本发明专利技术公开了一种钕铁硼铸片溅射加工方法，包括：SS01、放置间隙初始状态下，首先将圆柱形结构的铸片置于放置间隙内；SS02、溅射机构对铸片的上部端面进行进行溅射加工，此时，可通过第一料辊转动，使铸片周侧端面均可受到溅射机构的直射加工；SS03、通过第一推杆伸长驱动第一支架以转轴A正向转动，此时，放置间隙前端降低、尾端升高，铸片的尾部端面漏出与溅射机构相对，即可受到溅射机构的加工；SS04、通过第一推杆回缩驱动第一支架以转轴A反向转动，此时，放置间隙前端升高、尾端降低，铸片的前部端面漏出与溅射机构相对，即可受到溅射机构的加工；SS05、将溅射完成后的铸片在放置间隙内静置，待溅射的材料与端面有效的结合即可取出铸片，本发明专利技术涉及钕铁硼铸片加工技术领域。域。域。
【技术实现步骤摘要】
一种钕铁硼铸片溅射加工方法
[0001]本专利技术涉及钕铁硼铸片加工
，更确切地说涉及一种钕铁硼铸片溅射加工方法。
技术介绍
[0002]钕铁硼作为稀土永磁材料，其优点是性价比高，体积小，重量轻，良好的机械特性和磁性强，具有极高的磁能积和矫顽力，在磁学界被誉为磁王，广泛应用于电子、电力机械、医疗器械、玩具、包装、五金机械、航天航空等领域，较常见的有永磁电机、扬声器、磁选机、计算机磁盘驱动器、磁共振成像设备仪表等。
[0003]目前在钕铁硼铸片加工过程中需要对钕铁硼铸片镀膜以提升抗矫顽力，镀膜的方式一般采用PVD镀膜的方式。
[0004]其中PVD镀膜为物理气相沉积：指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能。PVD基本方法：真空蒸发、溅射、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)，钕铁硼在进行PVD镀膜时(即为表面晶界)，都是通过真空离子镀膜机进行镀膜；
[0005]但现有的镀膜机都是将多个钕铁硼铸片挂在挂杆表面设置的挂钩上，钕铁硼铸片挂接于挂钩上时，钕铁硼铸片的挂接区域不能有效的被镀膜，需要进行后续二次加工，或者跟换相匹配的夹持机构进行夹持，若采用夹持机构，夹持机构与钕铁硼铸片还是会存在接触面，接触面虽然较小，但还是需要后续二次镀膜加工；
[0006]另外现有的钕铁硼铸片镀膜时，钕铁硼铸片与溅射机构相对的面被镀膜效果较好，不相对的面镀膜效果较差，镀膜均匀性不能满足实际需求。
技术实现思路
[0007]针对现有技术的不足和缺陷，提供一种钕铁硼铸片溅射加工方法，包括真空箱，所述真空箱内设置有溅射机构，以及放置架，
[0008]所述放置架包括两个相对设置的第一料辊，两个第一料辊之间设置有放置间隙，放置间隙位于溅射机构的下方；
[0009]所述第一料辊分别连接有第一支架，所述第一支架铰接于第二支架上，并且第一支架与第二支架之间设置有第一推杆，所述第一推杆驱动第一支架以铰接处为转轴A进行转动；
[0010]所述放置间隙具有初始位置状态，初始位置状态下，所述放置间隙的轴线B呈水平设置；
[0011]所述第一推杆伸长驱动第一支架以转轴A正向转动，第一支架正向转动带动第一料辊正向转动，放置间隙的轴线B径向倾斜，放置间隙前端降低、尾端升高，以带动铸片的尾
部端面漏出与溅射机构相对；
[0012]所述第一推杆回缩驱动第一支架以转轴A反向转动，第一支架反向转动带动第一料辊反向转动，放置间隙的轴线B径向倾斜，放置间隙前端升高、尾端降低，以带动铸片的前部端面漏出与溅射机构相对；
[0013]SS01、放置间隙初始状态下，首先将圆柱形结构的铸片置于放置间隙内；
[0014]SS02、溅射机构对铸片的上部端面进行进行溅射加工，此时，可通过第一料辊转动，使铸片周侧端面均可受到溅射机构的直射加工；
[0015]SS03、通过第一推杆伸长驱动第一支架以转轴A正向转动，此时，放置间隙前端降低、尾端升高，铸片的尾部端面漏出与溅射机构相对，即可受到溅射机构的加工；
[0016]SS04、通过第一推杆回缩驱动第一支架以转轴A反向转动，此时，放置间隙前端升高、尾端降低，铸片的前部端面漏出与溅射机构相对，即可受到溅射机构的加工；
[0017]SS05、将溅射完成后的铸片在放置间隙内静置，待溅射的材料与端面有效的结合即可取出铸片。
[0018]采用以上结构后，本专利技术的一种钕铁硼铸片溅射加工方法，与现有技术相比，具有以下优点：在放置间隙的轴线B为水平状态时，将待加工的铸片置于放置间隙内，通过溅射机构对铸片的上端面溅射加工；
[0019]进一步的，通过第一推杆伸长驱动第一支架以转轴A正向转动，此时，放置间隙前端降低、尾端升高，铸片的尾部端面漏出与溅射机构相对，即可受到溅射机构的加工；
[0020]通过第一推杆回缩驱动第一支架以转轴A反向转动，此时，放置间隙前端升高、尾端降低，铸片的前部端面漏出与溅射机构相对，即可受到溅射机构的加工；
[0021]上述改进后，使铸片的周侧以及端面，较多的面积受到溅射机构的加工，缩减额外加工步骤，优化的工作流程；一次加工流程即可完成整个表面的溅射加工。
[0022]作为本专利技术的一种改进，所述第一支架上设置有第三支架，所述第三支架内端转动连接于第一支架的上端，所述第三支架上设置有第二料辊，并且第二料辊与第一料辊轴线平行的设置；
[0023]两个所述第三支架向内侧收拢的转动，带动第二料辊逐渐贴近放置间隙中心位置，两个所述第三支架向外侧展开的转动，带动第二料辊逐渐远离放置间隙中心位置；
[0024]在放置间隙上方设置有第三料辊，所述第三料辊连接有Y轴移动机构，所述Y轴移动机构驱动第三料辊竖向的朝向放置间隙移动、或者竖向的远离放置间隙的移动；
[0025]若待加工的铸片为瓦片形结构，则：
[0026]SS01、放置间隙初始状态下，首先将瓦片形结构的铸片置于放置间隙内，并且铸片的内环面朝向溅射机构；
[0027]SS02、溅射机构对铸片的内环面进行溅射加工，此时，可通过第一料辊转动，以调整铸片的内环的中心与溅射装置输出端之间的角度，使内环面较多区域都可以受到溅射机构的直射加工；
[0028]SS03、通过第一推杆伸长驱动第一支架以转轴A正向转动，此时，放置间隙前端降低、尾端升高，铸片的尾部端面漏出与溅射机构相对，即可受到溅射机构的加工；
[0029]SS04、通过第一推杆回缩驱动第一支架以转轴A反向转动，此时，放置间隙前端升高、尾端降低，铸片的前部端面漏出与溅射机构相对，即可受到溅射机构的加工；
[0030]SS05、待铸片的两个端面以及内环面加工完成后，此时，将铸片静置与放置间隙内，待溅射的材料与端面有效的结合；
[0031]SS06、第三料辊向下移动进入铸片的内环，并与内环壁面抵紧；
[0032]SS07、将两个第三支架向内侧收拢转动，此时第二料辊位于第一料辊的上方，并且第二料辊与第三料辊之间形成通过间隙，第三料辊转动对铸片施加作用力驱使铸片一端进入间隙内，并逐渐的转动至铸片位于第三料辊的上方，此时铸片的内环面向下；
[0033]SS08、驱动第三料辊竖向下降，铸片的周侧端部搭接于第一料辊上，将两个第三支架向外侧展开的转动，铸片外环面向上的漏出，溅射机构对铸片的外环面进行溅射加工；
[0034]上述步骤完成后，即可完成瓦片形结构铸片的整个外壁面的溅射加工。
[0035]作为本专利技术的一种改进，所述第二料辊连接有压紧机构，所述压紧机构包括第二推杆、第三推杆，所述第二推杆的固定端与第三支架的内端铰接，输出端指向第三支架的外端，并与第二料辊的转轴铰接；
[0036]所述第三推杆的固定端铰接于第三支架的尾端本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种钕铁硼铸片溅射加工方法，其特征在于：包括真空箱(1)，所述真空箱(1)内设置有溅射机构(1.1)，以及放置架，所述放置架包括两个相对设置的第一料辊(2)，两个第一料辊(2)之间设置有放置间隙(2.1)，放置间隙(2.1)位于溅射机构(1.1)的下方；所述第一料辊(2)分别连接有第一支架(3)，所述第一支架(3)铰接于第二支架(4)上，并且第一支架(3)与第二支架(4)之间设置有第一推杆(5)，所述第一推杆(5)驱动第一支架(3)以铰接处为转轴A进行转动；所述放置间隙(2.1)具有初始位置状态，初始位置状态下，所述放置间隙(2.1)的轴线B呈水平设置；所述第一推杆(5)伸长驱动第一支架(3)以转轴A正向转动，第一支架(3)正向转动带动第一料辊(2)正向转动，放置间隙(2.1)的轴线B径向倾斜，放置间隙(2.1)前端降低、尾端升高，以带动铸片(12)的尾部端面漏出与溅射机构(1.1)相对；所述第一推杆(5)回缩驱动第一支架(3)以转轴A反向转动，第一支架(3)反向转动带动第一料辊(2)反向转动，放置间隙(2.1)的轴线B径向倾斜，放置间隙(2.1)前端升高、尾端降低，以带动铸片(12)的前部端面漏出与溅射机构(1.1)相对；SS01、放置间隙(2.1)初始状态下，首先将圆柱形结构的铸片(12)置于放置间隙(2.1)内；SS02、溅射机构(1.1)对铸片(12)的上部端面进行进行溅射加工，此时，可通过第一料辊(2)转动，使铸片(12)周侧端面均可受到溅射机构(1.1)的直射加工；SS03、通过第一推杆(5)伸长驱动第一支架(3)以转轴A正向转动，此时，放置间隙(2.1)前端降低、尾端升高，铸片(12)的尾部端面漏出与溅射机构(1.1)相对，即可受到溅射机构(1.1)的加工；SS04、通过第一推杆(5)回缩驱动第一支架(3)以转轴A反向转动，此时，放置间隙(2.1)前端升高、尾端降低，铸片(12)的前部端面漏出与溅射机构(1.1)相对，即可受到溅射机构(1.1)的加工；SS05、将溅射完成后的铸片(12)在放置间隙(2.1)内静置，待溅射的材料与端面有效的结合即可取出铸片(12)。2.根据权利要求1所述的一种钕铁硼铸片(12)溅射加工方法，其特征在于：所述第一支架(3)上设置有第三支架(6)，所述第三支架(6)内端转动连接于第一支架(3)的上端，所述第三支架(6)上设置有第二料辊(6.1)，并且第二料辊(6.1)与第一料辊(2)轴线平行的设置；两个所述第三支架(6)向内侧收拢的转动，带动第二料辊(6.1)逐渐贴近放置间隙(2.1)中心位置，两个所述第三支架(6)向外侧展开的转动，带动第二料辊(6.1)逐渐远离放置间隙(2.1)中心位置；在放置间隙(2.1)上方设置有第三料辊(7)，所述第三料辊(7)连接有Y轴移动机构(7.1)，所述Y轴移动机构(7.1)驱动第三料辊(7)竖向的朝向...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈威，贺琦军，林建强，程俊岗，韩培松，熊军，刘少艮，程俊峰，
申请(专利权)人：宁波招宝磁业有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。