光学薄膜的制造方法、光学薄膜、光学构件、图像显示装置、及它们的制造方法制造方法及图纸

提供不损害透明层的透明性的光学薄膜的制造方法、光学薄膜、光学构件、图像显示装置、光学构件的制造方法及图像显示装置的制造方法。光学薄膜的制造方法的特征在于，在非透明层的贯通孔内形成透明层，掩蔽材料被覆工序中用形成有透明层形成用贯通孔的掩蔽材料被覆基材的一个面，透明层形成工序中在透明层形成用贯通孔内涂覆透明层形成用液从而形成透明层，掩蔽材料去除工序中将掩蔽材料从基材去除，非透明层形成工序中在基材的透明层形成面上涂覆非透明层形成用液从而形成非透明层，透明层形成用贯通孔外周的掩蔽材料的最小厚度T2(μm)与透明层的最薄部的厚度T1(μm)的比值T2/T1为3以下。值T2/T1为3以下。值T2/T1为3以下。

【技术实现步骤摘要】
光学薄膜的制造方法、光学薄膜、光学构件、图像显示装置、及它们的制造方法


[0001]本专利技术涉及光学薄膜的制造方法、光学薄膜、光学构件、图像显示装置、光学构件的制造方法及图像显示装置的制造方法。

技术介绍

[0002]图像显示装置等中使用的光学薄膜中，有时通过液体的涂覆形成防眩层等非透明的层(专利文献1等)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2009
‑
109683号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的问题
[0007]另一方面，这样的光学薄膜中，有时将防眩层的一部分开孔，在其孔的部分形成透明的透明硬涂层。但是，该情况下，有在光学薄膜的制造工序上引起如下的问题的担心。
[0008]图4的(a)～(b)的工序截面图中示出了如前所述的光学薄膜的制造工序的一例。首先，如图4的(a)所示，用掩蔽材料21被覆基材11的一个面。在掩蔽材料21形成贯通孔21h。接着，从掩蔽材料21上方涂覆(涂布)透明硬涂层形成用液。通过该透明硬涂层形成用液的固化，如图4的(a)所示在掩蔽材料21的贯通孔21h内形成透明硬涂层(透明层)13。通过透明硬涂层形成用液的固化，在掩蔽材料21上形成不要层13b。
[0009]接着，如图4的(b)所示，将掩蔽材料21与不要层13b一起从基材11剥离并去除。进而，在基材11的形成有透明硬涂层13的一侧的面涂覆防眩层形成用液并使其固化，如图所示，形成防眩层(非透明层)12。但是，此时有如下的担心：如果透明硬涂层13表面的凹部深，则防眩层形成用液会残留于透明硬涂层13表面的凹部内。若该残留的防眩层形成用液固化，则如图4的(b)所示，会在透明硬涂层13表面形成非透明部12d，有损害透明硬涂层13的透明性的担心。
[0010]因此，本专利技术的目的在于，提供不损害透明层的透明性的光学薄膜的制造方法、光学薄膜、光学构件、图像显示装置、光学构件的制造方法及图像显示装置的制造方法。
[0011]用于解决问题的方案
[0012]为了达成前述目的，本专利技术的光学薄膜的制造方法的特征在于，
[0013]其为在基材上层叠有非透明层的光学薄膜的制造方法，
[0014]前述非透明层具有贯通孔，并且在该贯通孔内形成透明层，
[0015]前述制造方法包括：掩蔽材料被覆工序、透明层形成工序、掩蔽材料去除工序及非透明层形成工序，
[0016]前述掩蔽材料被覆工序中，用形成有前述透明层形成用贯通孔的掩蔽材料被覆前
述基材的一个面，
[0017]前述掩蔽材料被覆工序后，在前述透明层形成工序中，在前述透明层形成用贯通孔内涂覆透明层形成用液从而形成前述透明层，
[0018]前述透明层形成工序后，在前述掩蔽材料去除工序中，将前述掩蔽材料从前述基材去除，
[0019]前述掩蔽材料去除工序后，在前述非透明层形成工序中，在前述基材的前述透明层形成面上涂覆非透明层形成用液从而形成前述非透明层，
[0020]前述透明层的最薄部的厚度与前述透明层形成用贯通孔外周的前述掩蔽材料的最小厚度满足下述数学式(1)的关系。
[0021]T2/T1≤3(1)
[0022]前述数学式(1)中，T1为前述透明层的最薄部的厚度(μm)，T2为前述透明层形成用贯通孔外周的前述掩蔽材料的最小厚度(μm)。
[0023]本专利技术的光学薄膜为通过前述本专利技术的光学薄膜的制造方法制造的光学薄膜。
[0024]本专利技术的光学构件为包含本专利技术的光学薄膜的光学构件。
[0025]本专利技术的图像显示装置为包含本专利技术的光学薄膜或本专利技术的光学构件的图像显示装置。
[0026]本专利技术的光学构件的制造方法为包括通过前述本专利技术的光学薄膜的制造方法制造前述本专利技术的光学薄膜的工序的前述本专利技术的光学构件的制造方法。
[0027]本专利技术的图像显示装置的制造方法为包括通过前述本专利技术的光学薄膜的制造方法制造前述本专利技术的光学薄膜的工序的前述本专利技术的图像显示装置的制造方法。
[0028]专利技术的效果
[0029]根据本专利技术，能够提供不损害透明层的透明性的光学薄膜的制造方法、光学薄膜、光学构件、图像显示装置、光学构件的制造方法及图像显示装置的制造方法。
附图说明
[0030]图1为示出本专利技术的光学薄膜及其制造方法的一例的工序截面图。
[0031]图2为通过图1的制造方法制造的本专利技术的光学薄膜的俯视图。
[0032]图3为示出本专利技术的光学薄膜的制造方法的一例的另一工序截面图。
[0033]图4为示出本专利技术关联的光学薄膜的制造方法的一例的工序截面图。
[0034]附图标记说明
[0035]10 光学薄膜
[0036]11 基材
[0037]12 非透明层
[0038]12a 树脂层
[0039]12b 颗粒
[0040]12d 非透明部
[0041]13 透明层
[0042]13b 不要层
[0043]21 掩蔽材料
[0044]21h 透明层形成用贯通孔
具体实施方式
[0045]接着，举出例子更具体地对本专利技术进行说明。但是，本专利技术不受以下说明的任何限定。
[0046]本专利技术的光学薄膜的制造方法中，例如前述透明层的长径R1可以为2.5mm以上。
[0047]本专利技术的光学薄膜的制造方法中，例如，前述透明层表面的水接触角可以为85
°
以上。
[0048]本专利技术的光学薄膜的制造方法中，例如，前述透明层中，最薄部的厚度与最厚部的厚度可以满足下述数学式(2)的关系。
[0049]H1/T1≤3.5(2)
[0050]前述数学式(2)中，T1为前述透明层的最薄部的厚度(μm)，H1为前述透明层的最厚部的厚度(μm)。
[0051]本专利技术的光学薄膜的制造方法中，例如，前述透明层的波长550nm下的透光率可以为80％以上或81％以上。
[0052]本专利技术的光学薄膜的制造方法中，例如，前述透明层可以为透明硬涂层。
[0053]本专利技术的光学薄膜的制造方法中，例如，前述非透明层的波长550nm下的透光率可以不足80％或为79％以下。
[0054]本专利技术的光学薄膜的制造方法中，例如，前述非透明层可以为防眩层。
[0055]本专利技术的光学薄膜的制造方法中，例如可以：
[0056]前述基材及前述掩蔽材料为长条状，
[0057]边输送前述基材边连续进行前述掩蔽材料被覆工序、前述透明层形成工序、前述掩蔽材料去除工序及前述非透明层形成工序。
[0058]本专利技术的光学构件例如可以为偏光板。
[0059]需要说明的是，本专利技术中，对于“重量”和“质量”，只要没有特别说明，则可以彼此替换。例如，“质量份”可以替换为“重量份”、“重量份”可以替换为“质量本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学薄膜的制造方法，其特征在于，其为在基材上层叠有非透明层的光学薄膜的制造方法，所述非透明层具有贯通孔，并且在该贯通孔内形成透明层，所述制造方法包括：掩蔽材料被覆工序、透明层形成工序、掩蔽材料去除工序及非透明层形成工序，所述掩蔽材料被覆工序中，用形成有所述透明层形成用贯通孔的掩蔽材料被覆所述基材的一个面，所述掩蔽材料被覆工序后，在所述透明层形成工序中，在所述透明层形成用贯通孔内涂覆透明层形成用液从而形成所述透明层，所述透明层形成工序后，在所述掩蔽材料去除工序中，将所述掩蔽材料从所述基材去除，所述掩蔽材料去除工序后，在所述非透明层形成工序中，在所述基材的所述透明层形成面上涂覆非透明层形成用液从而形成所述非透明层，所述透明层的最薄部的厚度与所述透明层形成用贯通孔外周的所述掩蔽材料的最小厚度满足下述数学式(1)的关系：T2/T1≤3(1)所述数学式(1)中，T1为所述透明层的最薄部的厚度(μm)，T2为所述透明层形成用贯通孔外周的所述掩蔽材料的最小厚度(μm)。2.根据权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其中，所述透明层的长径R1为2.5mm以上。3.根据权利要求1或2所述的光学薄膜的制造方法，其中，所述透明层表面的水接触角为85
°
以上。4.根据权利要求1或2所述的光学薄膜的制造方法，其中，所述透明层中，最薄部的厚度与最厚部的厚度满足下述数学式(2)的关系：H1/T1≤3.5(2...

【专利技术属性】
技术研发人员：远藤宽也，桥本尚树，安藤豪彦，越智元气，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：