【技术实现步骤摘要】
一种半导体晶圆UV机
[0001]本技术涉及晶圆加工
,具体涉及一种半导体晶圆UV机。
技术介绍
[0002]目前,在晶圆的加工过程中,都会使用在晶圆UV机对晶圆进行照射。但是当前的晶圆UV机多是针对单一尺寸的晶圆进行设计,当需要对不同尺寸的晶圆进行照射时,则需要更换不同的晶圆载盘放置在晶圆UV机,增加了使用的不便性。
技术实现思路
[0003]本技术的目的是针对现有技术中的上述不足,提供了一种半导体晶圆UV机。
[0004]本技术的目的通过以下技术方案实现:一种半导体晶圆UV机,包括机体;所述机体上滑动设有两组抽屉组;每组抽屉组均包括第一抽屉以及第二抽屉;所述第一抽屉设于第二抽屉的顶部;所述第二抽屉内设有晶圆载盘;
[0005]所述晶圆载盘设有若干个第一限位件以及若干个第二限位件;四个第一限位件之间形成有用于放置第一尺寸的晶圆的第一容置腔;三个第二限位件之间形成有用于放置第二尺寸的晶圆的第二容置腔。
[0006]本技术进一步设置为,所述第一限位件的数量为八个;八个第一限位件分成两组 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体晶圆UV机,其特征在于:包括机体(1);所述机体(1)上滑动设有两组抽屉组;每组抽屉组均包括第一抽屉(11)以及第二抽屉(12);所述第一抽屉(11)设于第二抽屉(12)的顶部;所述第二抽屉(12)内设有晶圆载盘(6);所述晶圆载盘(6)设有若干个第一限位件(2)以及若干个第二限位件;四个第一限位件(2)之间形成有用于放置第一尺寸的晶圆的第一容置腔;三个第二限位件之间形成有用于放置第二尺寸的晶圆的第二容置腔。2.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆UV机,其特征在于:所述第一限位件(2)的数量为八个;八个第一限位件(2)分成两组分别形成有用于放置第一尺寸的晶圆的第一容置腔。3.根据权利要求2所述的一种半导体晶圆UV机,其特征在于:其中的四个第一限位件(2)设于同一直线上。4.根据权利要求3所述的一种半导体晶圆UV机,其特征在于:所述第二限位件包括...
【专利技术属性】
技术研发人员:曾远,张会战,袁刚,郑朝生,
申请(专利权)人:广东利扬芯片测试股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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