皮膜形成用组合物、涂布该组合物的层叠体、使用该层叠体的触控面板及固化皮膜的形成方法技术

本发明专利技术提供一种皮膜形成用组合物，其在光刻法中利用时在曝光部形成的固化皮膜难以被显影液所溶解或侵蚀并且与触控面板等透光性基板、ITO电极、金属电极之间具有优异的密合性，未曝光部的未固化的皮膜即使相对于稀碱显影液也容易溶解并能快速去除，能形成适当膜厚的绝缘性皮膜。本发明专利技术涉及皮膜形成用组合物，其特征在包含具有下列通式(A)的结构的硅氧烷聚合物、具有两个以上的自由基聚合性不饱和双键的光聚合性化合物、聚合引发剂以及有机溶剂，p与q之比为1:0.8至1:2.4。其中，在下列通式(A)中，X具有下列通式(B)的结构，p和q表示整数；在下列通式(B)中，Y是具有自由基聚合性双键的一价取代基，m表示1以上且5以下的整数，n表示1以上的整数；表示1以上的整数；表示1以上的整数；

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】皮膜形成用组合物、涂布该组合物的层叠体、使用该层叠体的触控面板及固化皮膜的形成方法


[0001]本专利技术涉及皮膜形成用组合物、通过涂布该皮膜形成用组合物而成的层叠体、通过使用该层叠体而成的触控面板以及固化皮膜的形成方法。

技术介绍

[0002]在智能手机及平板型电脑PC中利用的触控面板是一种能够检测接触到面板表面的手指等的位置及动作、并可点击在显示器上对应位置显示的图标等并且施以放大或缩小、滚动画面等的装置。作为检测该触控面板的手指等的位置及动作的方法，在当前大多使用电阻膜方式以及电容方式这两种。
[0003]其中配置为：在电阻膜方式中是将因手指的按压而产生的电极层间的电压变动并且在电容方式中是将当手指接近或接触面板表面时产生的电容变化通过使用传感器部分来分别转换成电信号，由此得到手指的位置及动作的信息。而且，传感器部分由电极层及绝缘层等的组合构成。
[0004]若想要通过光刻法形成用于这样的传感器部分的绝缘层，则作为形成绝缘层的皮膜形成用组合物，在曝光部的固化后的皮膜与未曝光部的未固化的皮膜之间要求相反的性能。即，有必要在暴露于显影液时固化后的皮膜不溶解而残留而另一方面能够快速地溶解并去除未固化的皮膜这样的性能。另外，对于固化后的皮膜本身而言，即使不溶解，在皮膜与透光性基材及ITO电极之间的界面的化学性吸附力(密合性)弱小时，也会因显影液的侵蚀而引起皮膜容易剥离，因此也需要有界面的密合性。
[0005]作为皮膜形成用组合物，例如，在专利文献1中公开了一种光刻用抗蚀剂下层膜形成组合物，其中，作为硅烷化合物包含水解性(可水解的)有机硅烷、其水解产物、其水解缩合物或它们的混合物，并且该硅烷化合物含有在其分子中包含有机基团的硅烷化合物，该有机基团具有酰胺键以及羧酸部分或羧酸酯部分或者羧酸部分与羧酸酯部分两者。现有技术文献专利文献
[0006]专利文献1：国际公开第2011/105368号

技术实现思路

专利技术要解决的课题
[0007]在专利文献1中公开的光刻用抗蚀剂下层膜形成组合物中，难以说其所谓在暴露于上述显影液时使固化后的皮膜残留下来不溶解而另一方面能够快速地溶解去除未固化的皮膜这样的性质以及其与透光性基材及ITO电极之间的密合性是足够充分的，另外在使用稀碱溶液作为显影液的情况下溶解去除未固化的皮膜是困难的，因此也存在所能使用的
设备受到局限这样的技术问题(课题)，存在改善的余地。用于解决课题的手段
[0008]本专利技术人着眼于皮膜形成用组合物包含的硅氧烷聚合物进行了专心研究，结果发现如下方案能够完全解决上述的课题，从而完成了本专利技术。该方案为：作为构成上述硅氧烷聚合物的材料，通过含有特定的硅氧烷聚合物以及具有两个以上的自由基聚合性双键的光聚合性化合物、聚合引发剂及有机溶剂，所述特定的硅氧烷聚合物含有硅烷类化合物(A)以及硅烷类化合物(B)，该硅烷类化合物(A)在分子中包含具有酰胺键以及后述的羧酸部分的有机基团，该硅烷类化合物(B)具有自由基聚合性不饱和双键，并且使上述硅烷类化合物(A)与上述硅烷类化合物(B)的配合量达到规定的范围。
[0009]即，一种皮膜形成用组合物，其特征在于，所述皮膜形成用组合物包含具有下列通式(A)的结构的硅氧烷聚合物、具有两个以上的自由基聚合性不饱和双键的光聚合性化合物、聚合引发剂以及有机溶剂，p与q之比为1:0.8至1:2.4。其中，在所述通式(A)中，X具有下列通式(B)的结构，p和q表示整数；在所述通式(B)中，Y是具有自由基聚合性双键的一价取代基，m表示1以上且5以下的整数，n表示1以上的整数。另外，本专利技术优选为：作为构成上述硅氧烷聚合物的材料，还包含硅烷类化合物(C)和/或硅烷类化合物(D)，所述硅烷类化合物(C)是选自四烷氧基硅烷以及双(三烷氧基甲硅烷基)烷烃的组中的至少一种，所述硅烷类化合物(D)是选自烷基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、环烷基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷以及苯基三烷氧基硅烷的组中的至少一种。另外，本专利技术优选为：上述硅烷类化合物(C)与上述硅烷类化合物(D)的摩尔比[上述硅烷类化合物(C):上述硅烷类化合物(D)]为1:0.1至1:10。另外，本专利技术优选为：作为构成上述硅氧烷聚合物的材料，还包含在分子内具有环氧基的硅烷类化合物。另外，本专利技术还涉及一种层叠体，其特征在于，所述层叠体在基材上具有上述皮膜形成用组合物的固化皮膜。另外，本专利技术还涉及一种触控面板，其特征在于，所述触控面板通过使用层叠体而成。另外，本专利技术还涉及一种固化皮膜的形成方法，其特征在于，所述固化皮膜的形成方法包括：涂布工序，涂布上述皮膜形成用组合物；曝光工序，对曝光部照射活性能量线而形成固化皮膜；以及显影工序，对未曝光部的涂液用显影液溶解去除。
专利技术效果
[0010]对于本专利技术的皮膜形成用组合物而言，在光刻法中利用时，在曝光部形成的固化皮膜难以被显影液所溶解或侵蚀，并且与触控面板等透光性基板、ITO电极、金属电极之间具有优异的密合性，对于未曝光部的未固化的皮膜即使利用稀碱的显影液也能够容易地溶解并快速去除，并且能够形成合适膜厚的绝缘性皮膜，因此具有高显影性。另外，在本说明书中，“稀碱”的意思是指pH在10.0～12.5的范围。下面，对本专利技术的皮膜形成用组合物进行详细说明。
具体实施方式
[0011](硅氧烷聚合物)本专利技术的皮膜形成用组合物的特征在于，其包含具有下列通式(A)的结构的硅氧烷聚合物、具有两个以上的自由基聚合性不饱和双键的光聚合性化合物、聚合引发剂以及有机溶剂，p与q之比为1:0.8至1:2.4。其中，在所述通式(A)中，X具有下列通式(B)的结构，p和q表示整数；在所述通式(B)中，Y是具有自由基聚合性双键的一价取代基，m表示1以上且5以下的整数，n表示1以上的整数。
[0012]＜硅烷类化合物(A)＞在上述通式(A)中，含有结构X的单体(下面也称为硅烷类化合物(A))在分子中包含具有酰胺键以及羧酸部分的有机基团。上述在分子中包含具有酰胺键以及羧酸部分的有机基团的意思是指在硅烷分子中具有酰胺键与羧酸部分的组合(酰胺酸结构)。作为上述硅烷类化合物(A)，可以适当选择并使用国际公开第2011/105368号中公开的水解性有机硅烷及其制造方法。
[0013]在上述通式(B)中，m表示1以上且5以下的整数，n表示1以上的整数。作为上述硅烷类化合物(A)的制造方法，从适当满足上述m以及n的观点出发，使包含具有伯氨基的取代基的三烷氧基硅烷与二元酸酐之间发生反应是简便的，前述三烷氧基硅烷例如3
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氨基丙基三甲氧基硅烷、3
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氨基丙基三乙氧基硅烷、3
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(2
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氨基乙基)氨基丙基三甲氧基硅烷、3
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(2
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氨基乙基)氨基丙基三甲氧基硅烷等，前述二元酸酐例如琥珀酸酐、马来酸酐、邻苯二甲酸酐、衣康酸酐、四氢邻苯二甲酸酐等。作为上述硅烷类化合物(A)，优选将氨基丙基三乙氧基硅烷与琥珀酸酐、六氢邻苯
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种皮膜形成用组合物，其特征在于，所述皮膜形成用组合物包含具有下列通式(A)的结构的硅氧烷聚合物、具有两个以上的自由基聚合性不饱和双键的光聚合性化合物、聚合引发剂以及有机溶剂，p与q之比为1:0.8至1:2.4，其中，在所述通式(A)中，X具有下列通式(B)的结构，p和q表示整数；在所述通式(B)中，Y是具有自由基聚合性双键的一价取代基，m表示1以上且5以下的整数，n表示1以上的整数。2.如权利要求1所述的皮膜形成用组合物，其中，作为构成所述硅氧烷聚合物的材料，还包含硅烷类化合物(C)和/或硅烷类化合物(D)，所述硅烷类化合物(C)是选自四烷氧基硅烷以及双(三烷氧基甲硅烷基)烷烃的组中的至少一种，所述硅烷类化合物(D)是选自烷基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、环烷基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷以及苯基三烷氧基硅烷的组中的至少...

【专利技术属性】
技术研发人员：小仓健嗣，池堂圭祐，中野正，
申请(专利权)人：阪田油墨株式会社，
类型：发明
国别省市：