紫外光清洁系统和使用方法技术方案

本公开涉及紫外光清洁系统和使用方法。所述清洁系统包括被配置为发射预定波长范围内的紫外(UV)光的UV光源以及对所述预定波长范围具有预定透明度的目标。所述清洁系统还可以包括可去除地联接到所述目标的接触元件。所述UV光源清洁所述目标，所述目标被配置为响应于力被施加到所述目标而引起所述接触元件的运动。所述清洁系统还可以包括一个或更多个反射器或吸收器，所述反射器或吸收器联接到所述目标或所述UV光源或相对于所述目标或所述UV光源设置，以控制UV光的发射。以控制UV光的发射。以控制UV光的发射。

【技术实现步骤摘要】
紫外光清洁系统和使用方法


[0001]本公开涉及紫外光清洁系统和使用方法。

技术介绍

[0002]许多用户可能接触诸如零售空间、飞机或其他运输工具这样的区域中的设备和家具。这使在使用间隙清洁该设备是具有挑战性的，因此增加了设备和家具上可能存在诸如污垢、细菌或病毒这样的不良因素的机会。这些不良因素可以在与设备接触的用户和与这些用户有接触的人之间转移。目前的解决方案包括诸如完全替换高频接触元件或用抗菌涂层涂覆这种高频接触元件这样的解决方案。这样的解决方案是耗时的，并不允许进行简单的改造。因此，仍然需要清洁供众多当事方使用的设备的系统和方法。

技术实现思路

[0003]本公开提供了一种清洁系统，在一方面，所述清洁系统包括：目标，其对波长范围从约222纳米(nm)至约300nm的UV光至少30％透明；以及接触元件，其可去除地联接到所述目标，并被配置为响应于力被施加到所述目标而引起所述接触元件的运动。
[0004]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述目标对UV光至少约30％透明。
[0005]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述目标从对UV光约50％透明至对UV光约75％透明。
[0006]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述目标由UV透射率为约95％至约99.15％的透明材料形成。
[0007]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述目标由硼硅酸盐玻璃的透明材料形成。
[0008]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述目标的厚度为约0.2毫米(mm)至约20厘米(cm)。
[0009]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述目标经由粘合剂、机械联接件、磁性联接件、压配合联接件或其组合直接联接到所述接触元件。
[0010]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述目标经由固定装置间接联接到所述接触元件。
[0011]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述清洁系统还包括与所述接触元件和所述目标中的每个直接接触并可去除地联接到所述接触元件和所述目标中的每个的部件。
[0012]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述清洁系统还包括紫外(UV)光源，所述UV光源被配置为发射波长范围从约222nm至约254nm的UV光。
[0013]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述清洁系统还包括第一反射器，所述第一反射器被配置为将所述UV光反射到所述目标的至少一个表面上。
[0014]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述第一反射器由含氟聚合物形成。
[0015]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述第一反射器由包括多个孔的材料形成，各孔的最大直径小于222nm。
[0016]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述目标具有至少一个目标吸收器，所述目标吸收器被配置为在UV光穿过所述目标的至少一个表面之后吸收所述UV光。
[0017]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述目标具有第二反射器，所述第二反射器被配置为将从所述UV光源接收的UV光在至少一个方向上反射通过所述目标，以将所述UV光朝向所述目标的至少一个其他表面引导。
[0018]本公开提供了一种清洁系统，在一方面，所述清洁系统包括：紫外(UV)光源，其被配置为发射波长范围从约222nm至约300nm的UV光；目标，其对波长范围从约222纳米(nm)至约300nm的UV光至少30％透明；以及接触元件，其可去除地联接到所述目标，并被配置为响应于力被施加到所述目标而引起所述接触元件的运动。
[0019]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述目标由UV透射率为约95％至约99.15％的透明材料形成。
[0020]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述目标由硼硅酸盐玻璃的透明材料形成。
[0021]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述清洁系统还包括非暂态存储介质，所述非暂态存储介质被配置为存储能由处理器执行并包括至少一个清洁程序的多个逻辑。
[0022]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述清洁系统还包括被配置为检测触发事件的传感器，并且所述至少一个清洁程序被配置为响应于所述传感器检测到所述触发事件而发射所述UV光。
[0023]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述传感器与所述目标关联。
[0024]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述传感器与所述UV光源关联。
[0025]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述传感器为选自以下的类型：温度传感器、压力传感器、定时器及其组合。
[0026]本公开提供了一种清洁方法，在一些方面，所述清洁方法包括：通过与UV清洁系统关联的传感器检测第一触发事件；并且响应于检测到所述第一触发事件，由处理器执行清洁程序以清洁目标。在一方面，执行所述清洁程序包括：激活所述UV清洁系统的UV光源达预定时间段，所述UV光源被配置为进行发射，以发射波长范围为约222nm至约300nm的UV光来清洁所述目标。
[0027]在与以上或以下的任何示例方法结合的一方面，在执行所述清洁程序之后，接合联接到所述目标的接触元件。
[0028]在与以上或以下的任何示例方法结合的一方面，所述方法还包括：将与检测到所述第一触发事件关联的第一时间以及与执行所述清洁程序关联的第二时间存储在数据存
储器上，所述数据存储器与所述UV清洁系统无线通信。
[0029]在与以上或以下的任何示例方法结合的一方面，激活所述UV光源包括致使所述UV光源发射UV光来清洁所述目标的多个表面中的至少一个表面。
[0030]在与以上或以下的任何示例方法结合的一方面，所述方法还包括：由联接到所述目标的反射器反射从所述UV光源接收的所述UV光。
[0031]在与以上或以下的任何示例方法结合的一方面，所述方法还包括：将所述UV光源配置为发射所述UV光来清洁所述目标的多个表面中的第一表面；并且将所述反射器配置为反射所述UV光通过所述多个表面中的第二表面以清洁所述第二表面。
[0032]在与以上或以下的任何示例方法结合的一方面，执行所述清洁程序还包括：激活所述UV光源达预定时间段，所述UV光源被配置为发射预定范围的波长以清洁所述UV光源的预定邻近范围内的多个目标。
[0033]在与以上或以下的任何示例方法结合的一方面，所述第一触发事件是：与安排表关联的预定时间；对与目标关联的接触元件的激活；与先前从所述UV光源发射UV光关联的预定时间；或其组合。
附图说明
[0034]为了可以详细地理解上述特征，可以通过参考示例方面来掌握更具体的描述内容(以上进行了简要总结)，在附图中例示了这些示例方面中的一些。
[0035]图1描绘了根据本公开的一些方面本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洁系统，所述清洁系统包括：目标(104)，其对波长范围从约222纳米至约300纳米的紫外光至少30％透明；以及接触元件(112)，其可去除地联接到所述目标(104)，并被配置为响应于力被施加到所述目标(104)而引起所述接触元件(112)的运动。2.根据权利要求1所述的清洁系统，其中，所述目标(104)对紫外光至少约30％透明。3.根据权利要求1所述的清洁系统，其中，所述目标(104)包括紫外光透射率为约95％至约99.15％的透明材料。4.根据权利要求3所述的清洁系统，其中，所述透明材料包括硼硅酸盐玻璃。5.根据权利要求1至4中任一项所述的清洁系统，其中，所述目标(104)的厚度为约0.2毫米至约20厘米。6.根据权利要求1至4中任一项所述的清洁系统，其中，所述目标(104)经由粘合剂、机械联接件、磁性联接件、压配合联接件或其组合直接联接到所述接触元件(112)。7.根据权利要求1至4中任一项所述的清洁系统，其中，所述目标(104)经由固定装置(106)间接联接到所述接触元件(112)。8.根据权利要求1所述的清洁系统，所述清洁系统还包括与所述接触元件(112)和所述目标(104)中的每个直接接触并可去除地联接到所述接触元件(112)和所述目标(104)中的每个的部件(106)。9.根据权利要求1所述的清洁系统，所述清洁系统还包括：紫外光源(102)，所述紫外光源(102)被配置为发射波长范围从约222纳米至约254纳米的紫外光。10.根据权利要求8所述的清洁系统，所述清洁系统还包括：第一反射器(616)，所述第一反射器(616)被配置为将紫外光反射到所述目标(104)的至少一个表面上。11.根据权利要求8所述的清洁...

【专利技术属性】
技术研发人员：J，
申请(专利权)人：波音公司，
类型：发明
国别省市：