蒸镀掩模的制造方法技术

技术编号:33540140 阅读:46 留言:0更新日期:2022-05-21 09:44
本发明专利技术提供一种制造可靠性高的蒸镀掩模的方法。本发明专利技术的蒸镀掩模的制造方法包括:对具有开口部的框主体的第1面,以覆盖所述开口部的方式粘接第1粘接层的步骤;沿着平面视时的所述框主体的至少内缘,有选择地对与所述框主体重叠的所述第1粘接层的一部分进行曝光的步骤;在曝光后的第1粘接层上粘接第1基板的步骤;和将所述框主体作为掩模来对所述第1粘接层的一部分进行显影的步骤。层的一部分进行显影的步骤。层的一部分进行显影的步骤。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩模的制造方法


[0001]本专利技术的一个实施方式涉及蒸镀掩模的制造方法。

技术介绍

[0002]近年来,众所周知的是使用有机EL元件作为发光元件的有机EL显示装置。有机EL元件在阳极电极与阴极电极之间具有包含有机EL材料的层(以下称作“有机EL层”)。有机EL层包括发光层、电子注入层、空穴注入层等功能层。通过选择构成功能层的有机材料,有机EL元件能够以各种波长的颜色发光。
[0003]真空蒸镀法用于形成以低分子化合物为材料的有机EL元件的薄膜。在真空蒸镀法中,通过在真空下利用加热器对蒸镀材料进行加热使其升华,并使其在基板表面沉积(蒸镀)而形成薄膜。此时,使用具有多个细微开口图案的掩模(蒸镀掩模),能够形成高精细的薄膜图案。
[0004]蒸镀掩模分为使用蚀刻形成开口图案的精细金属掩模(FMM)和使用电铸技术形成开口图案的电致精细形成掩模(EFM)。例如,专利文献1中公开了一种通过电铸技术形成具有高精细开口图案的掩模主体,并且通过电铸技术将所形成的掩模主体固定在框体上的方法。
[0005]现有技术文献
[00本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀掩模的制造方法,其特征在于,包含:对具有开口部的框主体的第1面,以覆盖所述开口部的方式粘接第1粘接层的步骤;沿着平面视时的所述框主体的至少内缘,有选择地对与所述框主体重叠的所述第1粘接层的一部分进行曝光的步骤;在曝光后的第1粘接层上粘接第1基板的步骤;和将所述框主体作为掩模来对所述第1粘接层的一部分进行显影的步骤。2.如权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法,其特征在于,所述第1粘接层由感光性树脂构成。3.如权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法,其特征在于,所述第1粘接层的一部分是与所述框主体重叠的部分中的、位于自所述框主体的边缘起的50μm以上100μm以下的范围内的部分。4.如权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法,其特征在于,有选择地对所述第1粘接层的一部分进行曝光的步骤中包含通过直接描绘的方式来照射紫外线的步骤。5.如权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法,其特征在于,还包含沿着平面视时的所述框主体的外缘,有选择地对与所述框主体重叠的所述第1粘接层的一部分进行曝光的步骤。6.如权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法,其特征在于,包含:在支承基板上通过电镀来形成具有多个开口部的掩模部的步骤;在所述掩模部之上经由所述第1粘接层粘接所述框主体的步骤;通过电镀来形成将...

【专利技术属性】
技术研发人员:山田哲行松本优子
申请(专利权)人:株式会社日本显示器
类型:发明
国别省市:

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