一种刻蚀机制造技术

本发明专利技术公开了一种刻蚀机，包括固定腔，所述固定腔底部贯穿连接有空心腔，所述空心腔内腔固定设置有正反转电机，所述固定腔内腔顶部设置有两个转轴，所述正反转电机输出轴端部与其中一个转轴传动连接，两个所述转轴外周面均固定设置有皮带轮以及主动齿轮，两个所述皮带轮之间连接有传动皮带，所述固定腔内腔四角位置处均设置有转杆。本发明专利技术通过四个支脚实现对固定腔支撑，提高刻蚀机本体的稳定性，正反转电机正转带动四个转杆转动，进而带动活动板向下移动，通过四个万向轮实现将固定腔顶起，便于刻蚀机本体移动，从而使得刻蚀机本体能够根据需要实现固定与移动，且固定效果好，移动便捷。捷。捷。

【技术实现步骤摘要】
一种刻蚀机


[0001]本专利技术涉及刻蚀机
，具体涉及一种刻蚀机。

技术介绍

[0002]等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等，等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面，某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况，进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分，工件送入被真空泵抽空的反应室，气体被导入并与等离子体进行交换，等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走，等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺，近期的发展是在反应室的内部安装成搁架形式，这种设计的是富有弹性的，用户可以移去架子来配置合适的等离子体的蚀刻方法：反应性等离子体(RIE)，顺流等离子体，直接等离子体，等离子刻蚀机一般应用于半导体硅片或基片的加工，技术比较高端。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种刻蚀机，包括固定腔(1)，其特征在于：所述固定腔(1)底部贯穿连接有空心腔(2)，所述空心腔(2)内腔固定设置有正反转电机(3)，所述固定腔(1)内腔顶部设置有两个转轴(4)，所述正反转电机(3)输出轴端部与其中一个转轴(4)传动连接，两个所述转轴(4)外周面均固定设置有皮带轮(5)以及主动齿轮(6)，两个所述皮带轮(5)之间连接有传动皮带(7)，所述固定腔(1)内腔四角位置处均设置有转杆(8)，四个所述转杆(8)顶部均固定设置有从动齿轮(9)，两个所述主动齿轮(6)与对应位置的两个从动齿轮(9)之间均连接有链条(10)，所述固定腔(1)内腔设置有活动板(11)，所述活动板(11)顶部四角位置处均固定设置有套管(12)，四个所述转杆(8)分别贯穿设置在对应位置的套管(12)内，所述活动板(11)底部四角位置处均固定设置有万向轮(13)，所述固定腔(1)顶部固定设置有刻蚀机本体(14)。2.根据权利要求1所述的一种刻蚀机，其特征在于：所述固定腔(1)底部两侧均固定设置有第...

【专利技术属性】
技术研发人员：钱强，袁鸣，
申请(专利权)人：无锡芯汉电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：