【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】使用电子可变电容器的交互调变失真减缓器
[0001]相关申请案之交互参照
[0002]本申请案主张于2020年10月19日提交的美国实用专利申请案第17/073,709号的优先权,并且还主张于2019年10月21日提交的美国临时申请案第62/923,959号的效益。上述申请案的全部揭露内容于此并入全文作为参考。
[0003]本揭露系关于改善驱动非线性负载的电源供应系统的操作,以及响应于反射交互调变失真(intermodulation distortion,IMD)的电源供应系统的操作。
技术介绍
[0004]电浆制造(plasma fabrication)常用于半导体制造。在电浆制造蚀刻中,离子由电场(electric field)加速,以从基板的表面蚀刻材料或将材料沉积至基板的表面上。在一个基本的实施方式中,电场是基于由功率递送系统的相应的射频(Radio Frequency,RF)或直流(Direct Current,DC)产生器所产生的射频或直流功率信号而产生。由产生器所产生的射频功率信号必须要受到精确控制,以有效地执行电浆蚀刻。
[0005]提供于此的先前技术描述是为了总体上呈现本案的背景。目前命名为专利技术人的工作、在此先前技术部分中描述该工作的程度、以及在提交时原本可以不被当成习知技术的描述的态样既不能明确地也不能暗示地被当成驳回本揭露的习知技术。
附图说明
[0006]匹配网络包含第一可变电抗部分。第一可变电抗部分是配置以响应于匹配网络与负载之间的阻抗来进行调整。 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种匹配网络,其包含:一第一电抗部分,被配置以提供一第一电抗以控制在一第一频率操作下产生一第一射频信号的一第一射频功率源与一负载之间的一阻抗;以及一第二可变电抗部分,响应于该第一射频信号与一第二射频信号之间在该阻抗上的相互作用的一交互调变失真,被配置以调整一第二电抗以控制该阻抗。2.如权利要求1所述的匹配网络,进一步包含一电容控制器,其包含:一回放模块,被配置以响应一触发信号,该触发信号根据该交互调变失真而变化,响应于该触发信号,该回放模块进一步配置以控制该第二可变电抗部分;以及一电抗调节模块,被配置以决定对该第二可变电抗部分的调整。3.如权利要求1所述的匹配网络,其中该交互调变失真根据电浆鞘层相对于该负载的电极的位置而变化,且该阻抗根据该交互调变失真而变化。4.如权利要求1所述的匹配网络,其中该第二电抗包含一电容或一电感中的至少一个,且该电容或该电感中的该至少一个根据控制一二极管或一变容体中的至少一个而变化。5.如权利要求4所述的匹配网络,其中根据施加至该二极管或该变容体中的该至少一个的端点的一偏置电压,来控制该二极管或该变容体中的该至少一个。6.如权利要求5所述的匹配网络,其中该第二可变电抗部分包含配置以输出一控制信号的一控制器,该控制信号改变该二极管或该变容体中的该至少一个的该偏置电压。7.如权利要求5所述的匹配网络,其中该第二可变电抗部分包含配置以输出一控制信号的一控制器,该控制信号改变施加至该二极管或该变容体中的该至少一个的该偏置电压。8.如权利要求1所述的匹配网络,进一步包含:一第三电抗部分,被配置以提供一第三电抗以控制在一第二频率下产生该第二射频信号的一第二射频功率源与该负载之间的一阻抗。9.如权利要求8所述的匹配网络,其中该第一频率大于该第二频率,且该第二可变电抗部分被配置以与该第一电抗部分电性通信。10.如权利要求1所述的匹配网络,其中该第一电抗部分进一步包含一第一可变电抗,该第一可变电抗被配置以控制该第一射频功率源与该负载之间的该阻抗。11.如权利要求9所述的匹配网络,其中该第三电抗部分进一步包含一第三可变电抗,该第三可变电抗被配置以控制该第二射频功率源与该负载之间的该阻抗。12.如权利要求11所述的匹配网络,其中该第一频率大于该第二频率,且该第二可变电抗部分被配置以与该第一电抗部分电性通信。13.一种射频电源供应系统,其包含:一射频功率源;以及一匹配网络,设置于该射频功率源与一负载之间,其包含:一第一第一电抗部分,被配置以提供一第一电抗以控制在一第一频率下产生一第一射频信号的一第一射频功率源与该负载之间的一阻抗,其中该第一电抗为固定的或可变的其中之一;以及一第二可变电抗部分,响应于该第一射频信号与在一第二频率操作下的一第二射频信号之间在该阻抗上的相互作用的一交互调变失真,被配置以调整一第二电抗以引入一电抗
补偿来控制该阻抗;以及一控制器,被配置以与该第二可变电抗部分通信,且配置以产生一控制信号以调整响应于一触发信号的该第二电抗以控制该阻抗;其中该电抗补偿根据该第二射频信号而变化。14.如权利要求13所述的射频电源供应系统,其中该第一射频信号为施加至该负载的一源射频信号,且该第二射频信号为施加至该负载的一偏置射频信号,且该负载为一电浆容室。15.如权利要求13所述的射频电源供应系统,其中该电抗补偿随着依据该触发信号变化的一时序而变化,其中该触发信号指示该第二射频信号相对于该第一射频信号的位置。16.如权利要求13所述的射频电源供应系统,其中该控制器被配置以从一内存中获取该电抗补偿或计算该电抗补偿。17.如权利要求13所述的射频电源供应系统,其中该电抗补偿包含根据该触发信号以一预定顺序及一时序输出的多个电抗。18.如权利要求13所述的射频电源供应系统,其中该控制器被配置以根据该第二射频信号来更新该电抗补偿。19.如权利要求13所述的射频电源供应系统,其中该电抗补偿根据...
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