一种残胶清洁方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术提出了一种残胶清洁方法及装置，在对待清洁件的待清洁区域清洁残胶之前对待清洁区域进行加热，加热过后采用擦拭件蘸取对应的清洁溶液进行清理操作，由于加热之后残胶软化易清理，同时由于擦拭件具有网状结构，在蘸取清洁溶液后形成纳米毛细管，这些纳米毛细管和待清洁区域表面的残胶接触，产生强大吸附力，最终实现对待清洁件进行清洁并有效去除残胶的效果。胶的效果。胶的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种残胶清洁方法及装置


[0001]本专利技术涉及清洁领域，具体涉及一种残胶清洁方法及装置。

技术介绍

[0002]现有技术中胶材是非常普遍的粘贴材料，但是在撕下胶材后通常都会有残胶留在原结构上，但是在一些敏感的装置上胶材的残胶会导致原结构装置出现运行的问题等，例如：LCD(Liquid Crystal Display的简称)液晶显示器也称LCD显示模组、液晶模块，是指将液晶显示器件、连接件、控制与驱动等外围电路PCB电路板、背光源、结构件等装配在一起的组件，在实际使用的过程中LCD通常都需要贴上ACF(Ausotropic Conductive Film的简称)各向异性导电胶，用于完成LCD与其连接的功能芯片或者(Flexible Printed Circuit的简称)柔性印刷线路板的导通效果。
[0003]当LCD生产中产生的不良需要进行重新绑定作业时，则需要要将已经粘贴完成的ACF进行祛除清洁，目前行业内常规的方法是使用ACF去除液清洁(在LCD电极上涂覆ACF去除液，浸泡几分钟后)，然后用竹签或棉棒对残留在电极上的ACF进行擦拭清洁；
[0004]而现有的ACF去除液的主要成分为：水、酒精、ESTER(酯)、乳酸(C3H6O3，2
‑
羟基丙酸；α
‑
羟基丙酸；丙醇酸)、非离子介面活性剂、安定剂；其酸性很大，腐蚀性强；在使用ACF去除液进行清洁时会破坏ITO电极的物理和化学结构，造成涂膜加速粉化，污染，开裂。

技术实现思路

[0005]为了克服现有技术的缺陷，本专利技术所要解决的技术问题在于提出一种残胶清洁方法及装置，使得有效去除待清洁件上残胶的同时避免腐蚀待清洁件。
[0006]为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：
[0007]本专利技术提供的一种残胶清洁方法，包括：
[0008]将待清洁件的待清洁区域加热至预设温度，所述待清洁区域附着有残胶；
[0009]将擦拭件蘸取用于清除所述残胶的清洁溶液，所述擦拭件具有网状结构，所述清洁溶液进入所述网状结构后形成毛细管；
[0010]用蘸取所述清洁溶液的所述擦拭件对所述待清洁区域进行擦拭。
[0011]其中，所述擦拭件为纳米海绵。
[0012]其中，所述预设温度为60
±
5℃。
[0013]其中，所述待清洁件为LCD，所述残胶为ACF残胶，所述待清洁区域为所述LCD的电极区。
[0014]其中，所述清洁溶液为酒精溶液。
[0015]其中，所述酒精溶液浓度为99.9％。
[0016]其中，所述将擦拭件蘸取用于清除所述残胶的清洁溶液之前还包括：
[0017]将所述清洁溶液加热至所述预设温度。
[0018]一种残胶清洁装置，包括：
[0019]加热装置，用于加热待清洁件中具有残胶的待清洁区域；
[0020]限位装置，用于限制待清洁件的移动，所述待清洁件放置于所述限位装置上，所述加热装置设于所述限位装置的一端；
[0021]擦拭装置，所述擦拭装置包括具有网状结构的擦拭件和用于清除所述残胶的清洁溶液，所述清洁溶液进入所述网状结构后形成毛细管。
[0022]其中，所述限位装置中部设有限位区间，限位区间的一侧开口端与所述加热装置连接；所述待清洁件放置于所述限位区间内，所述待清洁区域与所述加热装置接触加热。
[0023]其中，所述限位装置可调节所述限位区间的区间大小，使所述限位区间的区间大小与待清洁件的大小相适应。
[0024]本专利技术的有益效果为：
[0025]本专利技术提供的一种残胶清洁方法及装置，以清洁LCD电极区的ACF残胶为例，通过在对LCD清洁ACF残胶之前对LCD进行加热，加热过后采用纳米海绵蘸取酒精溶液进行清理操作，由于加热之后ACF残胶软化易清理，同时纳米海绵的材质细密，颗粒细小，其具备网状结构，在蘸湿后形成纳米毛细管，毛细管和物料表面接触产生强大吸附力，依靠纳米海绵的摩擦力可以将ACF快速清理去除，相比于传统的ACF去除液酒精溶液并不会对电机发送物理或者化学反应对LCD电极腐蚀，最终实现对LCD电极进行无伤清洁并且有效去除ACF的效果。
附图说明
[0026]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0027]图1为本专利技术具体实施方式中提供的ACF残胶清洁方法流程图；
[0028]图2为本专利技术具体实施方式中提供的ACF残胶清洁装置示意图。
[0029]附图标识：1加热装置；2限位装置；21限位区间；3待清洁件；4第一存储装置；5第二存储装置。
具体实施方式
[0030]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0031]文中领域内专业名词解释如下
[0032]LCD：液晶显示器；ACF：异方性导电胶膜；FPC：柔性电路板。
[0033]下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本专利技术的技术方案。
[0034]实施例一
[0035]如图1所示，本实施例中提供的一种残胶清洁方法，包括：将具有残胶的待清洁件加热至预设温度；将擦拭件蘸取用于清除残胶相对应的清洁溶液；用蘸取清洁溶液的擦拭件对待清洁件进行擦拭。
[0036]具体的，本实施例以清洁LCD电极区的ACF残胶为例，待清洁件为LCD，对应的清洁溶液为酒精，对于不同的残胶采用相适应的清洁溶液情况相同；
[0037]清洁LCD包括如下步骤：
[0038]将待清洁LCD的电极区加热至预设温度；
[0039]将纳米海绵蘸取酒精溶液；
[0040]将蘸取酒精溶液的纳米海绵放置于待清洁LCD的电极区上进行来回擦拭。现有采用的ACF去除液浸泡LCD后再对LCD上残留的ACF进行擦拭清洁，其中ACF去除液的效果是将ACF进行化学浸泡软化，使得ACF易擦拭清洁，但是由于ACF去除液会腐蚀玻璃的镀层(ITO)，ACF去除液会破坏ITO(电极)的物理和化学结构，造成涂膜加速粉化，污染，开裂，严重时可能会使得LCD的电极失去功能；
[0041]而本实施例的步骤S10中将待清洁LCD的电极区加热至预设温度，其中加热是通过物理方法将ACF进行软化的处理，软化后的ACF更易于对其进行擦拭清洁的操作；由于LCD只有电极区需要与芯片或者FPC连接进行数据传输，因此在LCD需要更换连接的芯片或者FPC时仅需要将LCD的电极区ACF清理干净后重新粘贴ACF后再连接芯片或者FPC即可；...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种残胶清洁方法，其特征在于，包括：将待清洁件的待清洁区域加热至预设温度，所述待清洁区域附着有残胶；将擦拭件蘸取用于清除所述残胶的清洁溶液，所述擦拭件具有网状结构，所述清洁溶液进入所述网状结构后形成毛细管；用蘸取所述清洁溶液的所述擦拭件对所述待清洁区域进行擦拭。2.如权利要求1所述的一种残胶清洁方法，其特征在于，所述擦拭件为纳米海绵。3.如权利要求1所述的一种残胶清洁方法，其特征在于，所述预设温度为60
±
5℃。4.如权利要求1所述的一种残胶清洁方法，其特征在于，所述待清洁件为LCD，所述残胶为ACF残胶，所述待清洁区域为所述LCD的电极区。5.如权利要求4所述的一种残胶清洁方法，其特征在于，所述清洁溶液为酒精溶液。6.如权利要求5所述的一种残胶清洁方法，其特征在于，所述酒精溶液浓度为99.9％。7.如权利要求1所述的一种残胶清洁方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：邹美健，杨思遥，杨小华，
申请(专利权)人：华显光电技术惠州有限公司，
类型：发明
国别省市：