一直是市场关注的重点以及研究开发的重要领域。
[0003]专利文献CN111808225A公开了一种高分子量聚合型光稳定剂及其制备方法，其结构通式为专利文献CN107955144A公开了一种缩聚型高分子量受阻胺光稳定剂，其结构通式为专利文献CN111849028A公开了一种接枝聚合型光稳定剂，其结构通式为
[0004]622作为最早一批开发出的聚酯型高分子光稳定剂，其结构式为
然而，前述的光稳定剂产品的效率、耐酸性以及长效性依然具有提升的空间，因此有必要开发出更高效率、更加耐酸以及时间维度上更长效性的聚酯型高分子量位阻胺光稳定剂产品。

技术实现思路

[0005]本专利技术的一个目的是提供一种通式为(I)的聚合型位阻胺光稳定剂及其制备方法和用途。
[0006]本专利技术的目的是通过以下技术方案实现的：
[0007]本专利技术所述聚合型位阻胺光稳定剂的结构如下：
[0008][0009]所述m选自3～100中的任一整数(例如3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、22、24、26、28、30、40、50、60、70、80、90、100)；
[0010]所述n选自0～10中的任一整数(例如0、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10)；
[0011]所述a选自0～3中的任一整数(0、1、2、3)；
[0012]所述b选自0～3中的任一整数(0、1、2、3)；
[0013]所述R1选自氢、C1‑
C
18
烷基、C3‑
C8环烷基、C1‑
C
18
烷氧基、C3‑
C8环烷氧基、C1‑
C
18
烷酰基、C1‑
C
18
烷氧酰基、C6‑
C
12
苯基酰氧基中的任一种；
[0014]所述R2选自氢、C1‑
C
18
烷基或C3‑
C8环烷基中的任一种；
[0015]所述R4选自氢、C6‑
C
12
的芳基、C1‑
C
18
烷基中的任一种；
[0016]所述R5选自化学键(
‑
)、C1‑
C
18
亚烷基、C3‑
C8亚环烷基、C6‑
C
12
亚芳基中的任一种。
[0017]优选的，m选自3～100中的任一整数；更优选的，m选自3～50中的任一整数；进一步优选的，m选自3～30中的任一整数。
[0018]优选的，n选自0～6中的任一整数；更优选的，n选自1～6中的任一整数。
[0019]优选的，a为0或1。
[0020]优选的，b为0或1。
[0021]优选的，所述R1选自氢、C1‑
C8烷基、C5‑
C7环烷氧基、C1‑
C
10
烷氧基；更优选的，所述R1选自氢、甲基、乙基、丙基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、辛氧基、环己氧基。
[0022]优选的，所述R2选自氢、C1‑
C
10
烷基；更优选的，所述R2选自氢、C1‑
C6烷基；进一步优选的，所述R2选自氢、甲基、乙基、丙基。
[0023]优选的，所述R4选自氢、甲基。
[0024]优选的，所述R5选自化学键(
‑
)、C1‑
C8亚烷基、亚苯基；更优选的，所述R5选自化学键(
‑
)、亚甲基、亚乙基、亚丙基；在本专利技术的一个实施例中，所述R5为化学键(
‑
)。
[0025]在本专利技术的一个实施方式中，所述聚合型位阻胺光稳定剂具有如下结构：
[0026][0027]其中，R1和m具有如上所述定义。
[0028]优选的，式Ⅱ中，R1为氢、甲基、丙氧基或环己氧基。
[0029]在本专利技术另一个实施方式中，所述聚合型位阻胺光稳定剂具有如下结构：
[0030][0031]其中，R1、n、m具有如上所述定义。
[0032]优选的，式Ⅲ中，R1为氢、甲基、丙氧基或环己氧基。
[0033]优选的，式Ⅲ中，n为2、3、4、5或6。
[0034]在本专利技术另一个实施方式中，所述聚合型位阻胺光稳定剂具有如下结构：
[0035][0036]其中，R1、R5、m具有如上所述定义。
[0037]优选的，式Ⅳ中，R1为氢、甲基、丙氧基或环己氧基。
[0038]优选的，式Ⅳ中，R5为化学键(
‑
)、亚甲基、亚乙基或亚丙基。
[0039]在本专利技术另一个实施方式中，所述聚合型位阻胺光稳定剂具有如下结构：
[0040][0041]其中，R1、R5、n、m具有如上所述定义。
[0042]优选的，式
Ⅴ
中，R1为氢、甲基、丙氧基或环己氧基。
[0043]优选的，式
Ⅴ
中，R5为化学键(
‑
)、亚甲基、亚乙基或亚丙基。
[0044]优选的，式
Ⅴ
中，n为2、3、4、5或6。
[0045]在本专利技术的一些实施例中，所述聚合型位阻胺光稳定剂具有如下结构：
[0046][0047][0048]本专利技术还提供一种通式(I)所述的聚合型位阻胺光稳定剂的制备方法，所述制备方法的工艺路线为：
[0049][0050]其中，R3选自C1‑
C3的烷基，优选的，所述R3选自甲基或乙基。
[0051]所述制备方法包括以下步骤：
[0052]步骤一：原料S1和S2通过加成反应得到双酯结构单体M1；
[0053]步骤二：单体M1和双醇M2进行酯交换反应得到产物P，即聚合型位阻胺光稳定剂(I)。
[0054]进一步地，所述步骤一中的加成反应可以在溶剂或无溶剂的条件下进行。
[0055本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种聚合型位阻胺光稳定剂，其具有通式(Ⅰ)所示结构：其中，m选自3～100中的任一整数；n选自0～10中的任一整数；a选自0～3中的任一整数；b选自0～3中的任一整数；R1选自氢、C1‑
C
18
烷基、C3‑
C8环烷基、C1‑
C
18
烷氧基、C3‑
C8环烷氧基、C1‑
C
18
烷酰基、C1‑
C
18
烷氧酰基、C6‑
C
12
苯基酰氧基中的任一种；R2选自氢、C1‑
C
18
烷基或C3‑
C8环烷基中的任一种；R4选自氢、C6‑
C
12
的芳基、C1‑
C
18
烷基中的任一种；R5选自化学键(
‑
)、C1‑
C
18
亚烷基、C3‑
C8亚环烷基、C6‑
C
12
亚芳基中的任一种。2.如权利要求1所述的聚合型位阻胺光稳定剂，其特征在于，m选自3～30中的任一整数；优选的，m为3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、22、24、26、28或30。3.如权利要求1所述的聚合型位阻胺光稳定剂，其特征在于，R1选自氢、C1‑
C8烷基、C5‑
C7环烷氧基、C1‑
C
10
烷氧基；优选的，R1选自氢、甲基、乙基、丙基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、辛氧基、环己氧基。4.如权利要求1所述的聚合型位阻胺光稳定剂，其特征在于，R5选自化学键(

【专利技术属性】
技术研发人员：陈炜，杨东升，李玉庆，刘罡，李靖，高勇年，
申请(专利权)人：北京天罡助剂有限责任公司天罡新材料廊坊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：