一种聚合型抗光老型多功能添加剂及其制备方法和应用技术

本发明专利技术公开了一种高分子聚合物及其制备方法和应用,所述的高分子聚合物既含有亲水性基团

【技术实现步骤摘要】
一种聚合型抗光老型多功能添加剂及其制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及高分子
，一种聚合型抗光老型多功能添加剂及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]分散剂主要分为离子型分散剂和非离子型分散剂。传统的分散剂由于分子主链上的锚固基团较少，与被分散的粒子表面的吸附作用较弱，容易发生解吸，因此造成分散效果不佳。高分子的分散剂存在大量的锚固基团，可借助各种作用力产生较强的吸附。除此之外，高分子的分散剂除了长链自身的空间位阻性质，还可以利用离子基团带来的静电斥力作用实现分散稳定。
[0003]在涂料的使用过程中，由于涂料粘度太低，容易出现流挂现象。为了使涂料达到一定的粘度避免此类问题的出现，常常在涂料制备的过程中增加一种增稠剂。
[0004]专利文件CN1424335A公开了一种丙烯酸酯类增稠剂的制备方法，采用单体在引发剂、乳化剂下合成，合成过程在超临界二氧化碳中进行，反应温度31.2～150℃，反应压力7.5～150MPa。其制得丙烯酸酯类增稠剂具有良好的性能，在实际使用中加入少量即可得到高粘度体系。
[0005]专利文件CN103200926B公开了一种丙烯酸酯共聚物增稠剂，其是在至少两种不同类别的交联单体存在下聚合的，且其在含表面活性剂的水性组合物中提供期望的流变性、清澈性、和美观性质。
[0006]上述添加剂无法避免涂料在长时间的日光照射的情况下出现发黄、粉化的现象，影响其美观效果和物理机械性能，并且颜料颗粒在添加剂中的分散作用较差，导致颜料容易在液相中凝聚和沉降。/>[0007]现有技术中公开的聚合型添加剂无法兼顾增稠、分散和光稳定三种特质，鉴于此，特提出一种聚合型涂料添加剂用以满足涂料的分散性能、耐候性能以及增稠性能。

技术实现思路

[0008]为克服现有技术的不足，本专利技术提供一种聚合型涂料添加剂及其制备方法和应用。
[0009]本专利技术的第一方面提供了一种高分子聚合物，所述的高分子聚合物由单体聚合而成，所述的单体包括单体A和单体B。
[0010]进一步地，所述的单体A中至少包含一个通式Ⅱ的丙烯酸衍生物结构，所述的单体B中至少包含一个马来酸衍生物结构，
[0011][0012]R3、R4、R5各自独立地选自：
‑
H、烷基、环烷基、
‑
COOY、杂环烷基、杂烷基、被一个或多个杂原子间隔的烷基、被一个或多个
‑
C(＝O)O
‑
间隔的烷基、被一个或多个胺基间隔的烷基、被一个或多个
‑
OC(＝O)O
‑
间隔的烷基、被一个或多个烯基间隔的烷基、被一个或多个炔基间隔的烷基、被一个或多个
‑
C(＝S)O
‑
间隔的烷基、被一个或多个酰胺基团间隔的烷基、被一个或多个脲基团间隔的烷基、被一个或多个亚芳基间隔的烷基、被一个或多个亚杂烷基间隔的烷基、被一个或多个亚杂芳基间隔的烷基、被以上间隔基团组合间隔的烷基、被一个或多个取代基取代的烷基、被一个或多个取代基取代的杂烷基、被一个或多个取代基取代的环烷基；所述取代基选自由如下基团组成的组：羟基、卤素、芳基、环烷基、羟烷基、烷氧基、硫代烷氧基、硝基、氰基、氨基、杂芳基、杂环烷基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂芳氧基羰基、杂烷氧基羰基，烷氧基硫代羰基、酰氧基、烷酰氧基、芳酰氧基，杂芳酰氧基、环烷酰氧基、杂烷酰氧基、烷酰基、氨基酰基、烷基氨基酰基、烷基磺酰基、芳酰基、被一个或多个杂原子间隔的烷基、被一个或多个
‑
C(＝O)O
‑
间隔的烷基、被一个或多个
‑
OC(＝O)O
‑
间隔的烷基、被一个或多个
‑
C(＝O)
‑
间隔的烷基、被一个或多个
‑
C(＝S)O
‑
间隔的烷基、被一个或多个酰胺基团间隔的烷基、被一个或多个脲基团间隔的烷基、被一个或多个亚芳基间隔的烷基、被一个或多个烯基间隔的烷基、被一个或多个炔基间隔的烷基、被一个或多个胺基间隔的烷基、被一个或多个亚杂烷基间隔的烷基、被一个或多个亚杂芳基间隔的烷基、被以上间隔基团组合间隔的烷基，Y选自Na、K、
‑
H；
[0013]优选地，R3、R4、R5各自独立地选自：
‑
H、烷基、
‑
COOY；
[0014]进一步优选地，R3、R4、R5各自独立地选自：
‑
H、C1‑
18
烷基、
‑
COOY；
[0015]更进一步优选地，R3、R4、R5各自独立地选自：
‑
H、C1‑
12
烷基、
‑
COOH、
‑
COOK、
‑
COONa；
[0016]特别优选地，R3、R4、R5各自独立地选自：
‑
H、C1‑6烷基、
‑
COOH、
‑
COONa。
[0017]在本专利技术的一个实施方式中，R3为
‑
H。
[0018]在本专利技术的一个实施方式中，R3为
‑
CH3。
[0019]在本专利技术的一个实施方式中，R3为
‑
(CH2)5‑
CH3。
[0020]在本专利技术的一个实施方式中，R3为
‑
COOH。
[0021]在本专利技术的一个实施方式中，R3为
‑
COONa。
[0022]在本专利技术的一个实施方式中，R4为
‑
H。
[0023]在本专利技术的一个实施方式中，R4为
‑
CH3。
[0024]在本专利技术的一个实施方式中，R5为
‑
CH3。
[0025]在本专利技术的一个实施方式中，R5为
‑
H。
[0026]在本专利技术的一个实施方式中，R5为
‑
COOH。
[0027]R6选自：
‑
H、烷基、烷基醇、芳基、
‑
O
‑
R7，R7选自：烷基、环烷基、
‑
C(＝O)
‑
R8，R8选自：烷基、环烷基、苯基；
[0028]优选地，R6选自：
‑
H、C1‑
22
烷基、
‑
O
‑
C1‑
22
烷基、
‑
O
‑
C(＝O)
‑
C1‑
22
烷基、C1‑
22
烷基醇、
‑
O
‑
C3‑
10
环烷基、苯基，进一步优选地，R6选自：
‑
H、C1‑
10
烷基、
‑
O...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高分子聚合物，其特征在于，所述的高分子聚合物由单体聚合而成，所述的单体包括单体A和单体B，所述的单体A中至少包含一个通式Ⅱ的丙烯酸衍生物结构，所述的单体B中至少包含一个马来酸衍生物结构，R3、R4、R5各自独立地选自：
‑
H、烷基、环烷基、
‑
COOY、杂环烷基、杂烷基、被一个或多个杂原子间隔的烷基、被一个或多个
‑
C(＝O)O
‑
间隔的烷基、被一个或多个胺基间隔的烷基、被一个或多个
‑
OC(＝O)O
‑
间隔的烷基、被一个或多个烯基间隔的烷基、被一个或多个炔基间隔的烷基、被一个或多个
‑
C(＝S)O
‑
间隔的烷基、被一个或多个酰胺基团间隔的烷基、被一个或多个脲基团间隔的烷基、被一个或多个亚芳基间隔的烷基、被一个或多个亚杂烷基间隔的烷基、被一个或多个亚杂芳基间隔的烷基、被以上间隔基团组合间隔的烷基、被一个或多个取代基取代的烷基、被一个或多个取代基取代的杂烷基、被一个或多个取代基取代的环烷基；所述取代基选自由如下基团组成的组：羟基、卤素、芳基、环烷基、羟烷基、烷氧基、硫代烷氧基、硝基、氰基、氨基、杂芳基、杂环烷基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂芳氧基羰基、杂烷氧基羰基，烷氧基硫代羰基、酰氧基、烷酰氧基、芳酰氧基，杂芳酰氧基、环烷酰氧基、杂烷酰氧基、烷酰基、氨基酰基、烷基氨基酰基、烷基磺酰基、芳酰基、被一个或多个杂原子间隔的烷基、被一个或多个
‑
C(＝O)O
‑
间隔的烷基、被一个或多个
‑
OC(＝O)O
‑
间隔的烷基、被一个或多个
‑
C(＝O)
‑
间隔的烷基、被一个或多个
‑
C(＝S)O
‑
间隔的烷基、被一个或多个酰胺基团间隔的烷基、被一个或多个脲基团间隔的烷基、被一个或多个亚芳基间隔的烷基、被一个或多个烯基间隔的烷基、被一个或多个炔基间隔的烷基、被一个或多个胺基间隔的烷基、被一个或多个亚杂烷基间隔的烷基、被一个或多个亚杂芳基间隔的烷基、被以上间隔基团组合间隔的烷基，Y选自Na、K、
‑
H，R6选自：
‑
H、烷基、烷基醇、芳基、
‑
O
‑
R7，R7选自：烷基、环烷基、
‑
C(＝O)
‑
R8，R8选自：烷基、环烷基、苯基，X为
‑
O
‑
或
‑
NR9，R9为
‑
H或烷基。2.权利要求1所述的高分子聚合物，其特征在于，所述的R3、R4、R5各自独立地选自：
‑
H、烷基、
‑
COOY，优选地，R3、R4、R5各自独立地选自：
‑
H、C1‑
18
烷基、
‑
COOY，进一步优选地，R3、R4、R5各自独立地选自：
‑
H、C1‑
12
烷基、
‑
COOH、
‑
COOK、
‑
COONa，更进一步优选地，R3、R4、R5各自独立地选自：
‑
H、C1‑6烷基、
‑
COOH、
‑
COONa。3.权利要求1所述的高分子聚合物，其特征在于，所述的R6选自：
‑
H、C1‑
22
烷基、
‑
O
‑
C1‑
22
烷基、
‑
O
‑
C(＝O)
‑
C1‑
22
烷基、C1‑
22
烷基醇、
‑
O
‑
C3‑
10
环烷基、苯基，优选地，R6选自：
‑
H、C1‑
10
烷基、
‑
O
‑
C1‑
15
烷基、
‑
O
‑
C(＝O)
‑
C1‑
18
烷基、C1‑
18
烷基醇、
‑
O
‑
C3‑8环烷基、苯基，进一步优选地，R6选自：
‑
H、C1‑6烷基、
‑
O
‑
C1‑
12
烷基、
‑
O
‑
C(＝O)
‑
C1‑
12
烷基、C1‑
12
烷基醇、
‑
O
‑
C3‑6环烷基、苯基。
4.权利要求1所述的高分子聚合物，其特征在于，所述的R7选自：C1‑
22
烷基、C3‑
10
环烷基、
‑
C(＝O)
‑
R8，优选地，R7选自：C1‑
18
烷基、C3‑8环烷基、
‑
C(＝O)
‑
R8，进一步优选地，R7选自：C1‑
12
烷基、C3‑6环烷基、
‑
C(＝O)
‑
R8。5.权利要求1所述的高分子聚合物，其特征在于，所述的R8为C1‑
20
烷基，优选地，R8为C1‑
15
烷基，进一步优选地，R8为C1‑
10
烷基。6.权利要求1所述的高分子聚合物，其特征在于，所述的R9为
‑
H或C1‑
10
烷基，优选地，R9为
‑
H或C1‑5烷基。7.权利要求1所述的高分子聚合物，其特征在于，所述的单体还包括单体C，所述的单体C中至少包含一个通式Ⅲ的丙烯酸衍生物结构，其中，R1、R2、R3′
各自独立地选自：
‑
H、烷基、
‑
亚烷基
‑
COOY、
‑
COOY、环烷基、杂环烷基、杂烷基、被一个或多个杂原子间隔的烷基、被一个或多个
‑
C(＝O)O
‑
间隔的烷基、被一个或多个胺基间隔的烷基、被一个或多个
‑
OC(＝O)O
‑
间隔的烷基、被一个或多个烯基间隔的烷基、被一个或多个炔基间隔的烷基、被一个或多个
‑
C(＝S)O
‑
间隔的烷基、被一个或多个酰胺基团间隔的烷基、被一个或多个脲基团间隔的烷基、被一个或多个亚芳基间隔的烷基、被一个或多个亚杂烷基间隔的烷基、被一个或多个亚杂芳基间隔的烷基、被以上间隔基团组合间隔的烷基、被一个或多个取代基取代的烷基、被一个或多个取代基取代杂烷基、被一个或多个取代基取代的环烷基；所述取代基选自由如下基团组成的组：羟基、卤素、芳基、环烷基、羟烷基、烷氧基、硫代烷氧基、硝基、氰基、氨基、杂芳基、杂环烷基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂芳氧基羰基、杂烷氧基羰基，烷氧基硫代羰基、酰氧基、烷酰氧基、芳酰氧基，杂芳酰氧基、环烷酰氧基、杂烷酰氧基、烷酰基、氨基酰基、烷基氨基酰基、烷基磺酰基、芳酰基、被一个或多个杂原子间隔的烷基、被一个或多个
‑
C(＝O)O
‑
间隔的烷基、被一个或多个
‑
OC(＝O)O
‑
间隔的烷基、被一个或多个
‑
C(＝O)
‑
间隔的烷基、被一个或多个
‑
C(＝S)O
‑
间隔的烷基、被一个或多个酰...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨东升，陈炜，刘罡，李玉庆，李靖，郭承晓，高勇年，
申请(专利权)人：北京天罡助剂有限责任公司，
类型：发明
国别省市：