一种利用等离子体刻蚀调控有机薄膜光谱颜色的方法技术

本发明专利技术公开了一种利用等离子体刻蚀调控有机薄膜光谱颜色的方法，包括以下步骤：1)在光滑的玻璃衬底上制备第一层有机薄膜；2)利用等离子体刻蚀连续刻蚀第一层有机薄膜；刻蚀发生在有机薄膜表面，产生的气态碎片将被真空泵抽走，有机薄膜厚度逐步减小，进而改变有机薄膜的镜面反射光谱；3)通过薄膜转移或真空蒸镀手段在刻蚀后的第一层有机薄膜上制备第二层有机薄膜，并继续利用等离子体刻蚀连续刻蚀第二层有机薄膜，重复步骤3)，形成多层有机薄膜，并将有机薄膜光谱颜色调控至设定的范围。本发明专利技术基于对未来市场印刷包装及色彩识别等行业需求的预判，在未来诸多与光谱颜色相关的领域中能够得到应用，如条码印刷、无人驾驶图像识别等。别等。别等。

【技术实现步骤摘要】
Model for Inkjet Printing System and Its Application(喷墨打印系统多光谱特征化正向模型的建立).Spectroscopy and Spectral Analysis(光谱学与光谱分析),2018,38,4,1213
‑
1218.

技术实现思路

[0009]本专利技术的目的在于提供一种利用等离子体刻蚀调控有机薄膜光谱颜色的方法。
[0010]为达到上述目的，本专利技术采用如下的技术方案来实现的：
[0011]一种利用等离子体刻蚀调控有机薄膜光谱颜色的方法，包括以下步骤：
[0012]1)在光滑的衬底上制备第一层有机薄膜；
[0013]2)利用等离子体刻蚀连续刻蚀第一层有机薄膜，等离子体放电功率范围20
‑
200瓦，等离子体气压为1
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30帕斯卡；刻蚀发生在有机薄膜表面，产生的气态碎片将被抽走，有机薄膜厚度逐步减小，进而改变有机薄膜的镜面反射光谱；
[0014]3)通过薄膜转移或真空蒸镀手段在刻蚀后的第一层有机薄膜上制备第二层有机本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种利用等离子体刻蚀调控有机薄膜光谱颜色的方法，其特征在于，包括以下步骤：1)在光滑的衬底上制备第一层有机薄膜；2)利用等离子体刻蚀连续刻蚀第一层有机薄膜，等离子体放电功率范围20
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200瓦，等离子体气压为1
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30帕斯卡；刻蚀发生在有机薄膜表面，产生的气态碎片将被抽走，有机薄膜厚度逐步减小，进而改变有机薄膜的镜面反射光谱；3)通过薄膜转移或真空蒸镀手段在刻蚀后的第一层有机薄膜上制备第二层有机薄膜，并继续利用等离子体刻蚀连续刻蚀第二层有机薄膜，重复步骤3)，形成多层有机薄膜，并将有机薄膜光谱颜色调控至设定的范围。2.根据权利要求1所述的一种利用等离子体刻蚀调控有机薄膜光谱颜色的方法，其特征在于，步骤1)中，衬底为玻璃衬底。3.根据权利要求1所述的一种利用等离子体刻蚀调控有机薄膜光谱颜色的方法，其特征在于，步骤1)中，第一层有机薄膜的厚度为20
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200纳米，表面粗糙度5nm以下。4.根据权利要求1所述的一种利用等离子体刻蚀调控有机薄膜光谱颜色的方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：鲁广昊，沈子超，江以航，俞金德，朱远惟，卜腊菊，
申请(专利权)人：西安交通大学，
类型：发明
国别省市：