一种钕铁硼磁体的表面镀层工艺制造技术

本发明专利技术涉及钕铁硼磁体技术领域，尤其涉及一种钕铁硼磁体的表面镀层工艺，包括以下步骤：S1、打磨；S2、除油清洗；S3、酸洗；S4、表调处理；S5、活化处理；S6、电镀镍处理：电镀液包括以下组分：硫酸镍100～110g/L、氯化镍60～80g/L、硫酸钠20～50g/L、硼酸40～60g/L、十二烷基硫酸钠0.05～0.1g/L；且电镀液的pH值为4.0～5.0，电镀处理的时间为30～60min，温度为60～65℃，电流密度为0.5～0.6A/dm2，镀层厚度为2～6微米；S7、化学镀镍钨磷合金处理；S8、固化处理，该镀层工艺操作简便，镀层过程中，所用的试剂对环境危害小，复合镀层对磁体的热减磁率几乎没有影响，且复合镀层与基体的结合力非常好，不容易脱落，钕铁硼磁体的耐腐蚀性有很大提高。提高。

【技术实现步骤摘要】
一种钕铁硼磁体的表面镀层工艺


[0001]本专利技术涉及钕铁硼磁体
，尤其涉及一种钕铁硼磁体的表面镀层工艺。

技术介绍

[0002]新型钕铁硼磁体是第三代稀土材料，通常由Nd2Fe
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B主相及晶界处的富钕相组成，是一种磁性功能材料，其耐蚀性差且磁性结构易受温度影响。采用复合镀层工艺的方式可以在钕铁硼磁体表面形成防腐蚀性能优良，且对磁体热减磁影响非常小的镀层。
[0003]目前钕铁硼磁体普遍采用镀层种类为镀锌、镀双镍、镀镍铜镍、镀铝、镀环氧。虽各有优点，但也各有不足。其中镀双镍和镀镍铜镍对磁体的热减磁率影响较大(尤其是手机零部件，尺寸规格较小的产品)，镀锌、镀铝和环氧的镀层较软耐磨性较差；当产品需要有很好的耐磨性，同时又要热减磁率很低时，现有的镀层一般很难满足。
[0004]因此，我们提出了一种钕铁硼磁体的表面镀层工艺用于解决上述问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种钕铁硼磁体的表面镀层工艺。
[0006]一种钕铁硼磁体的表面镀层工艺，包括以下步骤：
[0007]S1、打磨：先用粗砂纸除去钕铁硼磁体表面的覆盖物，再用金相砂纸打磨钕铁硼磁体表面至光滑；
[0008]S2、除油清洗：将打磨后的钕铁硼磁体置入除油液中，超声清洗10～15min，超声清洗完毕后，用清水漂净；
[0009]S3、酸洗：将除油清洗后的钕铁硼磁体置入酸液中，超声清洗5～10min，超声清洗完毕后，用清水漂净，晾干；
[0010]S4、表调处理：将酸洗晾干后的钕铁硼磁体置入表调液中，浸泡30～60s，完毕后晾干；
[0011]S5、活化处理：将表调处理后的钕铁硼磁体置入活化液中，60～80℃的温度下，浸泡40～60min，浸泡完毕后，取出后使用水和乙醇的混合溶液进行清洗，完毕后晾干；
[0012]S6、电镀镍处理：电镀液包括以下组分：硫酸镍100～110g/L、氯化镍60～80g/L、硫酸钠20～50g/L、硼酸40～60g/L、十二烷基硫酸钠0.05～0.1g/L；且电镀液的pH值为4.0～5.0，电镀处理的时间为30～60min，温度为60～65℃，电流密度为0.5～0.6A/dm2，镀层厚度为2～6微米；
[0013]S7、化学镀镍钨磷合金处理：化学镀液包括以下组分：硫酸镍9～15g/L、钨酸钠12～22g/L、柠檬酸三钠10～15g/L、硫酸铵20～25g/L、次磷酸钠15～25g/L、硫脲6
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‑5g/L、乳酸5～8g/L；且化学镀液的pH值为7.5～8.5，温度为80～90℃，镀层厚度为2～6微米；
[0014]S8、固化处理：将化学镀镍钨磷合金处理后的钕铁硼磁体置入烘箱中120～140℃处理40～60min。
[0015]优选的，所述除油液包括以下组分：十二水磷酸三钠80～90g/L、碳酸钠60～65g/L、氢氧化钠8～12g/L、OP
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10乳化剂0.5g/L、柠檬酸30～40g/L和余量的水。
[0016]优选的，所述酸液包括以下组分：硝酸12～18g/L、柠檬酸20～25g/L和余量的水。
[0017]优选的，所述表调液包括以下组分：草酸35～45g/L，氟化钙30～50g/L和余量的水。
[0018]优选的，所述活化液包括以下组分：水溶性钌盐0.2～0.6g/L、盐酸2.5～4g/L、硼酸25～35g/L、偏磷酸钠2～3g/L和余量的水。
[0019]优选的，所述S5中，水和乙醇的质量比为1：(0.5～3)。
[0020]优选的，所述S8中，固化处理过程中，向烘箱中通入氮气或者氩气。
[0021]本专利技术的有益效果是：该镀层工艺操作简便，镀层过程中，所用的试剂对环境危害小，复合镀层对磁体的热减磁率几乎没有影响，且复合镀层与基体的结合力非常好，不容易脱落，钕铁硼磁体的耐腐蚀性有很大提高。
具体实施方式
[0022]下面结合具体实施例对本专利技术作进一步解说。
[0023]实施例1中，一种钕铁硼磁体的表面镀层工艺，包括以下步骤：
[0024]S1、打磨：先用粗砂纸除去钕铁硼磁体表面的覆盖物，再用金相砂纸打磨钕铁硼磁体表面至光滑；
[0025]S2、除油清洗：将打磨后的钕铁硼磁体置入除油液中，超声清洗10min，超声清洗完毕后，用清水漂净；
[0026]S3、酸洗：将除油清洗后的钕铁硼磁体置入酸液中，超声清洗5min，超声清洗完毕后，用清水漂净，晾干；
[0027]S4、表调处理：将酸洗晾干后的钕铁硼磁体置入表调液中，浸泡30s，完毕后晾干；
[0028]S5、活化处理：将表调处理后的钕铁硼磁体置入活化液中，60℃的温度下，浸泡40min，浸泡完毕后，取出后使用水和乙醇的混合溶液进行清洗，完毕后晾干；
[0029]S6、电镀镍处理：电镀液包括以下组分：硫酸镍100g/L、氯化镍60g/L、硫酸钠20g/L、硼酸40g/L、十二烷基硫酸钠0.05g/L；且电镀液的pH值为4.0，电镀处理的时间为30min，温度为60℃，电流密度为0.5A/dm2，镀层厚度为2微米；
[0030]S7、化学镀镍钨磷合金处理：化学镀液包括以下组分：硫酸镍9g/L、钨酸钠12g/L、柠檬酸三钠10g/L、硫酸铵20g/L、次磷酸钠15g/L、硫脲6
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‑5g/L、乳酸5g/L；且化学镀液的pH值为7.5，温度为80℃，镀层厚度为2微米；
[0031]S8、固化处理：将化学镀镍钨磷合金处理后的钕铁硼磁体置入烘箱中120℃处理40min。
[0032]进一步的，除油液包括以下组分：十二水磷酸三钠80g/L、碳酸钠60g/L、氢氧化钠8g/L、OP
‑
10乳化剂0.5g/L、柠檬酸30g/L和余量的水。
[0033]进一步的，酸液包括以下组分：硝酸12g/L、柠檬酸20g/L和余量的水。
[0034]进一步的，表调液包括以下组分：草酸35g/L，氟化钙30g/L和余量的水。
[0035]进一步的，活化液包括以下组分：水溶性钌盐0.2g/L、盐酸2.5g/L、硼酸25g/L、偏磷酸钠2g/L和余量的水。
[0036]进一步的，S5中，水和乙醇的质量比为1：0.5。
[0037]进一步的，S8中，固化处理过程中，向烘箱中通入氮气或者氩气。
[0038]实施例2中，一种钕铁硼磁体的表面镀层工艺，包括以下步骤：
[0039]S1、打磨：先用粗砂纸除去钕铁硼磁体表面的覆盖物，再用金相砂纸打磨钕铁硼磁体表面至光滑；
[0040]S2、除油清洗：将打磨后的钕铁硼磁体置入除油液中，超声清洗15min，超声清洗完毕后，用清水漂净；
[0041]S3、酸洗：将除油清洗后的钕铁硼磁体置入酸液中，超声清洗10min，超声清洗完毕后，用本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种钕铁硼磁体的表面镀层工艺，其特征在于，包括以下步骤：S1、打磨：先用粗砂纸除去钕铁硼磁体表面的覆盖物，再用金相砂纸打磨钕铁硼磁体表面至光滑；S2、除油清洗：将打磨后的钕铁硼磁体置入除油液中，超声清洗10～15min，超声清洗完毕后，用清水漂净；S3、酸洗：将除油清洗后的钕铁硼磁体置入酸液中，超声清洗5～10min，超声清洗完毕后，用清水漂净，晾干；S4、表调处理：将酸洗晾干后的钕铁硼磁体置入表调液中，浸泡30～60s，完毕后晾干；S5、活化处理：将表调处理后的钕铁硼磁体置入活化液中，60～80℃的温度下，浸泡40～60min，浸泡完毕后，取出后使用水和乙醇的混合溶液进行清洗，完毕后晾干；S6、电镀镍处理：电镀液包括以下组分：硫酸镍100～110g/L、氯化镍60～80g/L、硫酸钠20～50g/L、硼酸40～60g/L、十二烷基硫酸钠0.05～0.1g/L；且电镀液的pH值为4.0～5.0，电镀处理的时间为30～60min，温度为60～65℃，电流密度为0.5～0.6A/dm2，镀层厚度为2～6微米；S7、化学镀镍钨磷合金处理：化学镀液包括以下组分：硫酸镍9～15g/L、钨酸钠12～22g/L、柠檬酸三钠10～15g/L、硫酸铵20～25g/L、次磷酸钠15～25g/L、硫脲6
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‑5g/L、乳酸5～8g/L...

【专利技术属性】
技术研发人员：林建强，贺琦军，
申请(专利权)人：宁波招宝磁业有限公司，
类型：发明
国别省市：