【技术实现步骤摘要】
板材结构
[0001]本技术属于电路板制造
,具体涉及具有预设形状刻蚀通槽的板材结构。
技术介绍
[0002]现有的板材刻蚀方法包含有正片流程与负片流程两种实施方式,但其刻蚀槽皆仅通过单个干膜来定义,因而使得所述刻蚀槽的形状因刻蚀因子差受到局限,比如刻蚀槽的形状呈碗状,造成防焊侧漏较多,组装产生空洞夹层,进而导致现有板材结构难以有进一步的发展空间。
技术实现思路
[0003]针对上述现有技术的不足,本技术提供了板材结构,目的是为了解决现有刻蚀槽的形状因刻蚀因子差受到局限,造成防焊侧漏较多,组装产生空洞夹层,进而导致现有板材结构难以有进一步的发展空间的技术问题。
[0004]本技术提供的板材结构,具体技术方案如下:
[0005]板材结构,包括基底层、电镀层组和绝缘层,所述电镀层组自所述基底层沿厚度方向依序堆栈形成,所述电镀层组开设有刻蚀通孔,所述刻蚀通孔沿厚度方向的截面呈鼓状,所述绝缘层包括连接部和层状部,所述连接部填满所述刻蚀通孔,所述层状部连接所述连接部且设于所述电镀层组上。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.板材结构,其特征在于,包括基底层、电镀层组和绝缘层,所述电镀层组自所述基底层沿厚度方向依序堆栈形成,所述电镀层组开设有刻蚀通孔,所述刻蚀通孔沿厚度方向的截面呈鼓状,所述绝缘层包括连接部和层状部,所述连接部填满所述刻蚀通孔,所述层状部连接所述连接部且设于所述电镀层组上。2.根据权利要求1所述的板材结构,其特征在于,所述刻蚀通孔的刻蚀因子大于等于10。3.根据权利要求1所述的板材结构,其特征在于,所述刻蚀通孔与所述基底层接触的开口为第一开口,所述刻蚀通孔与所述层状部接触的开口为第二开口,所述第一开口的面积为所述第二开口的面积的90%~110%。4.根据权利要求3所述的板材结构,其特征在于,在所述刻蚀通孔沿厚度方向的截面上,所述刻蚀通孔具有垂直所述厚度方向的最大...
【专利技术属性】
技术研发人员:吕政明,王帅,娄微卡,杨海,孙奇,
申请(专利权)人:健鼎无锡电子有限公司,
类型:新型
国别省市:
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