一种吸盘机构及装设装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种吸盘机构及装设装置，涉及化学气相沉积设备领域，吸盘机构包括载盘吸附管、载盘吸附件、晶圆吸附管、晶圆吸附件及支撑件，载盘吸附管可转动地设于支撑件上，载盘吸附件设于载盘吸附管的一端，且与载盘吸附管连通，载盘吸附件用于吸附载盘，晶圆吸附管穿设于载盘吸附管中，晶圆吸附件设于晶圆吸附管靠近载盘吸附件的一端，且与晶圆吸附管连通，晶圆吸附件用于吸附晶圆，晶圆吸附管能够在载盘吸附管中移动，以使吸附于晶圆吸附件上的晶圆移动至吸附于载盘吸附件上的载盘上。本发明专利技术提供的吸盘机构操作简易，可实现自动化取放晶圆，提高了效率，且避免了人工操作的污染，从而提高了产能及产品的良率。提高了产能及产品的良率。提高了产能及产品的良率。

【技术实现步骤摘要】
一种吸盘机构及装设装置


[0001]本专利技术涉及化学气相沉积设备领域，尤其涉及一种吸盘机构及装设装置。

技术介绍

[0002]在化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)制备碳化硅(silicon carbide，SiC)外延片的过程中，通常将晶圆放置于载盘上，再将载盘放置于反应室中进行转动，以在晶圆上形成外延层。为了防止晶圆和载盘之间发生相对移动，晶圆和载盘表面都设计有平边，将两个平边对正，可使晶圆与载盘同步转动。目前行业内，晶圆通常采用人工的方式放置于载盘上。操作员使用真空吸盘笔，将晶圆放置于载盘上，并使晶圆和载盘上的两个平边对正。人工操作会产生一定的吸笔划痕，且可能存在晶圆和载盘的平边未对正的情况，甚至在人工误操作时，还会有晶圆掉落的风险，从而造成成本的浪费以及不良率的提高。人工放置晶圆于载盘上，还存在操作效率低下的问题，降低了生产效率，且放置的稳定性较低，有误差存在，重复性差，不利于实现全自动化生产。而且人本身就存在污染，人工操作还会带来颗粒物污染，颗粒掉落到晶圆表面上，极易增加晶圆表面的缺陷，还会造成最后外延片良品率的降低。

技术实现思路

[0003]为克服现有技术中的不足，本申请提供一种吸盘机构及装设装置。
[0004]本申请提供的一种吸盘机构，包括载盘吸附管、载盘吸附件、晶圆吸附管、晶圆吸附件及支撑件，所述载盘吸附管可转动地设于所述支撑件上，所述载盘吸附件设于所述载盘吸附管的一端，且与所述载盘吸附管连通，所述载盘吸附件用于吸附载盘，所述晶圆吸附管穿设于所述载盘吸附管中，所述晶圆吸附件设于所述晶圆吸附管靠近所述载盘吸附件的一端，且与所述晶圆吸附管连通，所述晶圆吸附件用于吸附所述晶圆，所述晶圆吸附管能够在所述载盘吸附管中移动，以使吸附于所述晶圆吸附件上的所述晶圆移动至吸附于所述载盘吸附件上的所述载盘上。
[0005]在一种可能的实施方式中，所述载盘吸附管包括吸附主体、第一管体及第二管体，所述第一管体与所述第二管体套接且设于所述吸附主体的一侧，所述吸附主体上开设有第一吸附孔及穿设孔，所述第一管体与所述第二管体之间形成第一吸附通道，所述第一管体中形成穿设通道，所述第二管体上开设有第一吸气孔，所述第一吸附孔与所述第一吸气孔通过所述第一吸附通道连通，所述穿设孔与所述穿设通道连通，所述第一吸附孔与所述载盘吸附件相连通，所述晶圆吸附管穿设于所述穿设通道及所述穿设孔中。
[0006]在一种可能的实施方式中，所述载盘吸附管还包括第一气嘴，所述第一气嘴设于所述第二管体上且与所述第一吸气孔连通，所述第一气嘴用于外接真空装置，以向所述载盘吸附管中提供真空。
[0007]在一种可能的实施方式中，所述载盘吸附件包括吸盘及第一吸附垫，所述吸盘设于所述吸附主体上，所述第一吸附垫设于所述吸盘远离所述吸附主体的一侧，所述吸盘用
于将所述载盘吸附管提供的吸附力传递至所述第一吸附垫。
[0008]在一种可能的实施方式中，所述载盘吸附件还包括定位销，所述吸盘及所述第一吸附垫上还分别开设有定位孔，所述定位销穿设于所述吸盘及所述第一吸附垫上的所述定位孔中，以将所述吸盘与所述第一吸附垫定位并固定。
[0009]在一种可能的实施方式中，所述第一吸附垫为柔性材料制成。
[0010]在一种可能的实施方式中，所述晶圆吸附管包括第三管体及第二气嘴，所述第三管体穿设于所述穿设通道及穿设孔中，所述第三管体设有第二吸附孔、第二吸附通道及第二吸气孔，所述第二气嘴设于所述第三管体上且与所述第二吸气孔连通，所述第二吸附孔开设于所述第三管体靠近所述第一吸附孔的一侧，所述晶圆吸附件设于所述第三管体靠近所述第二吸附孔的一侧，且与所述第二吸附孔连通，所述第二吸附孔与所述第二吸气孔通过所述第二吸附通道连通。
[0011]在一种可能的实施方式中，所述吸盘机构还包括导向件，所述导向件设于所述载盘吸附管与所述晶圆吸附管之间。
[0012]在一种可能的实施方式中，所述导向件包括轴承固定块及轴承，所述轴承固定块设于所述吸附主体上且位于所述穿设孔朝向所述载盘吸附件的一侧，所述轴承设于所述穿设孔中，且朝向所述穿设通道，所述轴承固定块用于将所述轴承压紧于所述穿设孔中。所述轴承外侧套设所述吸附主体，内侧套设于所述晶圆吸附管上。
[0013]本申请还提供一种装设装置，包括搬运机构、识别机构、控制机构及上述的吸盘机构，所述控制机构与所述搬运机构、所述识别机构及所述吸盘机构分别电连接。
[0014]相比现有技术，本申请的有益效果：
[0015]所述吸盘机构及装设装置，通过载盘吸附管与所述晶圆吸附管的配合，可将平边对正后的晶圆吸附于晶圆吸附件上，并移动放置于载盘吸附件吸附的载盘上，操作简易，可实现自动化取放晶圆，提高了效率，且避免了人工操作的污染，从而提高了产能及产品的良率。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0017]图1示出了本申请一实施例中所述吸盘机构的结构示意图；
[0018]图2示出了图1所示吸盘机构的剖视图；
[0019]图3示出了图1所示吸盘机构的载盘吸附管的剖视图；
[0020]图4示出了图1所示吸盘机构上放置载盘时的剖视图；
[0021]图5示出了图1所示吸盘机构吸附晶圆时的剖视图；
[0022]图6示出了图5所示吸盘机构将晶圆放置于载盘上时的剖视图。
[0023]主要元件符号说明：
[0024]100
‑
吸盘机构；10
‑
载盘吸附管；101
‑
第一吸附孔；102
‑
穿设孔；103
‑
第一吸附通道；104
‑
穿设通道；105
‑
第一吸气孔；11
‑
吸附主体；12
‑
第一管体；13
‑
第二管体；14
‑
第一气
嘴；20
‑
载盘吸附件；21
‑
吸盘；22
‑
第一吸附垫；23
‑
定位销；30
‑
晶圆吸附管；301
‑
第二吸附孔；302
‑
第二吸附通道；303
‑
第二吸气孔；31
‑
第三管体；32
‑
第二气嘴；40
‑
晶圆吸附件；50
‑
支撑件；60
‑
导向件；61
‑
轴承固定块；62
‑
轴承；200
‑
载盘；201
‑
载盘孔；300
‑
晶圆本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种吸盘机构，其特征在于，包括载盘吸附管、载盘吸附件、晶圆吸附管、晶圆吸附件及支撑件，所述载盘吸附管可转动地设于所述支撑件上，所述载盘吸附件设于所述载盘吸附管的一端，且与所述载盘吸附管连通，所述载盘吸附件用于吸附载盘，所述晶圆吸附管穿设于所述载盘吸附管中，所述晶圆吸附件设于所述晶圆吸附管靠近所述载盘吸附件的一端，且与所述晶圆吸附管连通，所述晶圆吸附件用于吸附所述晶圆，所述晶圆吸附管能够在所述载盘吸附管中移动，以使吸附于所述晶圆吸附件上的所述晶圆移动至吸附于所述载盘吸附件上的所述载盘上。2.根据权利要求1所述的吸盘机构，其特征在于，所述载盘吸附管包括吸附主体、第一管体及第二管体，所述第一管体与所述第二管体套接且设于所述吸附主体的一侧，所述吸附主体上开设有第一吸附孔及穿设孔，所述第一管体与所述第二管体之间形成第一吸附通道，所述第一管体中形成穿设通道，所述第二管体上开设有第一吸气孔，所述第一吸附孔与所述第一吸气孔通过所述第一吸附通道连通，所述穿设孔与所述穿设通道连通，所述第一吸附孔与所述载盘吸附件相连通，所述晶圆吸附管穿设于所述穿设通道及所述穿设孔中。3.根据权利要求2所述的吸盘机构，其特征在于，所述载盘吸附管还包括第一气嘴，所述第一气嘴设于所述第二管体上且与所述第一吸气孔连通，所述第一气嘴用于外接真空装置，以向所述载盘吸附管中提供真空。4.根据权利要求2所述的吸盘机构，其特征在于，所述载盘吸附件包括吸盘及第一吸附垫，所述吸盘设于所述吸附主体上，所述第一吸附垫设于所述吸盘远离所述吸附主体的一侧，所述吸盘用于将所述载盘吸附管提供的吸附力传递至所述第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：经军辉，肖蕴章，刘亮辉，陈炳安，钟国仿，
申请(专利权)人：深圳市纳设智能装备有限公司，
类型：发明
国别省市：