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本发明公开了一种利用等离子体刻蚀调控有机薄膜光谱颜色的方法，包括以下步骤：1)在光滑的玻璃衬底上制备第一层有机薄膜；2)利用等离子体刻蚀连续刻蚀第一层有机薄膜；刻蚀发生在有机薄膜表面，产生的气态碎片将被真空泵抽走，有机薄膜厚度逐步减小，进而...
该专利属于西安交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过西安交通大学授权不得商用。

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