三酮化合物的制造方法技术

根据本发明专利技术，提供一种三酮化合物的制造方法，其特征在于，从在沸点为100℃以上的非质子性极性有机溶剂中混合选自下式(I)(式中，R1和R2各自为氢原子或脲基保护基，它们可以相同或不同)表示的二羧酸化合物和下式(II)(式中，R1和R2与上述式(I)中的定义相同)表示的无水化合物中的至少1种原料化合物与下式(III)(式中，R3为烷基、芳烷基或芳基，Ar为可具有取代基的芳族环基)表示的光学活性胺化合物而得到的混合液中除去水，由此制造下式(IV)(式中，R1和R2与上述式(I)中的定义相同，R3和Ar与上述式(III)中的定义相同)表示的三酮化合物。(III)中的定义相同)表示的三酮化合物。(III)中的定义相同)表示的三酮化合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】三酮化合物的制造方法


[0001]本专利技术涉及三酮化合物的新的制造方法。

技术介绍

[0002]三酮化合物是含有3个羰基的化合物。该化合物可用作各种领域的材料、合成中间体和原料。
[0003]作为利用三酮化合物作为合成中间体的合成方法之一，已知有以下表示的生物素(水溶性维生素的一种)的制造方法(参照专利文献1)。
[0004][化1][0005]以往，上述三酮化合物例如通过以下的方法制造(参照专利文献1、2和3)。
[0006]专利文献1和2的实施例中记载了在含有二羧酸化合物的无水化合物的甲苯中添加光学活性胺化合物，在回流温度下混合。另外，专利文献2的该实施例中记载在含有二羧酸化合物的无水化合物的均三甲苯中添加光学活性胺化合物，在回流温度下混合。
[0007]另外，除了上述方法以外，在专利文献3的实施例中，还记载了将二羧酸化合物、光学活性胺化合物和邻二甲苯的混合物在回流温度下混合。现有技术文献
[0008]专利文献专利文献1：美国专利第3876656号说明书专利文献2：日本特开2018
‑
108978号公报专利文献3：国际公开第2018/025722号小册子

技术实现思路

专利技术要解决的课题
[0009]然而，根据本专利技术人等的研究可知，在通过上述专利文献记载的方法制造三酮化合物时，在以下方面存在改善余地。
[0010]即，如上所述，三酮化合物的以往的制造方法通常在芳族烃系有机溶剂中实施反应。然而，这些溶剂的闪点低。因此，从工业用途的观点考虑，期望在安全性优异、处理容易的溶剂中实施反应。予以说明，均三甲苯的闪点为49℃，邻二甲苯的闪点为32℃，甲苯的闪点为4℃。予以说明，上述闪点的值都是以密闭式测定的值。
[0011]此外，作为三酮化合物的原料的化合物(二羧酸化合物、作为其脱水物的无水化合物等)在上述有机溶剂中的溶解性低。因此，如果不使用想对大量的有机溶剂，则有时作为上述原料的化合物在反应体系中析出而无法进行均匀的反应。
[0012]而且，如果使用大量的有机溶剂，则原料浓度降低，为了使原料彼此充分接触，需要进行较长时间的反应。另外，在反应后将三酮化合物从反应体系中取出时，有时需要花费大量的劳力来除去大量的有机溶剂。
[0013]因此，本专利技术的目的在于提供解决上述课题的三酮化合物的新的制造方法。解决课题的手段
[0014]本专利技术人等为了解决上述课题而反复进行了深入研究。结果发现，通过在特定的有机溶剂中进行上述反应，能够安全性高地、稳定地制造三酮化合物。进而发现，通过使用该有机溶剂，能够相对缩短反应时间，后处理也变得容易，至此完成了本专利技术。
[0015]即，本专利技术包括：三酮化合物的制造方法，其包括：从在沸点为100℃以上的非质子性极性有机溶剂(以下也称为反应溶剂)中混合选自下式(I)表示的二羧酸化合物(以下也简称为二羧酸化合物)和下式(II)表示的无水化合物(以下也简称为无水化合物)中的至少1种原料化合物，和下式(III)表示的光学活性胺化合物(以下也简称为光学活性胺化合物)而得到的混合液中除去水，由此制造下式(IV)表示的三酮化合物(以下也简称为三酮化合物)。
[0016][化2][0017](式中，R1和R2各自为氢原子或脲基保护基，它们可以相同或不同)。
[0018][化3][0019](式中，R1和R2与上述式(I)中的定义相同)。
[0020][化4][0021](式中，R3为烷基、芳烷基或芳基，Ar为可具有取代基的芳族环基)。
[0022][化5][0023](式中，R1和R2与上述式(I)中的定义相同，R3和Ar与上述式(III)中的定义相同)。专利技术效果
[0024]根据本专利技术的制造方法，能够高效地制造三酮化合物。
具体实施方式
[0025]本专利技术是通过从在特定的有机溶剂中混合原料化合物和光学活性胺化合物而得到的混合液中除去水来制造三酮化合物的方法。
[0026]以下，详细说明本专利技术。
[0027]<沸点为100℃以上的非质子性极性有机溶剂(反应溶剂)＞本专利技术的特征在于，作为反应溶剂，使用沸点为100℃以上、不含质子供给性基团且具有极性基团的溶剂。尽管没有特别限制，优选闪点为超过50℃的温度的溶剂，更优选闪点为55℃以上的温度的溶剂。
[0028]在本专利技术中，通过使用具有上述沸点的反应溶剂，在以下详述的<从混合液中除去水>中，主要可以容易地将水取出到反应体系外。因此，反应溶剂的沸点越高越好，更优选为110℃以上，进一步优选为120℃以上，更进一步优选为140℃以上。该沸点的上限没有特别限制，从容易除去该溶剂本身等的实用上的观点考虑，优选为300℃以下。在使用沸点低于100℃的有机溶剂的情况下，存在水难以气化、水的除去变得困难的倾向。
[0029]反应溶剂的种类只要是满足上述要件、不影响反应、且溶解上述原料化合物和上
述光学活性胺化合物的溶剂，就没有特别限制。因此，可以利用通常市售的有机溶剂。作为这样的有机溶剂，例如可举出酰胺类、亚砜类、砜类等。
[0030]作为酰胺类，可举出二甲基乙酰胺(DMA，沸点：165℃，闪点(密闭式)：66℃)、二甲基甲酰胺(DMF，沸点：153℃，闪点(密闭式)：58℃)、N
‑
甲基
‑2‑
吡咯烷酮(NMP，沸点：204℃，闪点(密闭式)：86℃)、N,N
‑
二甲基咪唑烷酮(DMI，沸点：222℃，闪点(密闭式)：95℃)等。
[0031]作为亚砜类，可举出二甲基亚砜(DMSO，沸点：189℃，闪点(密闭式)：89℃)等。
[0032]作为砜类，可举出四氢噻吩1,1
‑
二氧化物(环丁砜，沸点：285℃，闪点(开放式)：177℃)等。
[0033]其中，考虑到稳定性、收率、价格等，优选酰胺类，特别优选二甲基乙酰胺、N
‑
甲基
‑2‑
吡咯烷酮。
[0034]予以说明，反应溶剂可以使用由多种构成的混合溶剂，也可以使用单独种类的溶剂。考虑到操作性等，优选使用单独的溶剂。
[0035]反应溶剂的使用量没有特别限制，从反应速度、经济性、处理的方面考虑，优选反应溶剂的使用量尽可能地少。但是，如果过少，则在以下详述的<后处理>中，存在过滤等操作变得困难的倾向。因此，具体地，反应溶剂的使用量相对于1g原料化合物，优选为0.5～5mL，更优选为0.7～3mL，进一步优选为1～2mL。予以说明，反应溶剂可以使用2种以上的上述溶剂的混合溶剂，此时，混合溶剂的总量满足上述范围即可。
[0036]<原料化合物(底物)＞本专利技术中，使用选自二羧酸化合物和无水化合物中的至少1种作为原料(底物)。
[0037](二羧酸化合物)
[0038]二羧酸化合物是由下式(I)表示的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.三酮化合物的制造方法，其特征在于，从在沸点为100℃以上的非质子性极性有机溶剂中混合选自下式(I)表示的二羧酸化合物和下式(II)表示的无水化合物中的至少1种原料化合物，和下式(III)表示的光学活性胺化合物而得到的混合液中除去水，由此制造下式(IV)表示的三酮化合物，式中，R1和R2各自为氢原子或脲基保护基，它们可以相同或不同，式中，R1和R2与上述式(I)中的定义相同，式中，R3为烷基、芳烷基或芳基，Ar为可具有取代基的芳族环基，式中，R1和R2与上述式(I)中的定义相同，R3和Ar与上述式(III)中的定义相同。2.权利要求1所述的三酮化合物的制造方法，...

【专利技术属性】
技术研发人员：关雅彦，
申请(专利权)人：株式会社德山，
类型：发明
国别省市：