盖体有导流功能的烤箱制造技术

一种盖体有导流功能的烤箱，其包括：座台，座台由顶端凹陷有凹槽，有升温装置位于凹槽内部；抽气通道，抽气通道内部与凹槽相互连通；抽气装置，抽气装置相连于座台，抽气装置以抽气通道连通凹槽；以及盖体，盖体活动盖于座台的顶端，盖体一侧间隔向上凹陷有数个凹沟，数个凹沟对应凹槽，数个凹沟二端的槽壁分别具有导流面，各凹沟其中一导流面分别朝向凹槽有抽气通道的部分。通道的部分。通道的部分。

【技术实现步骤摘要】
盖体有导流功能的烤箱


[0001]本技术为一种盖体有导流功能的烤箱，应用于半导体、化工、电子材料、化学胶、光学镀膜等领域。

技术介绍

[0002]真空烤箱，是一种制程常见的设备，常应用于半导体、化工、电子材料、化学胶、光学镀膜等领域，而真空烤箱的特色在于烘烤时内部含氧量极低，例如半导体制程中后段封装的锡膏制程步骤，在于高温烘烤的环境里所使用的锡膏相当容易与氧产生氧化反应进而影响成品，因此烘烤时会对烤箱内部进行抽气，使烤箱内部近似真空含氧量极低的状态。
[0003]但现今常见的烤箱结构直接抽气的效果不尽人意，所残余的氧气量对于现今的要求来说仍然过多，因此近一步设计出另一型态的烤箱，那便是于烤箱安装气体填充机，在于烘烤时对于烤箱内部填充惰性气体、氮气等，并搭配抽气装置进而将氧气排出，使烤箱内部仅有惰性气体，而惰性气体及氮气不容易与其他物质发生反应，相较于氧气即使有所残留也不易与锡膏有所反应，进而增加了产品的生产质量，然而惰性气体、氮气的消耗上是一成本的支出、且气体填充机后续的维修、保养等也都是一种成本的支出，同时还占用了一定的空间。
[0004]因此由前述内容可以得知，除使用气体填充机外，如何进一步减少烤箱内部的氧气残留，实为各大烤箱业者急欲解决的问题。

技术实现思路

[0005]本技术所要解决的主要技术问题在于，克服现有技术存在的上述缺陷，而提供一种盖体有导流功能的烤箱，其应用于半导体制程，例如后段封装的锡膏制程步骤，其结构增加抽气装置的抽气效果，进一步减少烤箱内部的氧气残留。
[0006]本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：
[0007]一种盖体有导流功能的烤箱，其包括：一座台，该座台由顶端凹陷有一凹槽，有一升温装置位于该凹槽内部；一抽气通道，该抽气通道内部与该凹槽相互连通；一抽气装置，该抽气装置相连于该座台，该抽气装置以该抽气通道连通该凹槽；以及一盖体，该盖体活动盖于该座台的顶端，该盖体一侧间隔向上凹陷有数个凹沟，该数个凹沟对应该凹槽，该数个凹沟二端的槽壁分别具有一导流面，各凹沟其中一导流面分别朝向该凹槽有该抽气通道的部分。
[0008]本技术的有益效果是，应用于半导体制程，例如后段封装的锡膏制程步骤，其结构增加抽气装置的抽气效果，进一步减少烤箱内部的氧气残留。
附图说明
[0009]下面结合附图和实施例对本技术进一步说明。
[0010]图1为本技术立体示意图。
[0011]图2为本技术另一视角立体示意图。
[0012]图3为图1所示III
‑
III线段剖面示意图。
[0013]图4为图1所示IV
‑
IV线段剖面示意图。
[0014]图5为盖体盖于座台示意图。
[0015]图6为抽气装置抽气时气体流向示意图。
[0016]图中标号说明：
[0017]1ꢀꢀꢀꢀ
座台
[0018]11
ꢀꢀꢀ
凹槽
[0019]12
ꢀꢀꢀ
升温装置
[0020]13
ꢀꢀꢀ
抽气管
[0021]14
ꢀꢀꢀ
抽气通道
[0022]15
ꢀꢀꢀ
置件台
[0023]2ꢀꢀꢀꢀ
抽气装置
[0024]3ꢀꢀꢀꢀ
盖体
[0025]31
ꢀꢀꢀ
凹沟
[0026]311
ꢀꢀ
导流面
[0027]3111 弧弯面
[0028]3112 顺直面
[0029]312
ꢀꢀ
沟顶面
[0030]313
ꢀꢀ
沟口
[0031]314
ꢀꢀ
鳍片
[0032]32
ꢀꢀꢀ
升降装置
[0033]4ꢀꢀꢀꢀ
支撑架
[0034]5ꢀꢀꢀꢀ
乘载盘
[0035]a
ꢀꢀꢀꢀ
长度
[0036]b
ꢀꢀꢀꢀ
长度
[0037]c
ꢀꢀꢀꢀ
宽度
[0038]d
ꢀꢀꢀꢀ
宽度
具体实施方式
[0039]为更加详细了解本技术的实施方式请搭配附图进行观看，图1至图4所示，本技术为一种盖体有导流功能的烤箱，其包括：一座台1，该座台1由顶端凹陷有一凹槽11，有一升温装置12位于该凹槽11内部；一抽气通道14，该抽气通道14内部与该凹槽11相互连通；一抽气装置2，该抽气装置2相连于该座台1，该抽气装置2以该抽气通道14连通该凹槽11；以及一盖体3，该盖体3活动盖于该座台1的顶端，该盖体3一侧间隔向上凹陷有数个凹沟31，该数个凹沟31对应该凹槽11，该数个凹沟31二端的槽壁分别具有一导流面311，各凹沟31其中一导流面311分别朝向该凹槽11有该抽气通道14的部分。
[0040]除本实施例的范例外，抽气通道14也可以是一体成形于凹槽11的槽壁，并贯穿座台1对外连通抽气装置2的形式(图未示)，也可以是抽气通道14一体成形于凹槽11的槽壁，
而抽气装置2直接组装于座台1，并抽气装置以该抽气通道14连通该凹槽的形式(图未示)。
[0041]接续前述的内容进一步详述本技术的实施方式，且本实施例中以应用于半导体制程作为示范，如图3所示放有晶圆的乘载盘5放置于升温装置12，而升温装置12的加热会使周遭空气因加热而上升，当如图5所示盖体3下降时，部分空气会沿着附图中箭头所示的方向沿着凹沟31二端的导流面311流往二侧，以避免盖体3下降时将空气直接撞回乘载盘5上的晶圆而加快氧化反应，而另一部分的空气会积蓄于各个凹沟31内，接续如图6所示启动抽气装置2，凹沟31其中一端的导流面311对应于该凹槽11有该抽气通道14的区域，此时凹沟31内的气体会沿着导流面311流向抽气通道14，借由此结构使得凹槽11内、各凹沟31内的空气更为容易被抽气装置2所抽取，以增加抽气装置2的抽气效果，达到进一步减少烤箱内部的氧气残留的功效。
[0042]本技术图3所示，其中该抽气通道14一端的开口朝向该盖体3，此结构使抽气通道14其中一端的开口直接对应各凹沟31的开口方向，使得抽气效果更为优异。
[0043]本技术图3所示，其中各凹沟31顶端具有一沟顶面312，各凹沟31分别具有一沟口313，各沟顶面312具有一长度a，各沟口313分别具有一长度b，而该长度b大于该长度a，各导流面311相连于对应沟顶面312的二端与对应沟口313二端之间，各导流面311靠近各沟顶面312部分呈弧弯状，此结构使各导流面311的导流效果更为优异。
[0044]本技术图4所示，其中各相邻凹沟31之间形成有一鳍片314，各凹沟31具有一宽度c，各鳍片具有一宽度d，该宽度c大于该宽度d，此结构使得各鳍片314宽度较各凹沟31宽度窄，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种盖体有导流功能的烤箱，其特征在于，包括：一座台，该座台由顶端凹陷有一凹槽，有一升温装置位于该凹槽内部；一抽气信道，该抽气信道内部与该凹槽相互连通；一抽气装置，该抽气装置相连于该座台，该抽气装置以该抽气通道连通该凹槽；以及一盖体，该盖体活动盖于该座台的顶端，该盖体一侧间隔向上凹陷有数个凹沟，该数个凹沟对应该凹槽，该数个凹沟二端的槽壁分别具有一导流面，各凹沟其中一导流面分别朝向该凹槽有该抽气通道的部分。2.根据权利要求1所述的盖体有导流功能的烤箱，其特征在于，所述抽气通道一端的开口朝向该盖体。3.根据权利要求2所述的盖体有导流功能的烤箱，其特征在于，所述盖体周部设置有数个升降装置，该座台周部设置有数个支撑架，该数个升降装置分别滑设于该数个支撑架，该数个升降装置能够于该数个支撑架滑动以带动该盖体相对于该座台上升下降，以致该盖体能与该座台密合、分离。4.根据权利要求1至3中任一项所述的盖体有导流功能的烤...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈泓谕，苏晓斌，游学峰，周书慧，
申请(专利权)人：朗和湘厦门科技有限公司，
类型：新型
国别省市：