一种锗晶片清洗水槽制造技术

本实用新型专利技术涉及一种锗晶片清洗水槽，属于单晶片加工技术领域，包括外槽和内槽，所述内槽置于外槽内部，所述内槽包括内槽本体和内槽支架，内槽本体嵌接于内槽支架上，所述内槽本体底部开设有出水孔，顶部设置有喷淋管，侧面下部开数孔分别连接注水管和气管，所述内槽支架内设置有升降台，本实用新型专利技术通过在内槽本体底部开设出水孔与升降台相配合，实现内槽的快速排水功能，本装置将喷淋、鼓泡、注水排水功能集于一体，各功能既可单独使用也可多种功能相互配合使用，可更高效的清洗锗晶片表面残留的药物，可最大程度的节约用水。可最大程度的节约用水。可最大程度的节约用水。

【技术实现步骤摘要】
一种锗晶片清洗水槽


[0001]本技术涉及一种锗晶片抛光后清洗的水槽，属于单晶片加工


技术介绍

[0002]目前的晶片清洗主要是单片逐一手工清洗或者单片机械清洗，清洗过程较为复杂繁琐，需要大量的人力物力，且清洗效率低，稳定性也较差。因此，找到一种能够提高清洗效率以及稳定性的方法是非常迫切和重要的，清洗线的出现为解决该问题带来了希望。本技术涉及到的一种锗晶片抛光后清洗水槽，是清洗线的一个重要装置和环节，对清洗后晶片是否合格起到决定性的作用。

技术实现思路

[0003]本技术的主要目的是提供一种锗晶片抛光后清洗水槽，用于解决锗晶片清洗工艺中的喷淋、鼓泡、快速注水排水等问题。
[0004]为实现以上目的，本技术提供以下技术方案：
[0005]一种锗晶片清洗水槽，包括外槽和内槽，所述内槽置于外槽内部，所述内槽包括内槽本体和内槽支架，内槽本体嵌接于内槽支架上，所述内槽本体底部开设有出水孔，顶部设置有喷淋管，侧面下部开数孔分别连接注水管和气管，所述内槽支架内设置有升降台。
[0006]所述升降台包括气动升降本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种锗晶片清洗水槽，其特征在于，包括外槽和内槽，所述内槽置于外槽内部，所述内槽包括内槽本体和内槽支架，内槽本体嵌接于内槽支架上，所述内槽本体底部开设有出水孔，顶部设置有喷淋管，侧面下部开数孔分别连接注水管和气管，所述内槽支架内设置有升降台。2.根据权利要求1所述的一种锗晶片清洗水槽，其特征在于，所述升降台包括气动升降盖板，所述气动升降盖板下固定连接有数个气动阀。3...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨春柳，刘汉保，赵磊，郭建新，吕欣泽，
申请(专利权)人：云南中科鑫圆晶体材料有限公司，
类型：新型
国别省市：