一种测量机滑轨清理机构制造技术

技术编号:33588760 阅读:20 留言:0更新日期:2022-05-27 00:01
本实用新型专利技术涉及测量机清理辅助工具技术领域,特别提供了一种测量机滑轨清理机构,安装在测量机支撑柱上,包括支架、轴、弹簧、阻尼器、梁和托盘,支架设有两个,两个支架的一端均固定连接在测量机支撑柱上,两个支架的另一端分别与轴的两端连接,弹簧设有两个,均套接在轴上,梁的中部活动套接在两个弹簧之间的轴上,阻尼器也设有两个,分别套接在梁与两个弹簧之间的轴上,两个弹簧均处于压缩状态,梁的两端与托盘可拆卸地连接,在托盘上设有清理组件。本实用新型专利技术能够节省清理轨道的时间,提高工作效率,有效防止因轨道清理不及时造成测量机故障停机的风险。机故障停机的风险。机故障停机的风险。

【技术实现步骤摘要】
一种测量机滑轨清理机构


[0001]本技术涉及测量机清理辅助工具
,特别提供了一种测量机滑轨清理机构。

技术介绍

[0002]目前CMM测量机被广泛应用在机械制造领域的精密测量室。该设备测量精度较高,对工件和测量环境的清洁度有一定要求。但金属冷加工往往使用切削方式,易产生铁屑。铁屑掉落在理石平台上容易造成CMM测量机立柱的支撑脚刮擦,造成设备传感器报警故障停机,无法测量。

技术实现思路

[0003]为了解决上述技术问题,本技术提供了一种测量机滑轨清理机构,铁屑和颗粒物可随托盘被及时清理,保证CMM测量机Y轴运行轨道的清洁,能够预防铁屑等固体颗粒物对精密测量设备的故障威胁。
[0004]本技术是这样实现的,提供一种测量机滑轨清理机构,安装在测量机支撑柱上,包括支架、轴、弹簧、阻尼器、梁和托盘,支架设有两个,两个支架的一端均固定连接在测量机支撑柱上,两个支架的另一端分别与轴的两端连接,弹簧设有两个,均套接在轴上,梁的中部活动套接在两个弹簧之间的轴上,阻尼器也设有两个,分别套接在梁与两个弹簧之间的轴上,两个弹簧均处于压缩状态,梁的两端与托盘可拆卸地连接,在托盘上设有清理组件。
[0005]优选地,在测量机支撑柱和所述支架上均设有螺孔,设有多个连接螺钉穿过支架和测量机支撑柱上的螺孔,将支架固定连接在测量机支撑柱上。
[0006]进一步优选,两个所述支架倾斜连接在所述测量机支撑柱上,且靠近测量机支撑柱的一端高于另一端。
[0007]进一步优选,所述梁的两端与所述托盘通过注塑件卡扣结构可拆卸地连接。
[0008]进一步优选,在所述托盘的下表面,设有含磁钢的尼龙刷。
[0009]进一步优选,所述测量机为CMM测量机。
[0010]与现有技术相比,本技术的优点在于:
[0011]节省清理轨道的时间,提高工作效率,有效防止因轨道清理不及时造成测量机故障停机的风险。
附图说明
[0012]下面结合附图及实施方式对本技术作进一步详细的说明:
[0013]图1为本技术俯视结构示意图;
[0014]图2为本技术侧视结构示意图;
[0015]图3为本技术在测量机上连接位置的示意图。
具体实施方式
[0016]为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白,下面结合附图及实施例,对本技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术,并不用于限定本技术。
[0017]参考图1、图2和图3,本技术提供一种测量机滑轨清理机构,安装在测量机支撑柱8上,优选安装在图3中A位置,清理机构包括支架2、轴3、弹簧4、阻尼器5、梁6和托盘7,支架2设有两个,两个支架2的一端均固定连接在测量机支撑柱8上,两个支架2的另一端分别与轴3的两端连接,弹簧4设有两个,均套接在轴3上,梁6的中部活动套接在两个弹簧4之间的轴3上,阻尼器5也设有两个,分别套接在梁6与两个弹簧4之间的轴3上,两个弹簧4均处于压缩状态,梁6的两端与托盘7可拆卸地连接,在托盘7上设有清理组件。
[0018]在测量机工作过程中,通过推动两个阻尼器5在轴3上移动,从而调整梁6的位置,通过梁6位置的移动,带动托盘7位置的移动,并且梁6可以在轴3上转动,以调整不同的清理角度。弹簧4使两个阻尼器5压紧梁6,保证调整好后的梁6的位置稳定。
[0019]为了方便安装或拆卸本机构,作为技术方案的改进,在测量机支撑柱8和所述支架2上均设有螺孔,设有多个连接螺钉1穿过支架2和测量机支撑柱8上的螺孔,将支架2固定连接在测量机支撑柱8上。
[0020]优选的,两个所述支架2倾斜连接在所述测量机支撑柱8上,且靠近测量机支撑柱8的一端高于另一端。
[0021]由于在清理过程中,时间久了清理组件上积攒的灰尘或金属屑过多,影响清理效果,作为技术方案的改进,所述梁6的两端与所述托盘7通过注塑件卡扣结构可拆卸地连接。
[0022]为了将测量机上各种类型的杂物均清理干净,作为技术方案的改进,在所述托盘7的下表面,设有含磁钢的尼龙刷。尼龙材料可静电吸附清小灰尘,磁钢可吸附铁屑等含铁杂质,毛刷可清扫大颗粒物杂质。
[0023]优选地,所述测量机为CMM测量机。
[0024]上面结合附图对本技术的实施方式做了详细说明,但是本技术并不限于上述实施方式,在本领域普通技术人员所具备的知识范围内,还可以在不脱离本技术宗旨的前提下作出各种变化。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种测量机滑轨清理机构,其特征在于,安装在测量机支撑柱(8)上,包括支架(2)、轴(3)、弹簧(4)、阻尼器(5)、梁(6)和托盘(7),支架(2)设有两个,两个支架(2)的一端均固定连接在测量机支撑柱(8)上,两个支架(2)的另一端分别与轴(3)的两端连接,弹簧(4)设有两个,均套接在轴(3)上,梁(6)的中部活动套接在两个弹簧(4)之间的轴(3)上,阻尼器(5)也设有两个,分别套接在梁(6)与两个弹簧(4)之间的轴(3)上,两个弹簧(4)均处于压缩状态,梁(6)的两端与托盘(7)可拆卸地连接,在托盘(7)上设有清理组件。2.根据权利要求1所述的测量机滑轨清理机构,其特征在于,在测量机支撑柱(8)...

【专利技术属性】
技术研发人员:王进军何佳房宁田锡钰
申请(专利权)人:沈阳罕王精密轴承有限公司
类型:新型
国别省市:

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