紫外光清洁系统和使用方法技术方案

本公开涉及紫外光清洁系统和使用方法。所述清洁系统包括被配置为发射预定波长范围内的紫外(UV)光的UV光源以及对所述预定波长范围具有预定透明度的目标。所述清洁系统还可以包括可去除地联接到所述目标的接触元件。所述UV光源清洁所述目标，所述目标被配置为响应于力被施加到所述目标而引起所述接触元件的运动。所述清洁系统还可以包括一个或更多个反射器或吸收器，所述反射器或吸收器联接到所述目标或所述UV光源或相对于所述目标或所述UV光源设置，以控制UV光的发射。以控制UV光的发射。以控制UV光的发射。

【技术实现步骤摘要】
紫外光清洁系统和使用方法


[0001]本公开涉及紫外光清洁系统和使用方法。

技术介绍

[0002]许多用户可能接触诸如零售空间、飞机或其他运输工具这样的区域中的设备和家具。这使在使用间隙清洁该设备是具有挑战性的，因此增加了设备和家具上可能存在诸如污垢、细菌或病毒这样的不良因素的机会。这些不良因素可以在与设备接触的用户和与这些用户有接触的人之间转移。目前的解决方案包括诸如完全替换高频接触元件或用抗菌涂层涂覆这种高频接触元件这样的解决方案。这样的解决方案是耗时的，并不允许进行简单的改造。因此，仍然需要清洁供众多当事方使用的设备的系统和方法。

技术实现思路

[0003]本公开提供了一种清洁系统，在一方面，所述清洁系统包括：目标，其对波长范围从约222纳米(nm)至约300nm的UV光至少30％透明；以及接触元件，其可去除地联接到所述目标，并被配置为响应于力被施加到所述目标而引起所述接触元件的运动。
[0004]在与以上或以下的任何示例清洁系统结合的一方面，所述目标对UV光至少约30％透明。
[0005]在与以上或以下的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洁系统，所述清洁系统包括：目标(104)，其对波长范围从约222纳米至约300纳米的紫外光至少30％透明；以及接触元件(112)，其可去除地联接到所述目标(104)，并被配置为响应于力被施加到所述目标(104)而引起所述接触元件(112)的运动。2.根据权利要求1所述的清洁系统，其中，所述目标(104)对紫外光至少约30％透明。3.根据权利要求1所述的清洁系统，其中，所述目标(104)包括紫外光透射率为约95％至约99.15％的透明材料。4.根据权利要求3所述的清洁系统，其中，所述透明材料包括硼硅酸盐玻璃。5.根据权利要求1至4中任一项所述的清洁系统，其中，所述目标(104)的厚度为约0.2毫米至约20厘米。6.根据权利要求1至4中任一项所述的清洁系统，其中，所述目标(104)经由粘合剂、机械联接件、磁性联接件、压配合联接件或其组合直接联接到所述接触元件(112)。7.根据权利要求1至4中任一项所述的清洁系统，其中，所述目标(104)经由固定装置(106)间接联接到所述接触元件(112)。8.根据权利要求1所述的清洁系统，所述清洁系统还包括与所述接触元件(112)和所述目标(104)中的每个直接接触并可去除地联接到所述接触元件(112)和所述目标(104)中的每个的部件(106)。9.根据权利要求1所述的清洁系统，所述清洁系统还包括：紫外光源(102)，所述紫外光源(102)被配置为发射波长范围从约222纳米至约254纳米的紫外光。10.根据权利要求8所述的清洁系统，所述清洁系统还包括：第一反射器(616)，所述第一反射器(616)被配置为将紫外光反射到所述目标(104)的至少一个表面上。11.根据权利要求8所述的清洁...

【专利技术属性】
技术研发人员：J，
申请(专利权)人：波音公司，
类型：发明
国别省市：