一种真空镀膜试验装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种真空镀膜试验装置，涉及真空镀膜技术领域，能在完成基本真空镀膜的同时，还能够实现对阴极靶材收集率的测试。该装置包括依次设置的上料机构、第一分子泵室、工艺成膜室和第二分子泵室；所述第一分子泵室和第二分子泵室均和用于抽真空的真空结构连接；所述工艺成膜室内设有升降机构；所述升降机构包括升降平台和用于实现升降平台升降的动力导向结构；所述升降平台包括水平设置的靶材收集板、冷却板以及竖直设置的支撑杆；所述冷却板设于所述靶材收集板下方，所述支撑杆设置在所述冷却板下方；所述支撑杆的底端与所述动力导向结构连接。所述动力导向结构连接。所述动力导向结构连接。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜试验装置


[0001]本技术涉及真空镀膜
，尤其涉及一种真空镀膜试验装置。

技术介绍

[0002]目前现有的真空镀膜试验装置的普遍情况是，可以进行一些真空关键部件的性能测试，靶材利用率的测试，阴极膜层均匀性的测试，制备相关膜层进行相关性能测试等。但还没有专门针对旋转靶材收集率进行测试的真空试验装置。
[0003]而要对旋转靶材的收集率进行测试的难点在于，首先需要将基板移动对旋转阴极的动态膜层均匀性进行测试并进行调整，获取阴极的有效溅射宽度数据。而另一方面测试靶材收集率需要让基板在靶材下方持续溅射，长时间的溅射带来的问题就是基板的热无法散去导致基板严重变形带来膜层脱落、真空系统受损等一系列可预知及不可预知的风险，导致测试无法进行。针对这个问题还没有比较有效的解决方案。
[0004]因此，有必要研究一种新的真空镀膜试验装置来应对现有技术的不足，以解决或减轻上述一个或多个问题。

技术实现思路

[0005]有鉴于此，本技术提供了一种真空镀膜试验装置，在完成基本真空镀膜的同时，还能够实现对阴极靶材收集率的测试。
[0006]本技术提供一种真空镀膜试验装置，所述装置包括依次设置的上料机构、第一分子泵室、工艺成膜室和第二分子泵室；所述第一分子泵室和第二分子泵室均和用于抽真空的真空结构连接；
[0007]所述工艺成膜室内设有升降机构；所述升降机构包括升降平台和用于实现升降平台升降的动力导向结构；
[0008]所述升降平台包括水平设置的靶材收集板、冷却板以及竖直设置的支撑杆；所述冷却板设于所述靶材收集板下方，所述支撑杆设置在所述冷却板下方；
[0009]所述支撑杆的底端与所述动力导向结构连接。
[0010]如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述动力导向结构包括金属支架、导轨、滑块、丝杆和电机；
[0011]所述支撑杆的底端与水平设置的所述金属支架连接，所述金属支架通过垂直设置的所述丝杆与所述电机连接；所述丝杆通过所述滑块与竖直设置的所述导轨滑动连接。
[0012]如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述支撑杆的底端穿过所述工艺成膜室的底面并伸出，伸出部分通过动密封结构与所述动力导向结构连接。
[0013]如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述动密封结构包括上真空法兰、下真空法兰以及可伸缩波纹管；
[0014]所述上真空法兰通过螺栓与所述工艺成膜室的底面固接，所述下真空法兰通过螺
栓与所述动力导向结构固接；
[0015]所述可伸缩波纹管的上端与所述上真空法兰固接，下端与所述下真空法兰固接。
[0016]如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述上真空法兰与所述工艺成膜室的底面之间设有0型密封圈实现密封连接，所述下真空法兰与所述动力导向结构之间设有0型密封圈实现密封连接。
[0017]如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述真空结构包括机械泵组、第一分子泵、第二分子泵、第一管道和第二管道；
[0018]所述机械泵组通过所述第一管道与所述第一分子泵室连接，所述第一管道上设有所述第一分子泵；
[0019]所述机械泵组通过所述第二管道与所述第二分子泵室连接，所述第二管道上设有所述第二分子泵。
[0020]如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述上料机构包括上料支撑结构、若干第一滚轮以及上料电机；
[0021]所述第一滚轮设于所述上料支撑结构上，所述上料电机与所述第一滚轮连接。
[0022]如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述第一分子泵室、所述工艺成膜室和所述第二分子泵室内均设有若干第二滚轮，所述第二滚轮与传动电机连接；所述靶材收集板设于所述第二滚轮下方。
[0023]如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述工艺成膜室内设有阴极结构，所述阴极结构包括电源和旋转阴极；所述旋转阴极吊设在所述工艺成膜室上壁。
[0024]如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述工艺成膜室与工艺气体导入部件连接，所述工艺气体导入部件包括气体源、工艺气体管路以及设于所述工艺气体管路上的控制器件；
[0025]所述工艺气体管路的两端分别连接所述气体源和所述工艺成膜室内腔。
[0026]与现有技术相比，本技术具有如下优点或有益效果：本真空镀膜试验装置通过升降平台与传动平台的结合设计，实现了切实有效且低成本投入的真空镀膜试验装置；
[0027]上述技术方案中的另一个技术方案具有如下优点或有益效果：在低成本的配置下可以实现市面常见真空镀膜试验设备可以测试的真空部件的性能测试、靶材利用率、膜层均匀性等测试，同时还可以实现对阴极靶材收集率的测试，配合阴极的优化设计达到开发出低靶材耗量的阴极的目的。
附图说明
[0028]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0029]图1是本技术一个实施例提供的真空镀膜试验装置结构示意图；
[0030]图2是本技术一个实施例提供的升降机构动密封示意图。
[0031]其中，图中：
[0032]1、上料机构；2、第一分子泵室、3、工艺成膜室；4、第二分子泵室；5、升降机构；6、真空结构；7、托盘；
[0033]11、第一滚轮；12、上料支撑结构；
[0034]21、第二滚轮；22、翻板阀；
[0035]31、阴极结构；32、工艺气体导入部件；321、电磁阀；322、MFC；323、手阀；
[0036]51、靶材收集板；52、水冷板；53、支撑杆；54、动密封结构；55、金属支架；56、丝杆；57、导轨；58、滑块；59、电机；
[0037]541、上真空法兰；542、下真空法兰；543、可伸缩波纹管；544、0型密封圈；545、螺栓；
[0038]61、机械泵组；62、分子泵。
具体实施方式
[0039]为了更好的理解本技术的技术方案，下面结合附图对本技术实施例进行详细描述。
[0040]应当明确，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。
[0041]在本技术实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本技术。在本技术实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜试验装置，其特征在于，所述装置包括依次设置的上料机构、第一分子泵室、工艺成膜室和第二分子泵室；所述第一分子泵室和第二分子泵室均和用于抽真空的真空结构连接；所述工艺成膜室内设有升降机构；所述升降机构包括升降平台和用于实现升降平台升降的动力导向结构；所述升降平台包括水平设置的靶材收集板、冷却板以及竖直设置的支撑杆；所述冷却板设于所述靶材收集板下方，所述支撑杆设置在所述冷却板下方；所述支撑杆的底端与所述动力导向结构连接。2.根据权利要求1所述的真空镀膜试验装置，其特征在于，所述动力导向结构包括金属支架、导轨、滑块、丝杆和电机；所述支撑杆的底端与水平设置的所述金属支架连接，所述金属支架通过垂直设置的所述丝杆与所述电机连接；所述丝杆通过所述滑块与竖直设置的所述导轨滑动连接。3.根据权利要求1所述的真空镀膜试验装置，其特征在于，所述支撑杆的底端穿过所述工艺成膜室的底面并伸出，伸出部分通过动密封结构与所述动力导向结构连接。4.根据权利要求3所述的真空镀膜试验装置，其特征在于，所述动密封结构包括上真空法兰、下真空法兰以及可伸缩波纹管；所述上真空法兰通过螺栓与所述工艺成膜室的底面固接，所述下真空法兰通过螺栓与所述动力导向结构固接；所述可伸缩波纹管的上端与所述上真空法兰固接，下端与所述下真空法兰固接。5.根据权利要求4所述的真空镀膜试验装置，其特征在于，所述上真空法兰与所述工艺...

【专利技术属性】
技术研发人员：解传佳，张永胜，吴超，梁得刚，
申请(专利权)人：苏州迈为科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：