OLED像素形成用掩模及框架一体型掩模制造技术

本发明专利技术涉及OLED像素形成用掩模及框架一体型掩模。本发明专利技术涉及的OLE像素形成用掩模，包括形成有多个掩模图案的掩模单元和掩模单元周围的虚设部，虚设部的至少一部分形成有相隔设置的多个焊接部，焊接部与掩模单元的边缘之间形成有多个虚设部防弯图案。间形成有多个虚设部防弯图案。间形成有多个虚设部防弯图案。

【技术实现步骤摘要】
OLED像素形成用掩模及框架一体型掩模


[0001]本专利技术涉及OLED像素形成用掩模及框架一体型掩模。更详细地，涉及一种掩模附着到框架上时能够防止掩模发生变形的同时焊接时可减少掩模变形以提高位置精确度的OLED像素形成用掩模及框架一体型掩模。

技术介绍

[0002]作为OLED制造工艺中形成像素的技术，主要使用FMM(Fine Metal Mask，精细金属掩模)方法，该方法将薄膜形式的金属掩模(Shadow Mask，阴影掩模)紧贴到基板且在所需位置上蒸镀有机物。
[0003]现有的掩模制造方法通过准备作为掩模使用的金属薄板并在金属薄板上涂敷PR后进行图案化或者进行PR涂敷以具有图案之后经蚀刻从而制造具有图案的掩模。在超高画质的OLED中，现有的QHD画质为500至600PPI(pixel per inch，每英寸像素)，像素的尺寸达到约30至50μm，而4KUHD、8KUHD高画质具有比之更高的
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860PPI，
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1600PPI等的分辨率。因此，需要开发能够精确地调节掩模图案大小的技术。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种OLED像素形成用掩模，其中，包括形成有多个掩模图案的掩模单元和掩模单元周围的虚设部，在虚设部的至少一部分形成有相隔设置的多个焊接部，在焊接部与掩模单元的边缘之间形成有多个虚设部防弯图案。2.如权利要求1所述的OLED像素形成用掩模，其中，虚设部防弯图案形成为贯通或半蚀刻掩模的形态。3.如权利要求1所述的OLED像素形成用掩模，其中，虚设部防弯图案包括第一单位图案和第二单位图案，所述第一单位图案贯通掩模，所述第二单位图案与第一单位图案相隔设置且以半蚀刻形态形成。4.如权利要求1所述的OLED像素形成用掩模，其中，焊接部与掩模单元的边缘之间、焊接部与相邻焊接部之间中至少一区域形成有平均宽度大于虚设部防弯图案的防皱图案。5.如权利要求4所述的OLED像素形成用掩模，其中，掩模的厚度为5μm至40μm，虚设部防弯图案的平均宽度为1μm至40μm。6.如权利要求1所述的OLED像素形成用掩模，其中，虚设部防弯图案进一步形成于焊接部与相邻的焊接部之间、焊接部与虚设部边缘之间中的至少一区域上。7.如权利要求1所述的OLED像素形成用掩模，其中，在对应焊接部的掩模部分上，以与OLED像素蒸镀对象基板接触的面为基准形成有段差，使对应焊接部的掩模部分的厚度薄于焊接部以外的虚设部区域的厚度。8.一种框架一体型掩模，其由多个OLED像素形成用掩模与用于支撑掩模的框架形成一体，其中，该框架一体型掩模包括：多个掩模；及框架，其具有多个掩模单元区域，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李炳一，
申请(专利权)人：悟劳茂材料公司，
类型：发明
国别省市：