作为对准源的激光器模块、量测系统和光刻设备技术方案

披露了一种经改善的激光器模块。该激光器模块可以包括：激光源(310)，该激光源被配置成产生激光；以及无限冲激响应滤波器，该无限冲激响应滤波器被配置成通过对激光的分量的相位进行解相关来减小所述激光的相干效应。无限冲激响应滤波器可以包括多个光学耦合器(410，420，430，440，450)，以形成分别具有不同的光学路径长度(L1，L2，L3)的多个光学传播回路。激光器模块还可以包括声光调制器，该声光调制器被布置于光学传播回路中并且被配置成使光学载波频率移位，使得激光器模块的输出具有加宽的光谱以进一步减小相干效应。光谱以进一步减小相干效应。光谱以进一步减小相干效应。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】作为对准源的激光器模块、量测系统和光刻设备
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求2019年9月17日递交的美国临时专利申请号62/901,369的优先权，该美国临时专利申请的全部内容以引用的方式并入本专利技术中。


[0003]本公开内容涉及一种激光器模块，该激光器模块用作可以在例如光刻设备中使用的量测系统中的对准源。

技术介绍

[0004]光刻设备是将期望的图案施加至衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以用于例如制造集成电路(IC)。在这种情况下，图案形成装置(该图案形成装置可替代地称作掩模或掩模版)可以用于产生对应于IC的单独的层的电路图案，并且可以将此图案成像至具有辐射敏感材料(抗蚀剂)层的衬底(例如，硅晶片)上的(例如，包括管芯的一部分、一个或若干个管芯的)目标部分上。一般而言，单个衬底将包含连续地曝光的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括：所谓的步进器，在所谓的步进器中，通过将整个图案一次曝光至目标部分上来照射每个目标部分；以及所谓的扫描仪，在扫描仪中，通过在给定方向(“扫描”方向)上经由束扫描图案的同本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种激光器模块，包括：激光源，该激光源被配置成产生激光；和无限冲激响应滤波器，该无限冲激响应滤波器被配置成对所述激光的分量的相位进行解相关，从而减小所述激光的相干效应。2.如权利要求1所述的激光器模块，其中，所述激光源被配置成产生绿色激光。3.如权利要求1所述的激光器模块，其中，所述无限冲激响应滤波器包括多个光学耦合器，以形成具有不同的光学路径长度的多个光学传播回路。4.如权利要求3所述的激光器模块，其中，所述多个光学传播回路包括：第一光学传播回路，该第一光学传播回路具有第一光纤，该第一光纤具有第一光纤长度；第二光学传播回路，该第二光学传播回路具有第二光纤，该第二光纤具有第二光纤长度；和第三光学传播回路，该第三光学传播回路具有第三光纤，该第三光纤具有第三光纤长度；其中，所述第一光纤长度、所述第二光纤长度和所述第三光纤长度大于所述激光的相干长度。5.如权利要求4所述的激光器模块，其中：所述第一光纤长度与所述第二光纤长度之间的差的绝对值大于所述激光的所述相干长度。6.如权利要求4所述的激光器模块，其中：所述第一光纤长度和所述第二光纤长度的总和与所述第三光纤长度之间的差的绝对值大于所述激光的所述相干长度。7.如权利要求4所述的激光器模块，其中：所述三个光纤长度中的任何两个光纤长度的任意整数倍的总和不是所述三个光纤长度中的另一个光纤长度的整数倍。8.如权利要求4所述的激光器模块，其中，所述第一光纤长度、所述第二光纤长度和所述第三光纤长度的组合是以下各项中的一个：所述第一光纤长度为1.17m，所述第二光纤长度为2.63m并且所述第三光纤长度为4.47m；所述第一光纤长度为1.31m，所述第二光纤长度为2.57m并且所述第三光纤长度为4.49m；所述第一光纤长度为1.67m，所述第二光纤长度为2.77m并且所述第三光纤长度为4.57m；或者所述第一光纤长度为1.79m，所述第二光纤长度为3.73m并且所述第三光纤长度为5.93m。9.如权利要求3所述的激光器模块，还包括声光调制器，该声光调制...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：