本发明专利技术提供一种聚硅氧烷类化合物，由其能够获得粘附性优异的固化皮膜，并且其显影性和光固化性优异。所述聚硅氧烷类化合物至少包含：来自选自四烷氧基硅烷和双(三烷氧基甲硅烷基)烷烃中的至少一种硅烷类化合物(A)的结构单元(A)，来自选自烷基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、环烷基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷、苯基三烷氧基硅烷中的至少一种硅烷类化合物(B)的结构单元(B)，以及来自具有自由基聚合性不饱和双键的硅烷类化合物(C)的结构单元(C)。所述聚硅氧烷类化合物的由下述式(1)算出的构成比率大于0且小于0.1，(MC)/(MA+MB)(1)。该式(1)中，MA表示所述结构单元(A)的摩尔数，MB表示所述结构单元(B)的摩尔数，MC表示所述结构单元(C)的摩尔数。示所述结构单元(C)的摩尔数。
【技术实现步骤摘要】
聚硅氧烷类化合物、皮膜形成用组合物、层叠体、触控面板以及固化皮膜的形成方法
[相关申请的相互参照]本申请主张2022年05月16日向日本特许厅提交的专利技术专利申请“日本特愿2022
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080415”的优先权，并在此将该申请所揭示的所有内容整体并入本申请的说明书中。
[0001]本专利技术涉及聚硅氧烷类化合物、皮膜形成用组合物、层叠体、触控面板以及固化皮膜的形成方法。
技术介绍
[0002]聚硅氧烷化合物被用作形成绝缘层的皮膜形成用组合物，该绝缘层用于在智能手机或平板型电脑(PC)中使用的触控面板(触摸板)、LED、半导体等电子部件的传感器部分等。
[0003]例如，在专利文献1中公开了一种白色LED密封材料用树脂组合物，其中，相对于100质量份的具有(甲基)丙烯酰基的聚硅氧烷，含有0.5～10质量份的自由基引发剂。
[0004]聚硅氧烷类化合物在预烘烤后具有粘附性，在用于触控面板等情况下，在接触式曝光时会导致基板与掩模粘附在一起，存在加工过程中的操作性差的问题。另一方面，虽然使用了为了不对基板与掩模造成损伤而设置了间隙的接近式曝光的方法，但存在因间隙而导致分辨率下降的缺点。
[0005]在专利文献1记载的方法中，上述粘附性(抑制粘附的性质)还不充分，还有进一步改善的余地。
[0006]另外，在电子部件等中使用的电极层或绝缘层的形成中，主要利用了光刻法。因此，在显影工序中，需要具有照射了活性能量射线的曝光部不被显影液除去的性质(也称为光固化性)；另一方面，遮蔽了活性能量射线的未曝光部被显影液迅速溶解、去除的性质(也称为显影性)。现有技术文献专利文献
[0007]专利文献1：日本特开2008
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131009号公报
技术实现思路
专利技术想要解决的技术问题
[0008]因此，本专利技术的目的在于提供一种聚硅氧烷类化合物，由其能够获得粘附性优异的固化皮膜，并且其显影性和光固化性优异。用于解决问题的手段
[0009]本专利技术人对聚硅氧烷类化合物进行了深入研究，结果发现，通过以规定的摩尔比具有来自特定的硅氧烷类化合物的结构单元，能够获得一种可全面解决上述技术问题的聚
硅氧烷类化合物。
[0010]即，本专利技术是一种聚硅氧烷类化合物，其至少包含结构单元(A)、结构单元(B)以及结构单元(C)；所述结构单元(A)来自硅烷类化合物(A)，所述硅烷类化合物(A)选自由四烷氧基硅烷和双(三烷氧基甲硅烷基)烷烃所构成的组中的至少一种；所述结构单元(B)来自硅烷类化合物(B)，所述硅烷类化合物(B)选自由烷基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、环烷基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷以及苯基三烷氧基硅烷所构成的组中的至少一种；所述结构单元(C)来自具有自由基聚合性不饱和双键的硅烷类化合物(C)。所述聚硅氧烷类化合物的由下述式(1)算出的构成比率大于0且小于0.1，式(1)中，MA表示结构单元(A)的摩尔数，MB表示结构单元(B)的摩尔数，MC表示结构单元(C)的摩尔数。
[0011]在本专利技术的聚硅氧烷类化合物中，上述硅烷类化合物(A)优选为四乙氧基硅烷。另外，上述硅烷类化合物(B)优选为苯基三甲氧基硅烷和/或甲基三乙氧基硅烷。另外，上述硅烷类化合物(C)优选为3
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(甲基丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷。另外，由上述式(1)算出的构成比率优选为0.03以上且0.08以下。本专利技术还涉及一种皮膜形成用组合物，其至少包含上述聚硅氧烷类化合物、光自由基聚合引发剂以及有机溶剂。在本专利技术的皮膜形成用组合物中，优选光自由基聚合引发剂包含酮肟酯基。本专利技术还涉及一种层叠体，其通过涂布上述皮膜形成用组合物而成。另外，本专利技术还涉及一种触控面板，其通过使用上述层叠体而成。再者，本专利技术还涉及一种固化皮膜的形成方法，其特征在于包括：涂布工序，涂布上述皮膜形成用组合物；曝光工序，对曝光部照射活性能量线以形成固化皮膜；以及显影工序，对未曝光部的涂液用显影液溶解去除。专利技术效果
[0012]本专利技术提供一种聚硅氧烷类化合物，由其能够获得粘附性优异的固化皮膜，并且其显影性和光固化性优异。
具体实施方式
[0013]<硅氧烷类化合物>本专利技术的聚硅氧烷类化合物至少包含结构单元(A)、结构单元(B)以及结构单元(C)；所述结构单元(A)来自硅烷类化合物(A)，所述硅烷类化合物(A)选自由四烷氧基硅烷和双(三烷氧基甲硅烷基)烷烃所构成的组中的至少一种；所述结构单元(B)来自硅烷类化合物(B)，所述硅烷类化合物(B)选自由烷基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、环烷基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷以及苯基三烷氧基硅烷所构成的组中的至少一种；所述结构单元(C)来自具有自由基聚合性不饱和双键的硅烷类化合物(C)。所述聚硅氧烷类化合物由下述式(1)算出的构成比率大于0且小于0.1，
式(1)中，MA表示结构单元(A)的摩尔数，MB表示结构单元(B)的摩尔数，MC表示结构单元(C)的摩尔数。
[0014][硅烷类化合物(A)]本专利技术的聚硅氧烷类化合物包含来自硅烷类化合物(A)的结构单元(A)，该硅烷类化合物(A)是选自四烷氧基硅烷和双(三烷氧基甲硅烷基)烷烃中的至少一种。
[0015]上述硅烷类化合物(A)是选自四烷氧基硅烷以及双(三烷氧基甲硅烷基)烷烃中的至少一种。
[0016]作为上述四烷氧基硅烷，可以举出四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四异丁氧基硅烷、乙氧基三甲氧基硅烷、二甲氧基二乙氧基硅烷、甲氧基三乙氧基硅烷等。
[0017]另外，作为上述双(三烷氧基甲硅烷基)烷烃，可以举出双(三甲氧基甲硅烷基)甲烷、双(三乙氧基甲硅烷基)甲烷、1,2
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双(三甲氧基甲硅烷基)乙烷、1,2
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双(三乙氧基甲硅烷基)乙烷等。
[0018]作为上述硅烷类化合物(A)，从通用性的角度出发，优选为四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四异丁氧基硅烷、双(三乙氧基甲硅烷基)甲烷、1,2
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双(三乙氧基甲硅烷基)乙烷，更优选为四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷，进一步优选为四乙氧基硅烷。
[0019][硅烷类化合物(B)]本专利技术的聚硅氧烷类化合物包含结构单元(B)，其中所述结构单元(B)来自硅烷类化合物(B)，所述硅烷类化合物(B)选自由烷基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、环烷基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷以及苯基三烷氧基硅烷所构成的组中的至少一种。
[0020]作为上述烷基三烷氧基硅烷，可以举出甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三正丙氧基硅烷、甲基三异丙氧基硅烷、甲基三正丁氧基硅烷、甲基三异丁氧基硅烷、甲基三仲丁氧基硅烷、甲基三叔丁氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、乙基三正丙氧基硅烷、乙基三异丙氧基硅烷、乙基三正丁氧基硅烷、乙基三异丁氧基硅本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种聚硅氧烷类化合物，其至少包含结构单元(A)、结构单元(B)以及结构单元(C)，所述结构单元(A)来自硅烷类化合物(A)，所述硅烷类化合物(A)选自由四烷氧基硅烷和双(三烷氧基甲硅烷基)烷烃所构成的组中的至少一种，所述结构单元(B)来自硅烷类化合物(B)，所述硅烷类化合物(B)选自由烷基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、环烷基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷以及苯基三烷氧基硅烷所构成的组中的至少一种，所述结构单元(C)来自具有自由基聚合性不饱和双键的硅烷类化合物(C)；所述聚硅氧烷类化合物由下述式(1)算出的构成比率大于0且小于0.1，式(1)中，MA表示所述结构单元(A)的摩尔数，MB表示所述结构单元(B)的摩尔数，MC表示所述结构单元(C)的摩尔数。2.如权利要求1所述的聚硅氧烷类化合物，其中，所述硅烷类化合物(A)是四乙氧基硅烷。3.如权利要求1或2所述的聚硅氧烷类化合物，其中，所述硅烷类化...
【专利技术属性】
技术研发人员：池堂圭祐，青柳志保，
申请(专利权)人：阪田油墨株式会社，
类型：发明
国别省市：
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